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公开(公告)号：CN101960342B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200980107442.3
申请日：2009-03-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供一种偏振元件，其利用金属片的等离子体共振频率根据照射于该金属片的光的偏振方向不同的性质，并通过设为由如下金属片的聚集体构成的偏振器来实现，该金属片为如下：该金属片的预定方向上的等离子体共振频率与照射于该偏振元件的光的频率大致相同，并且构成该金属片的金属的该等离子体共振频率中的介电常数的实部(ε′)、介电常数的虚部(ε″)、及该电介质层的折射率(na)具有成为{(ε′-na2)2+ε″2}≥80·na·ε″的关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101960342A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980107442.3
申请日：2009-03-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供一种偏振元件，其利用金属片的等离子体共振频率根据照射于该金属片的光的偏振方向不同的性质，并通过设为由如下金属片的聚集体构成的偏振器来实现，该金属片为如下：该金属片的预定方向上的等离子体共振频率与照射于该偏振元件的光的频率大致相同，并且构成该金属片的金属的该等离子体共振频率中的介电常数的实部(ε′)、介电常数的虚部(ε″)、及该电介质层的折射率(na)具有成为{(ε′-na2)2+ε″2}≥80·na·ε″的关系。
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公开(公告)号：CN100537053C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200410011872.4
申请日：2004-09-24
Applicant: HOYA株式会社
IPC: B05D1/40 , B05D3/00 , G03F1/14 , G03F1/08 , H01L21/027
Abstract: 一种掩膜坯的制造方法，该方法包括保护膜形成(抗蚀剂涂覆)过程，该过程将包含抗蚀材料和溶剂的抗蚀溶液分配到方形衬底上，旋转衬底以能在衬底上散布分配过的抗蚀溶液，并干燥散布在衬底上的抗蚀溶液，由此在衬底上形成保护膜。在保护膜形成(抗蚀剂涂覆)过程中旋转衬底时，排气件执行排气操作，以能沿着衬底的上表面从衬底的中心到衬底的外周缘部产生气流，以便能够抑制通过旋转衬底在衬底的外周缘部形成的抗蚀溶液的浆液移向衬底的中心。
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公开(公告)号：CN1605397A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410011872.4
申请日：2004-09-24
Applicant: HOYA株式会社
IPC: B05D1/40 , B05D3/00 , G03F1/14 , G03F1/08 , H01L21/027
Abstract: 一种掩膜坯的制造方法，该方法包括保护膜形成过程，该过程将包含抗蚀材料和溶剂的抗蚀溶液分配到方形衬底上，旋转衬底以能在衬底上散布分配过的抗蚀溶液，并干燥散布在衬底上的抗蚀溶液，由此在衬底上形成包括抗蚀材料的保护膜。在保护膜形成过程中旋转衬底时，排气件执行排气操作，以能沿着衬底的上表面从衬底的中心到衬底的外周缘部产生气流，以便能够抑制通过旋转衬底在衬底的外周缘部形成的抗蚀溶液的浆液移向衬底的中心。
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公开(公告)号：CN1983028B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200610172701.9
申请日：2004-09-24
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 一种具有衬底的掩膜坯，包括：衬底为6英寸×6英寸衬底尺寸的方形衬底；在衬底上形成以能变成变换为目标的变换图案的薄膜；和在薄膜上形成的保护膜；其中通过涂覆抗蚀溶液形成所述保护膜，并且涂覆抗蚀溶液时抗蚀溶液具有在10mPa·s以下的粘度；形成主图案的关键区域为所述衬底中心的132mm×132mm的方形区域；在辅助图案形成区域中保护膜的最大厚度和关键区中保护膜的平均厚度之间的差值不大于该平均厚度的一半，辅助图案形成区域环绕关键区。在保护膜形成(抗蚀剂涂覆)过程中旋转衬底时，排气件执行排气操作，以能沿着衬底的上表面从衬底的中心到衬底的外周缘部产生气流，以便能够抑制通过旋转衬底在衬底的外周缘部形成的抗蚀溶液的浆液移向衬底的中心。
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公开(公告)号：CN1983028A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200610172701.9
申请日：2004-09-24
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 一种具有衬底的掩膜坯，包括：在衬底上形成以能变成变换为目标的变换图案的薄膜；和在薄膜上形成的保护膜。其中在辅助图案形成区域中保护膜的最大厚度和关键区中保护膜的平均厚度之间的差值不大于该平均厚度的一半，辅助图案形成区域环绕形成主图案的关键区。在保护膜形成(抗蚀剂涂覆)过程中旋转衬底时，排气件执行排气操作，以能沿着衬底的上表面从衬底的中心到衬底的外周缘部产生气流，以便能够抑制通过旋转衬底在衬底的外周缘部形成的抗蚀溶液的浆液移向衬底的中心。
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