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公开(公告)号：CN101809499A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880108918.0
申请日：2008-09-26
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/08 , B29C59/02 , B81C5/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B81C99/009 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供一种使用掩模坯体而形成有高精度细微图案的压印用模具的制造方法。在透光性基板上具有用于形成图案的薄膜的掩模坯体中，薄膜由上层和下层构成，上层由包含铬(Cr)和氮的材料形成，下层由包含以钽(Ta)为主要成分的化合物，并且能够通过使用了氯系气体的干蚀刻处理进行蚀刻加工的材料形成。通过使用了实质上不包含氧的氯系气体的干蚀刻处理对薄膜的上层和下层进行蚀刻加工，接着通过使用了氟系气体的干蚀刻处理对基板进行蚀刻加工，由此得到压印用模具。
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公开(公告)号：CN101809499B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN200880108918.0
申请日：2008-09-26
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/80 , B29C59/02 , B81C99/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B81C99/009 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供一种使用掩模坯体而形成有高精度细微图案的压印用模具的制造方法。在透光性基板上具有用于形成图案的薄膜的掩模坯体中，薄膜由上层和下层构成，上层由包含铬(Cr)和氮的材料形成，下层由包含以钽(Ta)为主要成分的化合物，并且能够通过使用了氯系气体的干蚀刻处理进行蚀刻加工的材料形成。通过使用了实质上不包含氧的氯系气体的干蚀刻处理对薄膜的上层和下层进行蚀刻加工，接着通过使用了氟系气体的干蚀刻处理对基板进行蚀刻加工，由此得到压印用模具。
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公开(公告)号：CN101960342B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200980107442.3
申请日：2009-03-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供一种偏振元件，其利用金属片的等离子体共振频率根据照射于该金属片的光的偏振方向不同的性质，并通过设为由如下金属片的聚集体构成的偏振器来实现，该金属片为如下：该金属片的预定方向上的等离子体共振频率与照射于该偏振元件的光的频率大致相同，并且构成该金属片的金属的该等离子体共振频率中的介电常数的实部(ε′)、介电常数的虚部(ε″)、及该电介质层的折射率(na)具有成为{(ε′-na2)2+ε″2}≥80·na·ε″的关系。
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公开(公告)号：CN101960342A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980107442.3
申请日：2009-03-16
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供一种偏振元件，其利用金属片的等离子体共振频率根据照射于该金属片的光的偏振方向不同的性质，并通过设为由如下金属片的聚集体构成的偏振器来实现，该金属片为如下：该金属片的预定方向上的等离子体共振频率与照射于该偏振元件的光的频率大致相同，并且构成该金属片的金属的该等离子体共振频率中的介电常数的实部(ε′)、介电常数的虚部(ε″)、及该电介质层的折射率(na)具有成为{(ε′-na2)2+ε″2}≥80·na·ε″的关系。
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