Patent search ap:("HOYA株式会社") AND inv:"尾上贵弘" Page 1

1.

发明公开
带多层反射膜的基板、反射型掩模坯料、反射型掩模及制造方法、及半导体装置制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN112666788A

公开(公告)日：2021-04-16

申请号：CN202011059191.0

申请日：2020-09-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃木宏太 , 尾上贵弘

IPC: G03F1/24 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F1/60 , H01L21/027 , H01L21/033

Abstract: 本发明的课题在于提供用于制造具有对蚀刻气体的耐性高、相对于清洗的耐性高的保护膜的反射型掩模的带多层反射膜的基板。为此，本发明的带多层反射膜的基板具有基板、设置于该基板上的多层反射膜、以及设置于该多层反射膜上的保护膜，其中，上述保护膜含有钌(Ru)、并含有选自铝(Al)、钇(Y)、锆(Zr)、铑(Rh)及铪(Hf)中的至少一种添加材料，上述添加材料的含量为5原子％以上且小于50原子％。

Patent Agency Ranking