公开(公告)号：CN101846877A

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN201010203212.1

申请日：2005-09-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃木修 ,  赤川裕之 ,  田边胜 ,  川口厚 ,  石桥直纯

IPC: G03F1/14

CPC classification number: G03F1/60 ,  G03F1/50 ,  Y10T428/31616

Abstract: 本发明提供一种掩模板制造方法、一种掩模制造方法、一种掩模板透明基片制造方法。通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。

公开(公告)号：CN101846877B

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201010203212.1

申请日：2005-09-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃木修 ,  赤川裕之 ,  田边胜 ,  川口厚 ,  石桥直纯

IPC: G03F1/60

CPC classification number: G03F1/60 ,  G03F1/50 ,  Y10T428/31616

Abstract: 本发明提供一种掩模板制造方法、一种掩模制造方法、一种掩模板透明基片制造方法。通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。

公开(公告)号：CN1749851B

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：CN200510103988.5

申请日：2005-09-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃木修 ,  赤川裕之 ,  田边胜 ,  川口厚 ,  石桥直纯

IPC: G03F1/00 ,  G03F1/08 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/60 ,  G03F1/50 ,  Y10T428/31616

Abstract: 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。

公开(公告)号：CN1749851A

公开(公告)日：2006-03-22

申请号：CN200510103988.5

申请日：2005-09-16

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 铃木修 ,  赤川裕之 ,  田边胜 ,  川口厚 ,  石桥直纯

IPC: G03F1/00 ,  G03F1/08 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/60 ,  G03F1/50 ,  Y10T428/31616

Abstract: 一种掩模板制造部分通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时，掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息(透射率差异)和掩模板的光学特性信息(透射率差异和/或相差差异)。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。