利用结构化光学元件和聚焦光束的激光刻图

    公开(公告)号:CN102656421A

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN201080056720.X

    申请日:2010-12-16

    CPC classification number: B23K26/066 B23K26/082

    Abstract: 本发明中不同的实施例提供了利用结构化光学元件和聚焦光束的激光刻图。在一些实施例中,结构化光学元件可被一体形成在单个基片上。在一些实施例中,多个光学部件可被组合在光学路径中以提供希望的图案。在至少一个实施例中,结合投影掩膜的受控运动、物体的受控运动和激光束的受控运动,投影掩膜被用于控制物体对激光输出的曝光。在一些实施例中,投影掩膜被用于控制物体的曝光,并且投影掩膜可吸收、散射、反射或衰减激光输出。在一些实施例中,投影掩膜可包括光学元件,所述光学元件在投影掩膜的区域上改变光功率和传输激光束的偏振。

    用于高对比度光信号的装置和示例性应用

    公开(公告)号:CN103843057A

    公开(公告)日:2014-06-04

    申请号:CN201280045642.2

    申请日:2012-10-10

    Inventor: A·Y·新井

    Abstract: 本发明披露了一种显示装置,所述显示装置产生高可见度光信号,例如ICON,所述ICON包括符号、形状、或其它图像状表示。ICON在照明开启状态期间在观测点变得可见。ICON可形成为显示介质的一部分,例如为能够在正常运行中通过反射形成现场的影像的镜的加工部分。在照明关闭状态在观察点处的ICON的可见度足够低,使得显示介质的正常运行得以保持。超短激光加工或用于材料修饰/改性的其它方法可用于形成微观结构,所述微观结构分配入射光,增加在开启状态在观察点处的光信号的可见度,在关闭状态具有非常低的可见度并在关闭状态对显示介质中的影像影响最小。

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