公开(公告)号：CN101978008A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN200980109518.6

申请日：2009-03-27

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 田崎太一 ,  山田欣司 ,  金森太郎 ,  八岛启介

IPC: C09D183/10 ,  C08G77/50 ,  C09D7/12 ,  C09D183/04 ,  C09D183/16

CPC classification number: C08L83/14 ,  C08G77/24 ,  C08G77/50 ,  C08G77/60 ,  C08K5/0025 ,  C08K2201/008

Abstract: 本发明涉及一种组合物，其特征在于，含有(A)含硅聚合物和(B)固化剂，所述(A)含硅聚合物具有下述通式(1)表示的结构单元(A1)和下述通式(2)表示的结构单元(A2)，由结构单元(A1)构成的部分与由结构单元(A2)构成的部分的重量比((A1)∶(A2))为4∶96～70∶30。所述通式(1)中，R1各自独立地表示碳原子数为1～6的1价烃基，X各自独立地表示碳原子数为1～7的2价烃基，n表示1～6的整数。所述通式(2)中，R2和R3各自独立地表示碳原子数为1～6的1价烃基，m表示正整数。通过本发明的组合物，可形成气体阻隔性、在有机基板上的密合性高、进而膜厚的固化物，该固化物能够很好地用作LED密封剂等。

公开(公告)号：CN101128916A

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：CN200680005696.0

申请日：2006-01-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 古川泰一 ,  稗田克彦 ,  宫松隆 ,  王勇 ,  山田欣司

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038

Abstract: 一种液浸式曝光系统(1)，通过在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间配备的液体(301)来执行曝光过程。液浸式曝光系统(1)包括供给液体(301)的液体供给部分(80)、将来自液体供给部分(80)的液体(301(301b))连续地沿特定方向导入并且在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间的空间充满了液体(301)的状态下执行曝光过程的曝光部分、其对在关于衬底(111)对称的位置上流过曝光部分(110)的液体(301(301a))进行恢复的液体恢复部分(90)、以及回收被液体恢复部分90恢复的液体(301(301c))的液体回收部分(20)。当采用液浸法时液浸式曝光液的特性可以保持稳定，由此能够有利地并连续地实行曝光，并能降低运行成本。

公开(公告)号：CN1965017A

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN200580018996.8

申请日：2005-04-13

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 秋池利之 ,  梶田彻 ,  山田欣司

IPC: C08G77/14 ,  C08G59/20 ,  C08G59/42 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31

Abstract: 本发明涉及在有机溶剂、有机碱和水的存在下，对具有环氧基的硅烷化合物和不具有环氧基的硅烷化合物进行加热而得到的重均分子量为500～100万的聚有机硅氧烷、以其为主要成分的光学半导体封装用组合物、光学半导体封装材料和光学半导体。