公开(公告)号：CN1223613C

公开(公告)日：2005-10-19

申请号：CN01813566.8

申请日：2001-05-30

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 河三喆 ,  郑永万 ,  赵石济 ,  尹东植

IPC: C08F2/52 ,  H01J37/32

CPC classification number: B05D1/62 ,  B05D2252/02 ,  B29C59/14 ,  H01J37/3277 ,  H01J2237/3382

Abstract: 具有多个室的等离子体聚合连续处理设备，对移动进入室的物质表面通过等离子体聚合进行表面处理，包括至少一个直立室，其中物质垂直移动，及其中包括至少一个电极。由于直立室可由单独或多个室形成，或可与卧式室一起形成，因此可以建造各种类型的等离子体聚合处理系统。另外，根据表面处理的目的，多个室可用于各种功能和应用例如聚合室、后处理室及预处理室。

公开(公告)号：CN1444605A

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN01813566.8

申请日：2001-05-30

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 河三喆 ,  郑永万 ,  赵石济 ,  尹东植

IPC: C08F2/52 ,  H01J37/32

CPC classification number: B05D1/62 ,  B05D2252/02 ,  B29C59/14 ,  H01J37/3277 ,  H01J2237/3382

Abstract: 具有多个室的等离子体聚合连续处理设备，对移动进入室的物质表面通过等离子体聚合进行表面处理，包括至少一个直立室，其中物质垂直移动，及其中包括至少一个电极。由于直立室可由单独或多个室形成，或可与卧式室一起形成，因此可以建造各种类型的等离子体聚合处理系统。另外，根据表面处理的目的，多个室可用于各种功能和应用例如聚合室、后处理室及预处理室。