公开(公告)号：CN102292663A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN201080005134.2

申请日：2010-02-17

Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司

Inventor： A·米哈伊洛夫 ,  Y·科罗图史金

IPC: G02B27/09

CPC classification number: G02B27/0927 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0966

Abstract: 一种用于使激光辐射(1)均匀化的设备，包括多个相互错开设置的反射镜元件(6)，要均匀化的激光辐射(1)能在反射镜元件(6)上被反射使得激光辐射被分成数量与反射镜元件(6)的数量相对应的子束(8)，子束通过反射而相互具有光程差；多个透镜元件(4)，为透镜元件中每一个分别分配反射镜元件(6)之一，使得子束(8)中每一个都能穿过透镜元件(4)之一；其中反射镜元件(6)中每一个与分配给这一反射镜元件的透镜元件(4)之间的距离等于各自透镜元件(4)的焦距(f4)。

公开(公告)号：CN102292663B

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201080005134.2

申请日：2010-02-17

Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司

Inventor： A·米哈伊洛夫 ,  Y·科罗图史金

IPC: G02B27/09

CPC classification number: G02B27/0927 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0966

Abstract: 一种用于使激光辐射(1)均匀化的设备，包括多个相互错开设置的反射镜元件(6)，要均匀化的激光辐射(1)能在反射镜元件(6)上被反射使得激光辐射被分成数量与反射镜元件(6)的数量相对应的子束(8)，子束通过反射而相互具有光程差；多个透镜元件(4)，为透镜元件中每一个分别分配反射镜元件(6)之一，使得子束(8)中每一个都能穿过透镜元件(4)之一；其中反射镜元件(6)中每一个与分配给这一反射镜元件的透镜元件(4)之间的距离等于各自透镜元件(4)的焦距(f4)。

公开(公告)号：CN102844143A

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN201180015320.9

申请日：2011-03-23

Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司

Inventor： V·利索特申克 ,  A·米哈伊洛夫 ,  N·约雷明 ,  Y·科罗图史金

IPC: B23K26/00 ,  B23K26/06

CPC classification number: B23K26/0604 ,  B23K26/0006 ,  B23K2103/00 ,  Y10T29/49

Abstract: 本发明涉及一种用于对设置在工作区域（4）内的工件的至少部分反射的或透明的区域施加激光辐射（1）的装置，包括：激光光源，用于产生激光辐射（1）；光学装置，用于影响激光辐射（1），使其转到工作区域（4）内；其中，光学装置包括至少一个反射镜（6、7、8、9），所述发射镜能反射激光辐射（1）的在工作区域（4）内反射的部分或激光辐射（1）的穿过工作区域（4）的部分，使得激光辐射（1）的所述部分至少部分地被导回工作区域（4）。

公开(公告)号：CN102844143B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201180015320.9

申请日：2011-03-23

Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司

Inventor： V·利索特申克 ,  A·米哈伊洛夫 ,  N·约雷明 ,  Y·科罗图史金

IPC: B23K26/00 ,  B23K26/06

CPC classification number: B23K26/0604 ,  B23K26/0006 ,  B23K2103/00 ,  Y10T29/49

Abstract: 本发明涉及一种用于对设置在工作区域（4）内的工件的至少部分反射的或透明的区域施加激光辐射（1）的装置，包括：激光光源，用于产生激光辐射（1）；光学装置，用于影响激光辐射（1），使其转到工作区域（4）内；其中，光学装置包括至少一个反射镜（6、7、8、9），所述发射镜能反射激光辐射（1）的在工作区域（4）内反射的部分或激光辐射（1）的穿过工作区域（4）的部分，使得激光辐射（1）的所述部分至少部分地被导回工作区域（4）。