掩模图形数据产生方法

    公开(公告)号:CN1109997C

    公开(公告)日:2003-05-28

    申请号:CN98100906.9

    申请日:1998-03-13

    Inventor: 铃木恭

    CPC classification number: G06T11/60

    Abstract: 一种因对布局基元数据分级校正低于掩模图形数据而对布局基元数据所作改变作出自动反应的掩模图形数据产生方法,它无需进行手动删除或布局,防止了可能向布局数据中引入的人为误差。它按进入的布局基元数据的布局数据将布局基元数据分级置于伪基元数据以下而后将伪基元数据分级置于掩模图形数据以下,将布局基元数据上的布局数据加到伪基元数据上,并通过扩展伪基元数据以下的布局基元数据产生与布局数据中所规定角度对应的绘图数据。

    半导体集成电路的模拟方法和模拟系统

    公开(公告)号:CN1151458C

    公开(公告)日:2004-05-26

    申请号:CN98105366.1

    申请日:1998-02-26

    Inventor: 铃木恭

    CPC classification number: G06F17/5036

    Abstract: 一种模拟半导体集成电路的方法,其中电路模拟结果考虑了相对变化。该方法根据规定的绝对和相对变化范围确定考虑到相对变化的元件参数可能的最大和最小值,即最坏情况的元件参数,从而形成变化模型。根据变化模型,考虑到相对变化以进行最坏情况模拟。

Patent Agency Ranking