公开(公告)号：CN1320543C

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN03816314.4

申请日：2003-07-09

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 山口晴彦 ,  淀川吉见 ,  宇佐美守 ,  丑田智树 ,  出泽圣一

IPC: G11B7/26 ,  B05C11/08 ,  B05D1/40

CPC classification number: G11B7/266 ,  B05D1/005 ,  B05D1/32 ,  G11B2020/1288 ,  G11B2220/2541

Abstract: 本发明涉及制作盘形记录介质的旋涂装置和方法。所述旋涂装置可防止对一盘进行旋涂时采用的一掩膜受到损坏。更具体地说，所述装置结构如下。首先，将一掩膜放置到一位于一旋涂器上的盘件上，然后进行旋涂。紧接之后，连续地对移离该盘件的单个掩膜进行清洗、冲洗及干燥处理，这些处理之后的掩膜相继发送给下一旋涂操作。

公开(公告)号：CN1669081A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN03816314.4

申请日：2003-07-09

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 山口晴彦 ,  淀川吉见 ,  宇佐美守 ,  丑田智树 ,  出泽圣一

IPC: G11B7/26 ,  B05C11/08 ,  B05D1/40

CPC classification number: G11B7/266 ,  B05D1/005 ,  B05D1/32 ,  G11B2020/1288 ,  G11B2220/2541

Abstract: 本发明涉及制作盘形记录介质的旋涂装置和方法。所述旋涂装置可防止对一盘进行旋涂时采用的一掩膜受到损坏。更具体地说，所述装置结构如下。首先，将一掩膜放置到一位于一旋涂器上的盘件上，然后进行旋涂。紧接之后，连续地对移离该盘件的单个掩膜进行清洗、冲洗及干燥处理，这些处理之后的掩膜相继发送给下一旋涂操作。

公开(公告)号：CN1534646A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN200310123579.2

申请日：2003-12-25

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 丑田智树 ,  出泽圣一 ,  宇佐美守

IPC: G11B7/26 ,  B05D1/40 ,  B05B3/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种光记录盘的制造方法，它在使用粘度高的紫外线硬化性树脂等放射线硬化性树脂，通过旋转覆盖形成光透过层的情况下，也能够没有气泡的混入地，如希望的那样形成表面性优越的光透过层。本发明的光记录盘的制造方法构成为将形成了记录层的圆状的基板设置在旋转覆盖装置的台上，将在顶面的中央部分形成了能够保持的保持轴的罩设置在上述基板上，塞住形成在上述基板的中央部分的中心孔，以低速使上述台旋转，同时使喷吐喷嘴位于上述罩的上述顶面的上方，来使得应该喷吐液状的放射线硬化性树脂的被喷吐面和喷吐喷嘴的喷吐口之间的喷吐距离为0.5mm到5mm，从喷吐喷嘴的喷吐口喷吐液状的放射线硬化性树脂。