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公开(公告)号：CN111668150B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202010143417.9
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；第1多孔质部，与所述气体导入路相对；及第2多孔质部，所述陶瓷电介体基板具有所述第1主面及第1孔部，所述第1多孔质部具有：第1多孔区域；及第1致密区域，所述第1多孔区域还具有第1致密部，所述第2多孔质部具有：第2多孔区域；及第2致密区域，所述第2多孔区域还具有第2致密部，当向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时，构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠，所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分发生重叠，或者所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分接触。
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公开(公告)号：CN111668148A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010142829.0
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；及第1多孔质部，与所述气体导入路相对，所述第1多孔质部包含第1多孔区域、比所述第1多孔区域更致密的第1致密区域，所述第1多孔区域具有：多个第1疏松部分；及第1紧密部分，具有比所述第1疏松部分的密度更高的密度，所述多个第1疏松部分在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向上延伸，所述第1紧密部分位于所述多个第1疏松部分的彼此之间，所述第1疏松部分具有第1壁部，在与所述第1方向大致正交的第2方向上，所述第1壁部的尺寸的最小值小于所述第1紧密部分的尺寸的最小值，所述气体导入路的至少一部分由曲线形成。
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公开(公告)号：CN111668148B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202010142829.0
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；及第1多孔质部，与所述气体导入路相对，所述第1多孔质部包含第1多孔区域、比所述第1多孔区域更致密的第1致密区域，所述第1多孔区域具有：多个第1疏松部分；及第1紧密部分，具有比所述第1疏松部分的密度更高的密度，所述多个第1疏松部分在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向上延伸，所述第1紧密部分位于所述多个第1疏松部分的彼此之间，所述第1疏松部分具有第1壁部，在与所述第1方向大致正交的第2方向上，所述第1壁部的尺寸的最小值小于所述第1紧密部分的尺寸的最小值，所述气体导入路的至少一部分由曲线形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115732387A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211003084.5
申请日：2022-08-19
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘，具备：接合部，设置在基板与基座板之间；气体导入路，具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部；锪孔部，设置在第1孔部及第2孔部的至少任意一个；及多孔质部，具有向第3孔部露出的露出面且设置在锪孔部，当将从基座板朝向基板的方向作为第1方向时，多孔质部具有：具有透气性的多孔部；及与多孔部相比更致密的致密部，致密部被配置成覆盖多孔部的外周，致密部的至少一部分构成从露出面沿着第1方向朝着第3孔部突出的第1突出部。
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公开(公告)号：CN111668151B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202010143616.X
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述气体导入路之间，所述陶瓷电介体基板具有多个孔，其连通所述槽与所述气体导入路，在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板，所述第1多孔质部具有：多孔区域，具有多个孔；及致密区域，比所述多孔区域更致密，所述多孔区域还具有致密部，当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时，设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。
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公开(公告)号：CN111668150A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010143417.9
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面；基座板，具有气体导入路；第1多孔质部，与所述气体导入路相对；及第2多孔质部，所述陶瓷电介体基板具有所述第1主面及第1孔部，所述第1多孔质部具有：第1多孔区域；及第1致密区域，所述第1多孔区域还具有第1致密部，所述第2多孔质部具有：第2多孔区域；及第2致密区域，所述第2多孔区域还具有第2致密部，当向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时，构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠，所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分发生重叠，或者所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分接触。
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公开(公告)号：CN115732386A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202210997609.5
申请日：2022-08-19
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘，具备：接合部，设置在基板与基座板之间；气体导入路，具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部；锪孔部，设置在第1孔部；多孔质部，具有第3孔部侧的第1面和第1面相反侧的第2面，设置在锪孔部；及弹性体，被设置成与接合部的第3孔部侧的端部相对，多孔质部的侧面具有第1面侧的第1侧部，在第1侧部中的至少与第1面相连的区域中，设置有倾斜的第1倾斜部，第1面与接合部及弹性体发生重叠，多孔质部在第1倾斜部处与弹性体发生接触。
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公开(公告)号：CN111668151A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010143616.X
申请日：2020-03-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述气体导入路之间，所述陶瓷电介体基板具有多个孔，其连通所述槽与所述气体导入路，在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板，所述第1多孔质部具有：多孔区域，具有多个孔；及致密区域，比所述多孔区域更致密，所述多孔区域还具有致密部，当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时，设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。
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