公开(公告)号：CN102958946B

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201180011842.1

申请日：2011-07-29

Applicant: 北京英力科技发展有限公司

Inventor： 赵文超 ,  麻忠利 ,  李家齐 ,  姚丽秀 ,  张珏 ,  胡伟静 ,  李静 ,  王永林

IPC: C08F2/50 ,  C07C323/22 ,  C07C323/52 ,  C07C319/20 ,  C07C319/06

CPC classification number: C07C323/62 ,  B33Y70/00 ,  C07C319/06 ,  C07C321/22 ,  C07C321/28 ,  C07C323/09 ,  C07C323/22 ,  C07C323/52 ,  C08F16/12 ,  C08F20/00 ,  C08K5/37 ,  C08K5/375

Abstract: 本发明提供一种以巯基二苯甲酮类化合物作为关键原料制备的光固化组合物。本发明为了解决了现有光固化技术中，小分子光引发剂易残留、易迁移，而大分子光引发剂由于有效成分含量低而造成引发效率低，同时仍存在一定的迁移性等问题。本发明所提供巯基二苯甲酮类化合物容易制备，与烯键式不饱和化合物加成效率高，加成后的得到的光固化组合物无巯基残留，光固化组合物用于光固化涂料、黏合剂、油墨配方中，具有高引发活性和零迁移率的特点。

公开(公告)号：CN107078108A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580060129.4

申请日：2015-11-04

Applicant: 捷恩智株式会社

Inventor： 古贺真 ,  藤原武 ,  白石安弘

IPC: H01L23/36 ,  B32B9/00 ,  C09J129/14 ,  C09J133/00 ,  H01L23/373 ,  H05K7/20

CPC classification number: H01L21/02118 ,  B32B9/00 ,  B32B9/007 ,  C08F16/06 ,  C08F16/12 ,  C08F20/04 ,  C09D131/04 ,  C09J129/14 ,  C09J133/08 ,  H01L23/36 ,  H01L23/373 ,  H01L33/64 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本案发明为一种热传导片，其是由多片石墨片所构成，并且热在石墨片间也高效地移动，厚度更厚或面积更大，热传导性优异。本案的热传导片具备：第1石墨片4a；在第1石墨片上整体重叠而配置的第2石墨片、在第1石墨片上局部重叠而错离配置的第2石墨片4a’、或将与第1石墨片的间隔设为小于5mm而并排配置的第2石墨片中的任一第2石墨片；将所配置的第1石墨片与第2石墨片的相向面接着的第1接着层3a；以自上下将所配置的第1石墨片及第2石墨片夹持的方式层叠的金属层2；以及将所配置的第1石墨片及第2石墨片、与金属层2的相向面接着的第2接着层3b。

公开(公告)号：CN102958946A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201180011842.1

申请日：2011-07-29

Applicant: 北京英力科技发展有限公司

Inventor： 赵文超 ,  麻忠利 ,  李家齐 ,  姚丽秀 ,  张珏 ,  胡伟静 ,  李静 ,  王永林

IPC: C08F2/50 ,  C07C323/22 ,  C07C323/52 ,  C07C319/20 ,  C07C319/06

CPC classification number: C07C323/62 ,  B33Y70/00 ,  C07C319/06 ,  C07C321/22 ,  C07C321/28 ,  C07C323/09 ,  C07C323/22 ,  C07C323/52 ,  C08F16/12 ,  C08F20/00 ,  C08K5/37 ,  C08K5/375

Abstract: 本发明提供一种以巯基二苯甲酮类化合物作为关键原料制备的光固化组合物。本发明为了解决了现有光固化技术中，小分子光引发剂易残留、易迁移，而大分子光引发剂由于有效成分含量低而造成引发效率低，同时仍存在一定的迁移性等问题。本发明所提供巯基二苯甲酮类化合物容易制备，与烯键式不饱和化合物加成效率高，加成后的得到的光固化组合物无巯基残留，光固化组合物用于光固化涂料、黏合剂、油墨配方中，具有高引发活性和零迁移率的特点。

公开(公告)号：CN102822211B

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201180016562.X

申请日：2011-03-29

Applicant: 巴斯夫欧洲公司

Inventor： H·寇 ,  A·默克 ,  C·奥施拉 ,  P·内斯瓦德巴 ,  F·O·H·皮龙 ,  A·格南特

IPC: C08F8/00 ,  C08F8/44 ,  C08F8/30 ,  C08F8/42

CPC classification number: C08F8/44 ,  C08F2/001 ,  C08F8/00 ,  C08F8/30 ,  C08F8/42 ,  C08F12/08 ,  C08F16/12 ,  C08F20/12 ,  C08F20/54 ,  C08F26/10 ,  C08F36/06 ,  C08F36/08 ,  C08F293/005 ,  C08F2438/02 ,  C08F2810/40

Abstract: 本发明涉及具有通式1或2表示的结构的端基官能化活性聚合物或共聚物，其中R1为氢原子、甲基，或含有1-20个碳原子的非自由基聚合性有机基团；R2为烯属含杂原子单体的官能端基，其选自羟基、环氧基、甲硅烷基、NH2、NH(C1-C6烷基)、N(C1-C6烷基)2、-CH=CH2、-C≡CH、-C(CH3)=CH2、-O-CH=CH2、(-O-CH2-CH2)1-10-OH、-OR20、-COOR20、-CONHR20、-OCONHR20、-OCOR20和-NH-CO-R20，其中R20为线性或支化C1-C20烷基或被羟基、环氧基、甲硅烷基、NH2或N(C1-C6烷基)2取代的线性或支化C1-C20烷基；或R20为苯基、苄基、-CH=CH2、-C≡CH或-C(CH3)=CH2，或R2为丙烯酸(CH2=CH-COO-)、甲基丙烯酸(CH2=C(CH3)-COO-*)或CH(CH3)=CH-COO-*的残基，或R2为二羧酸HOOC-Rc-COO-*或C1-C6烷基-OOC-Rc-COO-*的残基，其中Rc为C1-C20亚烷基、C1-C20亚烯基或亚苯基；或R2为衍生自异氰酸酯Ra-NCO与烯属含杂原子单体的羟基或胺基的反应的残基，所述残基为Ra-NHCOO-*或Ra-NHCO-NH-*，其中Ra为未被取代的C1-C20烷基、C1-C20环烷基或被羟基、环氧基、甲硅烷基、NH2、NH(C1-C6烷基)或N(C1-C6烷基)2取代的C1-C20烷基；或R2为衍生自二异氰酸酯残基OCN-Rb-NCO与烯属含杂原子单体的羟基或胺基的反应的残基，所述残基为*-OOC-NH-Rb-NCO或*-HNOC-NH-Rb-NCO或*-OOC-NH-Rb-NHCOR30，其中Rb为C1-C20亚烷基或C1-C20亚环烷基或亚苯基，且R30为丙烯酸羟乙酯(CH2=CH-COO-(CH2)2-O*)、甲基丙烯酸羟乙酯(CH2=C(CH3)-COO-(CH2)2-O*)、丙烯酸羟丁酯(CH2=CH-COO-(CH2)4-O*)或甲基丙烯酸羟丁酯(CH2=C(CH3)-COO-(CH2)4-O*)的残基；A为烯属含杂原子单体的杂原子，其选自氧、氮、硫和硅；并且如果R2为甲硅烷基且M为直连键，则A为直连键；M为连接烯属含杂原子单体的杂原子和烯属含杂原子单体的官能端基的键或二价基团，所述M选自C1-50亚烷基、C1-50(杂)亚烷基、亚芳基和杂亚芳基；X为卤原子、氮氧自由基或硫醚基团，Zn为由烯属单体构成的无规-、梯度-或嵌段型结构的聚合物或共聚物链段，所述烯属单体选自异戊二烯、1,3-丁二烯、α-C5-18烯烃、4-乙烯基吡啶、2-乙烯基吡啶、乙烯基咪唑、N-乙烯基吡咯烷酮、二甲基丙烯酰胺、3-二甲基氨基丙基甲基丙烯酰胺、苯乙烯、取代的苯乙烯和式CH2=C(R3)-C(=R4)-R5化合物，其中R3为氢原子或甲基，R4为氧原子或硫原子；R5为NH2、羟基、未被取代的C1-18烷氧基、被至少一个N和/或O原子间隔的C2-100烷氧基、羟基取代的C1-18烷氧基、未被取代的C1-18烷基氨基、二(C1-18烷基)氨基、羟基取代的C1-18烷基氨基、羟基取代的二(C1-18烷基)氨基或-O-CH2-CH2-N(CH3)2；Y为聚合物/共聚物Zn的链端，且Y表示能引发聚合的聚合引发剂的链段；Y1表示二-、三-或多官能NMP引发剂的二-、三-或多价链段；m为2、3或4，优选2；n为单体单元Z的数目，且为10-5000。

公开(公告)号：CN102822211A

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN201180016562.X

申请日：2011-03-29

Applicant: 巴斯夫欧洲公司

Inventor： H·寇 ,  A·默克 ,  C·奥施拉 ,  P·内斯瓦德巴 ,  F·O·H·皮龙 ,  A·格南特

IPC: C08F8/00 ,  C08F8/44 ,  C08F8/30 ,  C08F8/42

CPC classification number: C08F8/44 ,  C08F2/001 ,  C08F8/00 ,  C08F8/30 ,  C08F8/42 ,  C08F12/08 ,  C08F16/12 ,  C08F20/12 ,  C08F20/54 ,  C08F26/10 ,  C08F36/06 ,  C08F36/08 ,  C08F293/005 ,  C08F2438/02 ,  C08F2810/40

Abstract: 本发明涉及具有通式1或2表示的结构的端基官能化活性聚合物或共聚物，其中R1为氢原子、甲基，或含有1-20个碳原子的非自由基聚合性有机基团；R2为烯属含杂原子单体的官能端基，其选自羟基、环氧基、甲硅烷基、NH2、NH(C1-C6烷基)、N(C1-C6烷基)2、-CH=CH2、-C≡CH、-C(CH3)=CH2、-O-CH=CH2、(-O-CH2-CH2)1-10-OH、-OR20、-COOR20、-CONHR20、-OCONHR20、-OCOR20和-NH-CO-R20，其中R20为线性或支化C1-C20烷基或被羟基、环氧基、甲硅烷基、NH2或N(C1-C6烷基)2取代的线性或支化C1-C20烷基；或R20为苯基、苄基、-CH=CH2、-C≡CH或-C(CH3)=CH2，或R2为丙烯酸(CH2=CH-COO-*)、甲基丙烯酸(CH2=C(CH3)-COO-*)或CH(CH3)=CH-COO-*的残基，或R2为二羧酸HOOC-Rc-COO-*或C1-C6烷基-OOC-Rc-COO-*的残基，其中Rc为C1-C20亚烷基、C1-C20亚烯基或亚苯基；或R2为衍生自异氰酸酯Ra-NCO与烯属含杂原子单体的羟基或胺基的反应的残基，所述残基为Ra-NHCOO-*或Ra-NHCO-NH-*，其中Ra为未被取代的C1-C20烷基、C1-C20环烷基或被羟基、环氧基、甲硅烷基、NH2、NH(C1-C6烷基)或N(C1-C6烷基)2取代的C1-C20烷基；或R2为衍生自二异氰酸酯残基OCN-Rb-NCO与烯属含杂原子单体的羟基或胺基的反应的残基，所述残基为*-OOC-NH-Rb-NCO或*-HNOC-NH-Rb-NCO或*-OOC-NH-Rb-NHCOR30，其中Rb为C1-C20亚烷基或C1-C20亚环烷基或亚苯基，且R30为丙烯酸羟乙酯(CH2=CH-COO-(CH2)2-O*)、甲基丙烯酸羟乙酯(CH2=C(CH3)-COO-(CH2)2-O*)、丙烯酸羟丁酯(CH2=CH-COO-(CH2)4-O*)或甲基丙烯酸羟丁酯(CH2=C(CH3)-COO-(CH2)4-O*)的残基；A为烯属含杂原子单体的杂原子，其选自氧、氮、硫和硅；并且如果R2为甲硅烷基且M为直连键，则A为直连键；M为连接烯属含杂原子单体的杂原子和烯属含杂原子单体的官能端基的键或二价基团，所述M选自C1-50亚烷基、C1-50(杂)亚烷基、亚芳基和杂亚芳基；X为卤原子、氮氧自由基或硫醚基团，Zn为由烯属单体构成的无规-、梯度-或嵌段型结构的聚合物或共聚物链段，所述烯属单体选自异戊二烯、1,3-丁二烯、α-C5-18烯烃、4-乙烯基吡啶、2-乙烯基吡啶、乙烯基咪唑、N-乙烯基吡咯烷酮、二甲基丙烯酰胺、3-二甲基氨基丙基甲基丙烯酰胺、苯乙烯、取代的苯乙烯和式CH2=C(R3)-C(=R4)-R5化合物，其中R3为氢原子或甲基，R4为氧原子或硫原子；R5为NH2、羟基、未被取代的C1-18烷氧基、被至少一个N和/或O原子间隔的C2-100烷氧基、羟基取代的C1-18烷氧基、未被取代的C1-18烷基氨基、二(C1-18烷基)氨基、羟基取代的C1-18烷基氨基、羟基取代的二(C1-18烷基)氨基或-O-CH2-CH2-N(CH3)2；Y为聚合物/共聚物Zn的链端，且Y表示能引发聚合的聚合引发剂的链段；Y1表示二-、三-或多官能NMP引发剂的二-、三-或多价链段；m为2、3或4，优选2；n为单体单元Z的数目，且为10-5000。

公开(公告)号：CN105636993B

公开(公告)日：2018-08-07

申请号：CN201480056971.6

申请日：2014-10-20

Applicant: HRL实验室有限责任公司

Inventor： S·S·杨 ,  A·J·雅各布森 ,  J·M·哈德利 ,  E·C·克拉夫

IPC: C08F2/50 ,  C08G85/00 ,  C08K5/49 ,  C08K5/04 ,  C08J3/28 ,  C08J3/24 ,  C08J5/00

CPC classification number: C08G75/14 ,  C08F2/50 ,  C08F16/12 ,  C08F20/10 ,  C08F20/54 ,  C08F26/06 ,  C08F36/02 ,  C08F38/00 ,  C08F222/1006 ,  C08G61/02

Abstract: 本发明公开了种用于微晶格结构的制造的单体配方,该单体配方包括多个单体、被构造为在个光波长以上基本上具有活性的第光引发剂以及在该光波长以上基本不具有活性而在该光波长以下基本上具有活性的第二光引发剂。

公开(公告)号：CN107108453A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201580072995.5

申请日：2015-12-25

Applicant: 捷恩智株式会社 ,  捷恩智石油化学株式会社

Inventor： 田中裕之 ,  矢野匡一 ,  近藤史尚 ,  荻田和寛

IPC: C07C69/54 ,  C07C69/653 ,  C08F16/12 ,  C08F20/30 ,  C08G59/00 ,  C09K19/12 ,  C09K19/38 ,  C09K19/42 ,  C09K19/54 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337 ,  C08F2/50

CPC classification number: C09K19/542 ,  C07C43/1787 ,  C07C69/54 ,  C07C69/653 ,  C07C69/94 ,  C07C219/18 ,  C07C2601/14 ,  C07D213/30 ,  C07D239/26 ,  C07D303/14 ,  C07D305/06 ,  C07D309/06 ,  C07D319/06 ,  C07F7/1804 ,  C08F2/50 ,  C08F16/12 ,  C08F16/24 ,  C08F16/26 ,  C08F20/30 ,  C08G59/00 ,  C09K19/12 ,  C09K19/3001 ,  C09K19/3003 ,  C09K19/3068 ,  C09K19/3402 ,  C09K19/3458 ,  C09K19/38 ,  C09K19/42 ,  C09K19/54 ,  C09K2019/3009 ,  C09K2019/301 ,  C09K2019/3016 ,  C09K2019/3077 ,  C09K2019/308 ,  C09K2019/3083 ,  C09K2019/3422 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种极性化合物，其具有化学上的高稳定性、使液晶分子进行取向的高能力，而且在用于液晶显示元件的情况下的电压保持率大。本发明提供一种式(1)所表示的化合物。例如，R1为碳数1～15的烷基；环A1～环A5为1,4‑亚环己基或1,4‑亚苯基；Z1及Z5为单键或碳数1至10的亚烷基；a及b为0～4，且a及b的和为4以下；d为1～4；c及e为0～4；P1～P3为式(P‑1)～式(P‑5)所表示的聚合性基；M1～M3为氢或碳数1至5的烷基；R2为式(1a)～式(1c)所表示的基；Sp1～Sp5为单键或碳数1至10的亚烷基；S1为＞CH‑；S2为＞C＜；X1为‑OH。

公开(公告)号：CN105636993A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201480056971.6

申请日：2014-10-20

Applicant: HRL实验室有限责任公司

Inventor： S·S·杨 ,  A·J·雅各布森 ,  J·M·哈德利 ,  E·C·克拉夫

IPC: C08F2/50 ,  C08G85/00 ,  C08K5/49 ,  C08K5/04 ,  C08J3/28 ,  C08J3/24 ,  C08J5/00

CPC classification number: C08G75/14 ,  C08F2/50 ,  C08F16/12 ,  C08F20/10 ,  C08F20/54 ,  C08F26/06 ,  C08F36/02 ,  C08F38/00 ,  C08F222/1006 ,  C08G61/02

Abstract: 本发明公开了一种用于微晶格结构的制造的单体配方，该单体配方包括多个单体、被构造为在一个光波长以上基本上具有活性的第一光引发剂以及在该光波长以上基本不具有活性而在该光波长以下基本上具有活性的第二光引发剂。