光盘装置、光盘以及光盘检查方法

    公开(公告)号:CN103299368B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201280004724.2

    申请日:2012-01-06

    Abstract: 一种使用能够进行超分辨率再现的光盘(6)的光盘装置,该光盘装置具有:半导体激光器(1);激光器驱动电路(21),其向半导体激光器(1)提供驱动电流;受光元件(8),其检测来自光盘(6)的返回光,取得记录数据的再现信号;以及发光光量控制单元(22),其对基于激光器驱动电路(21)的半导体激光器(1)的发光光量进行控制,使得在光盘(6)的信息记录层形成的会聚光斑的峰值强度保持在得到超分辨率效应的峰值强度以上。发光光量控制单元(22)根据光盘(1)的信息记录层处的会聚光斑的峰值强度的下降率D和得到预定再现性能的发光光量的下限值(Pld_L),对基于激光器驱动电路(21)的半导体激光器(1)的发光光量进行控制,其中,所述下降率D是根据与假定的盘片倾斜角和光盘(1)的光透射层厚度对应的彗差求出的。

    光学存储介质
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102013261B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201010277928.6

    申请日:2010-09-08

    CPC classification number: G11B7/252 G11B7/24065 Y10T428/21

    Abstract: 本发明提供了一种光学存储介质。该光学存储介质包括:衬底层(52);具有凹坑结构的只读数据层(52a),设置在衬底层(52)上;以及具有超分辨率结构的非线性层(54,56),设置在数据层(52a)之上。该超分辨率结构包括半导体材料和电介质材料(55)的粒状杂质,其中该半导体材料在用激光束照射时具有增大的反射率,并且其中该电介质材料(55)布置为具有5nm以下的厚度的电介质层(55)。电介质材料有利地由布置在第一和第二非线性层(54,56)之间的氮化物材料例如GeN的不均匀层构成。

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