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公开(公告)号：CN103160808B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201210599133.6
申请日：2012-12-14
Applicant: 德雷卡通信技术公司
Inventor： I·米利塞维克 , M·J·N·范斯特拉伦 , J·A·哈特苏伊克
IPC: C23C16/44
CPC classification number: C23C16/511 , C03B37/0183 , H01J37/32247
Abstract: 本发明涉及一种用于执行等离子体化学气相沉积工艺的设备。该设备包括大体上为圆柱形的共振器，该圆柱形共振器具备外圆柱壁，该外圆柱壁包围围绕圆柱轴线沿圆周方向延伸的共振腔。该共振器还具备在圆柱方向限界共振腔的侧壁部分，并且具备在沿圆周方向围绕圆柱轴线延伸的狭缝结构，该狭缝结构提供从共振腔径向向内的入口。此外，该狭缝结构包括在圆柱方向相互偏移的多个狭缝部分。
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公开(公告)号：CN103668127B
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201310674092.7
申请日：2013-12-10
Applicant: 河北普莱斯曼金刚石科技有限公司
IPC: C23C16/511 , C23C16/27
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/274 , C23C16/511 , H01J37/32247 , H01J37/32256
Abstract: 一种圆顶式微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置，适用于高功率微波输入下高品质金刚石膜的快速制备。谐振腔主体由圆顶反射体、金属薄板反射体、石英环窗口、圆柱反射体和沉积台所组成。金属薄板反射体可以阻挡微波向谐振腔顶部的传播，使微波更多地聚集于基片上方。沉积台分为中心沉积台和边缘沉积台两部分，二者的独立上下移动功能利于实现等离子体状态的快速优化。石英环窗口隐藏于谐振腔壁形成的狭缝间，既可以躲避等离子体的刻蚀，又利于谐振腔真空性能的提高。另外，良好的水冷系统设计保证了设备在高功率下运行的安全。诸多的优点汇集到一起，使得该圆顶式微波等离子体化学气相沉积装置具备在高功率水平下高速沉积高品质金刚石膜的能力。
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公开(公告)号：CN106399978B
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201611148513.2
申请日：2012-12-14
Applicant: 德雷卡通信技术公司
Inventor： I·米利塞维克 , M·J·N·范斯特拉伦 , J·A·哈特苏伊克
IPC: C23C16/511
CPC classification number: C23C16/511 , C03B37/0183 , H01J37/32247
Abstract: 本发明涉及一种用于执行等离子体化学气相沉积工艺的方法。包括以下步骤：提供设备，该设备包括大体上为圆柱形的共振器，该共振器具备外圆柱壁，该外圆柱壁包围围绕圆柱轴线沿圆周方向延伸的共振腔，该共振器还具备在圆柱方向限界共振腔的侧壁部分，并且具备在沿圆周方向围绕圆柱轴线延伸的狭缝结构，该狭缝结构提供从共振腔径向向内的入口，其中该狭缝结构包括在圆柱方向相互偏移的多个狭缝部分，将衬底管从所述共振腔径向向内地容纳在管状内部空间中，将微波注入到所述共振腔中，以及使所述衬底管相对于所述共振器的圆柱轴线旋转。
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公开(公告)号：CN103000554B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201210330294.5
申请日：2012-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 芦田光利
IPC: H01L21/67 , H01L21/268
CPC classification number: H01J37/32192 , H01J37/32247 , H05H2001/4682
Abstract: 本发明提供一种微波处理装置及其控制方法，能够使多个微波源与处理容器之间的阻抗匹配的精度提高。微波处理装置（1）具备：收容晶片（W）的处理容器（2）；生成用于处理晶片（W）的微波并导入到处理容器（2）的微波导入装置（3）；和控制微波导入装置（3）的控制部（8）。微波导入装置（3）具有：生成微波的多个磁控管（31）；和将在多个磁控管（31）中生成的微波传送到处理容器（2）的多个波导管（32），多个微波能够同时被导入处理容器（2）。控制部（8）在将多个微波同时导入处理容器（2）的第一状态继续的期间，有选择地且暂时地切换为在多个磁控管（31）中的1个中生成微波，仅将该微波导入处理容器（2）的第二状态。
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公开(公告)号：CN104284506A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410259219.3
申请日：2014-06-11
Applicant: 安捷伦科技有限公司
IPC: H05H1/46
CPC classification number: H01J37/32247 , H05H1/46 , H05H2001/4667
Abstract: 本发明描述了一种等离子体产生装置、一种包括等离子体产生装置的系统、以及一种产生等离子体和真空UV(VUV)光子的方法。在代表性实施例中，等离子体产生装置包括：衬底，其具有第一表面和第二表面；谐振环形结构，其布置在所述衬底的第一表面上，所述谐振环形结构具有被选择以支持具有沿谐振环形结构的长度的一个以上电场最大值的至少一个驻波的尺寸；接地平面，其布置在所述衬底的第二表面上；以及设备，其配置成在所述电场最大值的位置提供气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103890899A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201280047707.7
申请日：2012-09-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32192 , H01J37/32247 , H01J37/32256 , Y10T29/49002
Abstract: 本发明提供了多个等离子体调谐杆子系统。该等离子体调谐杆子系统可以包括一个或更多个微波腔，该微波腔被配置成通过在等离子体内和/或与等离子体邻近的一个或更多个等离子体调谐杆中产生谐振微波能量，来将期望的电磁（EM）波模式的EM能量耦合到等离子体。一个或更多个微波腔组件可以耦合到处理室，并且可以包括一个或更多个调谐空间/腔。每个调谐空间/腔可以具有与其耦合的一个或更多个等离子体调谐杆。一些等离子体调谐杆可以被配置成将EM能量从一个或更多个谐振腔耦合到处理室内的处理空间，由此在处理空间内产生均匀的等离子体。
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公开(公告)号：CN102263000B
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201110172062.7
申请日：2011-06-24
Applicant: 长飞光纤光缆有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32247 , C03B37/0183 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/32229 , Y02P40/57
Abstract: 本发明涉及一种用于PCVD光纤预制棒加工机床的等离子体微波谐振腔，包括有谐振腔壳体和与其相联的波导装置，在谐振腔壳体的两端沿谐振腔轴向开设有同轴线的通孔，通过两端通孔安设有贯穿谐振腔腔体和两端通孔的玻璃内衬套，所述的玻璃内衬套包括玻璃直筒体和设置在玻璃直筒体两端的玻璃止挡环，其特征在于在玻璃直筒体的一端或两端设置外螺纹，玻璃止挡环通过其设置的螺孔与玻璃直筒体的端头相联。本发明不仅安装调整方便，大大降低了现场安装操作的难度，而且完全不使用氢、氧气的高温燃烧，有效避免因高温造成谐振腔金属元素的扩散，保证了生产出的光纤预制棒性能和质量稳定；提高了等离子体微波谐振腔使用性能的稳定性和有效使用寿命。
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公开(公告)号：CN100348078C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN03807747.7
申请日：2003-04-09
Applicant: NTTAFTY工程株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065 , H01L21/205 , C23C14/22 , C23C16/511
CPC classification number: H01J37/32229 , H01J37/32192 , H01J37/32247 , H01J37/32357 , H01J37/32678 , H05H1/18 , H05H1/46
Abstract: 本发明的ECR等离子体源由在与等离子体流垂直的面内有大致矩形截面的等离子体生成室(10)；在与等离子体流垂直的面内卷绕成大致矩形的磁性线圈(20、21)；和端部为终端的直接导入方式或分支结合导入方式的导波管(30)或微波空洞共振器构成。将微波从设置在该导波管(30)或微波空洞共振器内部的与微波同相部相当的侧面上的多个开口部(34)，传送到等离子体生成室(10)内。另外，ECR等离子体装置中具有所述ECR等离子体源，还具有移动大型试料用的试料移动机构。
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公开(公告)号：CN107393798B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201710275334.3
申请日：2017-04-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/3065 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3244 , H01J37/32192 , H01J37/32201 , H01J37/32229 , H01J37/32247 , H01J37/32458 , H01J37/32715 , H01J2237/3321 , H01J2237/334
Abstract: 本发明提供能够使处理气体在与气体的特性对应的适当的解离状态下解离的、且能够兼顾处理气体的导入均匀性和所需的等离子体均匀性的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：腔室(1)、载置晶片的载置台(11)、经由顶壁(10)向腔室内导入微波的等离子体源(2)、从顶壁(10)将第一气体导入腔室内的第一气体导入部(21)、从顶壁与载置台(11)之间将第二气体导入腔室内的第二气体导入部(22)。第二气体导入部包括：环状部件(110)，形成有多个气体排出孔(116)，设置成位于顶壁与载置台(11)之间的规定高度位置；和连接顶壁与环状部件的脚部(111a)，第二气体向环状部件的供给经由脚部(11a)进行。
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公开(公告)号：CN109564843A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780047022.5
申请日：2017-01-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 菲利普·艾伦·克劳斯 , 蔡泰正
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/45544 , C23C16/511 , H01J37/32201 , H01J37/32211 , H01J37/32247 , H01J37/32311 , H01J37/3244 , H01J2237/334
Abstract: 实施方式包括模块式微波源。在一个实施方式中，模块式微波源包括电压控制电路、电压控制振荡器，其中来自该电压控制电路的输出电压驱动电压控制振荡器中的振荡。模块式微波源也可包括耦接至电压控制振荡器的固态微波放大模块。在一个实施方式中，固态微波放大模块将来自电压控制振荡器的输出放大。模块式微波源也可包括耦接至该固态微波放大模块的施加器(applicator)，其中施加器是介电谐振器。
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