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公开(公告)号:CN107255898A
公开(公告)日:2017-10-17
申请号:CN201710439378.5
申请日:2012-10-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor: 勇-霍·庄 , 弗拉基米尔·德里宾斯基
CPC classification number: H01L21/3003 , C30B29/10 , C30B33/00 , C30B33/02 , G01N21/3563 , G01N21/59 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/3568 , G01N2021/3595 , G01N2021/8477 , G01N2021/8822 , G01N2201/06113 , H01L21/322 , H01S3/027 , H01S3/094 , H01S3/109 , H01S3/1666 , G02F1/3551 , C30B33/12 , G01N21/55
Abstract: 本发明是关于非线性光学晶体的钝化。本发明的一实施例包括暴露室,其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体,所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体;钝化气体源,其流体连接到所述暴露室,所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分;及衬底,其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内,所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度,所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。
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公开(公告)号:CN103608984A
公开(公告)日:2014-02-26
申请号:CN201280030117.3
申请日:2012-04-19
Applicant: 通快激光两合公司
Abstract: 在一种具有至少一个气体冲洗的激光谐振器(2)的激光设备(1)中,所述激光谐振器布置在冲洗气体回路(10)中,所述冲洗气体回路在所述激光谐振器(2)的上游不仅具有用于在所述冲洗气体回路(10)中产生冲洗气体过压的低压发生器(11)而且在所述低压发生器(11)与所述激光谐振器(2)之间具有用于清洁所述冲洗气体(A)的清洁装置(12、13),其中,所述冲洗气体(A)是空气,按照本发明,所述冲洗气体回路(10)在所述激光谐振器(2)的下游在所述激光谐振器(2)与所述低压发生器(11)之间具有一个永久朝大气(15)敞开的吸入口(16),其中,由所述低压发生器(11)产生的冲洗气体低压(p1)大于所述大气空气压强(p0)。
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公开(公告)号:CN101498579A
公开(公告)日:2009-08-05
申请号:CN200910002260.1
申请日:2009-01-13
Applicant: 波音公司
Inventor: 詹姆斯·C·范埃弗里 , 肯尼思·E·欧文三世 , 保罗·G·索莱基 , 雷诺·R·帕纳戈
CPC classification number: G01C15/002 , G03B21/18 , H01S3/027
Abstract: 一种在爆炸环境中的进行激光投射的设备。该设备包括净化室(12、112)。基本上光学透明的壁(14、114)沿着所述净化室(12、112)形成。激光投射器(16、116)安装在该净化室(12、112)内。该激光投射器(16、116)定位成穿过所述基本上光学透明的壁(14、114)投射激光束。所述设备可以用于在物体上投射图像,以协助制造过程。
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公开(公告)号:CN1402897A
公开(公告)日:2003-03-12
申请号:CN00816396.0
申请日:2000-11-22
Applicant: 西默股份有限公司
Inventor: W·N·帕特罗 , R·L·桑德斯特罗姆 , R·F·塞布尔斯基 , I·V·弗门科夫 , A·I·叶尔绍夫
IPC: H01S3/22
CPC classification number: G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/027 , H01S3/036 , H01S3/0401 , H01S3/1055 , H01S3/225
Abstract: 一种光栅基窄线装置用的氦气吹洗,用以使在高重复速率下产生高能激光束的窄线激光器中的热失真减至最少。申请者们业已表明,和先前技术中的氮吹洗相比,氦吹洗在性能上有明显的改进。在较佳实施例中氦气流对着光栅面(16)直接越过。在其他实施例中使吹洗气压降低以减小热气体层的光学影响。
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公开(公告)号:CN103975272B
公开(公告)日:2017-07-07
申请号:CN201280059827.9
申请日:2012-10-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor: 勇-霍·庄 , 弗拉基米尔·德里宾斯基
IPC: G02F1/35
CPC classification number: H01L21/3003 , C30B29/10 , C30B33/00 , C30B33/02 , G01N21/3563 , G01N21/59 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/3568 , G01N2021/3595 , G01N2021/8477 , G01N2021/8822 , G01N2201/06113 , H01L21/322 , H01S3/027 , H01S3/094 , H01S3/109 , H01S3/1666
Abstract: 本发明包括暴露室,其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体,所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体;钝化气体源,其流体连接到所述暴露室,所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分;及衬底,其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内,所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度,所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。
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公开(公告)号:CN101530360A
公开(公告)日:2009-09-16
申请号:CN200810168689.3
申请日:2008-03-06
Applicant: 爱尔康折射视界公司
IPC: A61F9/013
CPC classification number: H01S3/02 , A61F9/008 , A61F9/00804 , H01S3/027 , H01S3/225
Abstract: 本发明公开了一种气体吹扫的激光系统以及气体吹扫激光系统的方法。该激光系统的一个实施例包括准分子激光屈光矫正系统,其具有激光束光径,被配置成允许用气体吹扫围绕该激光束光径的体积的一部分,以及气体发生器,用于产生吹扫气体并提供该气体到该体积部分。该体积部分可以是围绕激光束光径的全部体积或其中选定的部分。该气体可以是氮气并且该气体发生器可以是本领域技术人员所知的自备式氮气发生器。实施例还可包括响应于接收到代表各种参数例如温度、氧水平、压强、湿度以及流速的信号来控制吹扫气体流动的控制器。
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公开(公告)号:CN101189766A
公开(公告)日:2008-05-28
申请号:CN200680019748.X
申请日:2006-05-19
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01S3/02
CPC classification number: H01S3/025 , H01S3/005 , H01S3/0092 , H01S3/027 , H01S3/07 , H01S3/0941 , H01S3/117
Abstract: 本发明提供一种固体激光装置,其具有下述结构:具备具有大致密封构造的单一外部壳体(1),在上述外部壳体(1)内设置一个或多个内部壳体(2),在部分或全部上述内部壳体(2)上设置将外部壳体(1)内的空气净化并向内部壳体(2)中供给的空气清洁单元(4),在上述外部壳体(1)内配置包括固体激光介质(501)及光共振器的激光光源(5、6、7)、和传送或遮蔽由上述激光光源产生的激光(8)的光学系统(10、11、901),同时,将上述激光光源(5、6、7)、及上述光学系统(10、11、901)或其一部分收容在上述内部壳体(2)内,由此能够基于简单、小型且廉价的结构,防止光学部件老化及结露,稳定地供给激光。
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公开(公告)号:CN106848811A
公开(公告)日:2017-06-13
申请号:CN201611094239.5
申请日:2016-12-02
Applicant: 发那科株式会社
CPC classification number: H01S5/0014 , H01S3/0014 , H01S3/027 , H01S3/0407 , H01S3/042 , H01S5/02423 , H01S5/02453
Abstract: 一种能够可靠地防止结露的激光装置。在激光装置中,在激光振荡中,向激光装置的内部供给的冷却水的温度被控制为第一规定温度范围内,并且,持续进行除湿使得维持(激光装置的内部的空气的露点)+(第一规定温度差)≤(冷却水温度)的关系。根据激光装置的内部的空气的湿度和温度,通过计算部求出该空气的露点。
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公开(公告)号:CN103975272A
公开(公告)日:2014-08-06
申请号:CN201280059827.9
申请日:2012-10-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor: 勇-霍·庄 , 弗拉基米尔·德里宾斯基
IPC: G02F1/35
CPC classification number: H01L21/3003 , C30B29/10 , C30B33/00 , C30B33/02 , G01N21/3563 , G01N21/59 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/3568 , G01N2021/3595 , G01N2021/8477 , G01N2021/8822 , G01N2201/06113 , H01L21/322 , H01S3/027 , H01S3/094 , H01S3/109 , H01S3/1666
Abstract: 本发明包括暴露室,其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体,所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体;钝化气体源,其流体连接到所述暴露室,所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分;及衬底,其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内,所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度,所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。
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公开(公告)号:CN101498579B
公开(公告)日:2014-05-21
申请号:CN200910002260.1
申请日:2009-01-13
Applicant: 波音公司
Inventor: 詹姆斯·C·范埃弗里 , 肯尼思·E·欧文三世 , 保罗·G·索莱基 , 雷诺·R·帕纳戈
CPC classification number: G01C15/002 , G03B21/18 , H01S3/027
Abstract: 一种在爆炸环境中的进行激光投射的设备。该设备包括净化室(12、112)。基本上光学透明的壁(14、114)沿着所述净化室(12、112)形成。激光投射器(16、116)安装在该净化室(12、112)内。该激光投射器(16、116)定位成穿过所述基本上光学透明的壁(14、114)投射激光束。所述设备可以用于在物体上投射图像,以协助制造过程。
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