公开(公告)号：US20080004169A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US11821800

申请日：2007-06-26

Applicant: Adam James Ellison

Inventor： Adam James Ellison

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076

CPC classification number: G02B1/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50

Abstract: A low expansion silica-titania glass suitable for making extreme ultraviolet lithographic element, with the titania-containing silica glass having a titania content in the range of 5-10 wt. % and a including a further constituent of a viscosity reducing dopant having a content in the range of 0.001 to 1 wt %.

Abstract translation: 一种适用于制备极紫外光刻元件的低膨胀二氧化硅 - 二氧化钛玻璃，含二氧化钛的二氧化硅玻璃的二氧化钛含量为5-10wt。 ％，并且a包含含量在0.001至1重量％范围内的粘度降低掺杂剂的另一组分。