Invention Publication
- Patent Title: 碳化硅衬底抛光用砂轮及其制备方法
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Application No.: CN202110703112.3Application Date: 2021-06-24
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Publication No.: CN113400206APublication Date: 2021-09-17
- Inventor: 王礼华 , 张高亮 , 赵延军 , 钱灌文 , 曹剑锋 , 左冬华 , 孙冠男
- Applicant: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
- Applicant Address: 河南省郑州市高新区梧桐街121号
- Assignee: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
- Current Assignee: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
- Current Assignee Address: 河南省郑州市高新区梧桐街121号
- Agency: 郑州联科专利事务所
- Agent 杨海霞
- Main IPC: B24D3/32
- IPC: B24D3/32 ; B24D3/00 ; B24D18/00

Abstract:
本发明涉及一种碳化硅衬底片抛光用砂轮及其制备方法,该砂轮由基体和磨料层组成,所述磨料层的各原料重量百分比为:金刚石磨料22‑45%、环氧丙烯酸树脂5‑40%、木质纤维素20‑35%、纳米二氧化硅10‑20%。本发明制备的树脂抛光砂轮,采用特殊的真空高压浸渍法和光固化相结合的成型方式,解决粉末树脂粉热压法磨料聚集的难题,磨料在砂轮体系中分散均匀性好,对碳化硅衬片的抛光质量好。同时,木质纤维素形成的三维网状通孔结构,不仅有利于冷却和容屑,磨削能够脆性断裂和剥离形成新的磨削工作层。本发明制备的碳化硅衬底片抛光砂轮可以替代CMP抛光工艺,获得更好的效率和表面质量。
Public/Granted literature
- CN113400206B 碳化硅衬底抛光用砂轮及其制备方法 Public/Granted day:2022-07-19
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