Invention Grant
- Patent Title: 一种非对称带栅双向可控硅静电防护器件及其制作方法
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Application No.: CN202010489554.8Application Date: 2020-06-02
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Publication No.: CN113764401BPublication Date: 2024-11-26
- Inventor: 董鹏 , 魏伟鹏 , 汪洋 , 金湘亮 , 李幸
- Applicant: 湖南静芯微电子技术有限公司
- Applicant Address: 湖南省长沙市长沙经济技术开发区螺丝塘路德普企业公元6栋C座303
- Assignee: 湖南静芯微电子技术有限公司
- Current Assignee: 湖南静芯微电子技术有限公司
- Current Assignee Address: 湖南省长沙市长沙经济技术开发区螺丝塘路德普企业公元6栋C座303
- Agency: 深圳市沈合专利代理事务所
- Agent 沈祖锋
- Main IPC: H01L27/02
- IPC: H01L27/02 ; H01L29/06 ; H01L21/332 ; H01L29/74 ; H01L29/747

Abstract:
本发明公开了一种非对称带栅双向可控硅静电防护器件及其制作方法,包括P型衬底;P型衬底中设有N型埋层;第二N型深阱上有第一N阱,第三N型深阱上有第二N阱;第一N阱和第二N型深阱不等宽,第二N阱和第三N型深阱不等宽;第一P阱上有第一P+注入;第二P阱上有第二P+注入、第一N+注入和第一栅极;第三P阱上有第二栅极、第三栅极和第三P+注入、第二N+注入;第四P阱上有第四栅极和第四P+注入;第一栅极在第二P阱右侧,第二栅极和第三栅极分别在第三P阱左侧和右侧,第四栅极在第四P阱左侧;第一P阱、第二P阱与第四P阱中六个电极均连接在一起作为器件的阴极,第三P阱中四个电极均连接在一起作为器件的阳极。
Public/Granted literature
- CN113764401A 一种非对称带栅双向可控硅静电防护器件及其制作方法 Public/Granted day:2021-12-07
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