Invention Publication
CN119137718A 半导体装置
审中-公开
- Patent Title: 半导体装置
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Application No.: CN202380036856.1Application Date: 2023-12-19
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Publication No.: CN119137718APublication Date: 2024-12-13
- Inventor: 中村浩尚 , 木村晃 , 江口宗博 , 油井隆
- Applicant: 新唐科技日本株式会社
- Applicant Address: 日本
- Assignee: 新唐科技日本株式会社
- Current Assignee: 新唐科技日本株式会社
- Current Assignee Address: 日本
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 吕文卓
- Priority: 63/491,332 20230321 US
- International Application: PCT/JP2023/045572 2023.12.19
- International Announcement: WO2024/195235 JA 2024.09.26
- Date entered country: 2024-10-28
- Main IPC: H01L21/60
- IPC: H01L21/60 ; H01L29/78

Abstract:
半导体装置(1)具备长边在第1方向上延伸、短边在第2方向上延伸的长方形的半导体芯片(2);半导体芯片(2)具备:第1纵型MOS晶体管(10),具备第1栅极焊盘(119)和多个第1源极焊盘(111);以及第2纵型MOS晶体管(20),具备第2栅极焊盘(129)和多个第2源极焊盘(121);在半导体芯片(2)的上表面,形成有源极焊盘在第1方向上以直线状排列配置的多个第1列状配置区域(71)以及源极焊盘在第2方向上以直线状排列配置的多个第2列状配置区域(72);半导体装置(1)还具备与第1栅极焊盘(119)、多个第1源极焊盘(111)、第2栅极焊盘(129)及多个第2源极焊盘(121)分别连接的多个球型的凸块电极(3)。
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IPC分类: