半导体装置及安装基板
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119895574A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202380065910.5

    申请日:2023-09-11

    Abstract: 能够面朝上安装的芯片尺寸封装型的半导体装置(1)具备:半导体层(40);垂直型MOS晶体管(10),形成在半导体层(40)内;保护膜(35);第一布线电极(12),与垂直型MOS晶体管(10)的源极电极(13)连接;以及第二布线电极(52),与垂直型MOS晶体管(10)的栅极电极(19)连接,在半导体层(40)的平面图中的第一布线电极(12)的外周部分,形成由源极电极(13)、保护膜(35)以及第一布线电极(12)的依次层叠而成的、向半导体装置(1)的上方突出的第一外周构造(101),在半导体层(40)的平面图中的第二布线电极(52)的外周部分,形成由栅极电极(19)、保护膜(35)以及第二布线电极(52)的依次层叠而成的、向半导体装置(1)的上方突出的第二外周构造(102)。

    半导体装置
    2.
    发明公开
    半导体装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119137718A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202380036856.1

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 半导体装置(1)具备长边在第1方向上延伸、短边在第2方向上延伸的长方形的半导体芯片(2);半导体芯片(2)具备:第1纵型MOS晶体管(10),具备第1栅极焊盘(119)和多个第1源极焊盘(111);以及第2纵型MOS晶体管(20),具备第2栅极焊盘(129)和多个第2源极焊盘(121);在半导体芯片(2)的上表面,形成有源极焊盘在第1方向上以直线状排列配置的多个第1列状配置区域(71)以及源极焊盘在第2方向上以直线状排列配置的多个第2列状配置区域(72);半导体装置(1)还具备与第1栅极焊盘(119)、多个第1源极焊盘(111)、第2栅极焊盘(129)及多个第2源极焊盘(121)分别连接的多个球型的凸块电极(3)。

    功率放大半导体装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN118974949B

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202380030808.1

    申请日:2023-02-22

    Abstract: 一种功率放大半导体装置(100),以3GHz以上的频率来工作,其具备:基板(101);半导体层(102),被设置在基板(101)的正面且包括多个单位HEMT;连接层(L1),被设置在半导体层(102)上且包括单位HEMT的源极电极(301)、漏极电极(302)和栅极电极(303);端子层(L2),包括设置在连接层(L1)上的源极焊盘(701a)、漏极焊盘(702a)和栅极焊盘(703a);背面电极(103),被设置在基板(101)的背面上且被设定为源极电位;基板过孔(901),贯通基板(101)且在内壁上具有屏蔽布线层(503),功率放大半导体装置(100)还具有漏极汇集部(702)和栅极汇集部(703),在平面视图中,漏极汇集部(702)以及栅极汇集部(703)的任一方或双方的周围由基板过孔(901)包围。

    功率放大半导体装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118974949A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202380030808.1

    申请日:2023-02-22

    Abstract: 一种功率放大半导体装置(100),以3GHz以上的频率来工作,其具备:基板(101);半导体层(102),被设置在基板(101)的正面且包括多个单位HEMT;连接层(L1),被设置在半导体层(102)上且包括单位HEMT的源极电极(301)、漏极电极(302)和栅极电极(303);端子层(L2),包括设置在连接层(L1)上的源极焊盘(701a)、漏极焊盘(702a)和栅极焊盘(703a);背面电极(103),被设置在基板(101)的背面上且被设定为源极电位;基板过孔(901),贯通基板(101)且在内壁上具有屏蔽布线层(503),功率放大半导体装置(100)还具有漏极汇集部(702)和栅极汇集部(703),在平面视图中,漏极汇集部(702)以及栅极汇集部(703)的任一方或双方的周围由基板过孔(901)包围。

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