Invention Publication
- Patent Title: 外延位错分布受控的太阳电池外延结构、太阳电池及其制造方法
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Application No.: CN202411960449.2Application Date: 2024-12-30
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Publication No.: CN119836051APublication Date: 2025-04-15
- Inventor: 马长金 , 张宝 , 高伟 , 胡健楠 , 张启明 , 郭宏亮 , 万荣华 , 刘长喜
- Applicant: 天津蓝天太阳科技有限公司
- Applicant Address: 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰华科七路6号太阳电池及控制器厂房二层
- Assignee: 天津蓝天太阳科技有限公司
- Current Assignee: 天津蓝天太阳科技有限公司
- Current Assignee Address: 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰华科七路6号太阳电池及控制器厂房二层
- Agency: 天津创智睿诚知识产权代理有限公司
- Agent 李薇; 田阳
- Main IPC: H10F77/16
- IPC: H10F77/16 ; H10F77/124 ; H10F77/30 ; H10F10/10 ; H10F71/00

Abstract:
本发明公开了一种外延位错分布受控的太阳电池外延结构、太阳电池及其制造方法,从下到上依次为GaAs衬底、GaAs成核层、GaInP腐蚀阻挡层、GaAs接触层、GaInP顶电池、第一隧穿结、第一渐变缓冲层、GaInAs中间电池、第二隧穿结、晶格过冲层、第二渐变缓冲层、GaInAs底电池以及GaInAs接触层;其中,所述第一渐变缓冲层为AlGaInAs晶格渐变缓冲层,在第一渐变缓冲层中,从初始层到目标渐变层,In组分非线性增大;第二渐变缓冲层为AlGaInAs晶格渐变缓冲层,在第二渐变缓冲层中,In组分从初始层非线性增大到目标渐变层过程中,目标渐变层的前一层In组分含量高于目标渐变层;晶格过冲层中In组分含量高于第二渐变缓冲层的初始层中的In组分含量。可有效提高太阳电池的光电效率。
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