半导体封装
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111755433B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN201911288883.X

    申请日:2019-12-12

    Abstract: 一种半导体封装可包括:封装基底;第一中间基底,安装在封装基底上;以及第一半导体芯片,设置在第一中间基底上。第一中间基底可包括:第一基础层;第二基础层,设置在第一基础层上;电路图案,设置在第一基础层及第二基础层中的每一者中;以及集成器件,嵌置在第一基础层中且连接到电路图案中的至少一个电路图案。第一基础层的顶表面可接触第二基础层的底表面。

    集成电路器件及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118201354A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202311571669.1

    申请日:2023-11-23

    Abstract: 一种集成电路器件,包括:衬底,其具有由器件隔离沟槽限定的多个有源区;器件隔离结构,其包括蚀刻诱导膜并填充器件隔离沟槽,蚀刻诱导膜覆盖器件隔离沟槽底表面;字线沟槽,其与多个有源区和器件隔离结构相交并其在第一横向方向上延伸;栅极电介质膜,其覆盖字线沟槽的内壁;以及字线,其填充字线沟槽的位于栅极电介质膜上的部分,其中,多个有源区中的每个有源区包括在字线下方的鳍主体部分和从鳍主体部分向字线突出的鞍形鳍部分,并且蚀刻诱导膜通过字线沟槽被暴露。

    半导体装置
    3.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN114551448A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202111414765.6

    申请日:2021-11-25

    Abstract: 一种半导体装置包括:衬底上的有源图案;埋置在有源图案的上部的栅极结构;有源图案上的位线结构;位线结构的侧壁上的间隔件结构;接触间隔件结构的接触插塞结构;绝缘中间层结构,其部分地穿过所述接触插塞结构、所述间隔件结构和所述位线结构的上部;以及所述接触插塞结构上的电容器。所述间隔件结构包括具有空气的空气间隔件。所述绝缘中间层结构包括第一绝缘中间层以及第二绝缘中间层。所述第二绝缘中间层可包括与所述第一绝缘中间层的材料不同的绝缘材料。所述第二绝缘中间层的下表面覆盖所述空气间隔件的顶部,并且所述第一绝缘中间层的最下表面被所述第二绝缘中间层覆盖。

    相机模块、图像处理设备和图像压缩方法

    公开(公告)号:CN113556565A

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN202110438984.1

    申请日:2021-04-22

    Abstract: 一种相机模块,包括:压缩器,配置为将包括在图像数据中的多个像素划分为多个像素组;对于多个像素划分为的多个像素组中的每个像素组,基于对应像素组中包括的多个像素的像素值,计算对应像素组的代表像素值;基于多个像素组中的每个像素组的所计算的代表像素值,生成第一压缩数据;对于多个像素划分为的多个像素组中的每个像素组,计算表示对应像素组中包括的多个像素的像素值与对应像素组的代表像素值之间的差的残差值;以及基于多个像素组中的每个像素组的所计算的残差值,生成第二压缩数据。

    半导体封装件
    5.
    发明公开
    半导体封装件 审中-公开

    公开(公告)号:CN112397497A

    公开(公告)日:2021-02-23

    申请号:CN202010405998.9

    申请日:2020-05-14

    Inventor: 崔允硕

    Abstract: 公开了一种半导体封装件,所述半导体封装件包括:第一半导体芯片;位于第一半导体芯片的第一表面上的第二半导体芯片;以及位于第一半导体芯片的第一表面上并且与第二半导体芯片的至少一侧相邻的多个导电柱。第一半导体芯片包括与第一半导体芯片的第一表面相邻的第一电路层。第二半导体芯片和多个导电柱连接到第一半导体芯片的第一表面。

    中介层及包括中介层的半导体封装

    公开(公告)号:CN111755410A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN201911067933.1

    申请日:2019-11-04

    Abstract: 提供一种中介层以及半导体封装。中介层包括:基础基底;互连结构,位于基础基底的顶表面上且包括金属互连图案;上钝化层,位于互连结构上且具有压缩应力;下钝化层,位于基础基底的底表面下面,所述下钝化层具有比上钝化层的压缩应力小的压缩应力;下导电层,位于下钝化层下面;以及贯穿电极,穿透基础基底及下钝化层。所述贯穿电极将下导电层电连接到互连结构的金属互连图案。

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