公开(公告)号：CN1256961A

公开(公告)日：2000-06-21

申请号：CN99122900.2

申请日：1999-12-09

Applicant: 日本派欧尼股份株式会社

Inventor： 晖末八 ,  宫野安定 ,  秋田昇 ,  大塚健二 ,  岛田孝

IPC: B01D53/58

CPC classification number: B01D53/8634 ,  Y02A50/2346

Abstract: 公开一种净化含氨废气的工艺,该工艺包括如下步骤:使废气与加热的氨分解催化剂(如镍、钌)接触,以使大部分氨分解成氮气和氢气;随后使如此得到的混合气体与氨吸附剂(例如合成氟石)接触,以吸收未分解的氨;然后加热再生该吸附剂,同时使含有吸附剂解吸氨的再生废气与该加热的氨分解催化剂或另一个氨分解催化剂接触;还公开一种实现上述工艺的装置。采用上述工艺和装置可以有效地和完全地净化半导体制造等工艺中排出的净化废气,而不产生无用的副产品,并可以省去次级处理。

公开(公告)号：CN1133484C

公开(公告)日：2004-01-07

申请号：CN99122900.2

申请日：1999-12-09

Applicant: 日本派欧尼股份株式会社

Inventor： 晖末八 ,  宫野安定 ,  秋田昇 ,  大塚健二 ,  岛田孝

IPC: B01D53/58

CPC classification number: B01D53/8634 ,  Y02A50/2346

Abstract: 公开一种净化含氨废气的工艺，该工艺包括如下步骤：使废气与加热的氨分解催化剂(如镍、钌)接触，以使大部分氨分解成氮气和氢气；随后使如此得到的混合气体与氨吸附剂(例如合成氟石)接触，以吸收未分解的氨；然后加热再生该吸附剂，同时使含有吸附剂解吸氨的再生废气与该加热的氨分解催化剂或另一个氨分解催化剂接触；还公开一种实现上述工艺的装置。采用上述工艺和装置可以有效地和完全地净化半导体制造等工艺中排出的净化废气，而不产生无用的副产品，并可以省去次级处理。