公开(公告)号：KR1020020097004A

公开(公告)日：2002-12-31

申请号：KR1020020034344

申请日：2002-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  모토다키미오 ,  사다테츠야 ,  미야자키카즈히토 ,  시노기타케토라

IPC: H01L21/31

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a device and a method for processing liquid are provided to be capable of carrying out a uniform liquid processing in a whole substrate, even if the substrate is large. CONSTITUTION: A developing processing unit(DEV)(24) has a first developing liquid supply zone, where developing liquid is applied to the substrate(G), a liquid cutting/rinse zone, where developing liquid is removed from the substrate(G), and a roller transport mechanism(14) for transporting the substrate(G) in one direction in an almost horizontal attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the substrate(G) is made in an inclined posture. The developing liquid is made to flow out and rinse liquid is supplied to the substrate(G), while a rinsing liquid discharge nozzle is moved at a predetermined speed along the surface of the substrate(G) kept in the inclined attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the developing liquid can be removed from the substrate(G). Thus, the occurrence of development unevenness is prevented, and line width uniformity is enhanced.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，装置和液体处理方法，即使基板较大，也能够在整个基板上进行均匀的液体处理。 构成：显影处理单元（DEV）（24）具有第一显影液供应区，其中将显影液施加到基板（G），液体切割/漂洗区，其中显影液从基板（G）移除， 以及用于以几乎水平的姿态沿一个方向输送基板（G）的辊传送机构（14）。 在液体切割/漂洗区域中，基板（G）制成倾斜的姿势。 使冲洗液体排出喷嘴沿着保持在倾斜状态的基板（G）的表面以预定速度移动，使显影液流出并将冲洗液供给到基板（G）。 在液体切割/漂洗区域中，可以从基板（G）移除显影液。 因此，防止显影不均匀的发生，并且线宽均匀性增强。

公开(公告)号：KR101035465B1

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：KR1020030080297

申请日：2003-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  노무라마사푸미 ,  시노기타케토라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03D3/065 ,  G03D3/06 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3071 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 현상방법 및 현상장치에 관한 것으로, 농도측정부(222)는 조합탱크(186)내의 현상액을 일부 채취해서, 흡광광도법에 의해 레지스트농도를 측정하고, 측정결과(레지스트농도 측정치)를 제어부(240)에 보낸다. 제어부(240)는 조합탱크(186)내의 현상액의 TMAH농도가 현상레이트를 일정하게 유지하기 위한 레지스트농도 측정치에 대응하는 TMAH농도치가 되도록, TMAH원액공급관(200), 용매공급관(204) 및 드레인관(208)의 각각의 개폐밸브(210, 212, 216)를 제어해서, 현상액의 성분조정을 행한다. 조합탱크(186)로부터 공급탱크(188)에 옮겨진 현상액은 펌프(228)의 구동에 의해 현상액 공급관(224)을 통해 현상처리부(126)의 현상액 노즐(DN)에 송부된다. 따라서, 현상처리에 있어서 현상액을 다수회 재활용해도 현상 균일성을 확보할 수가 있는 기술을 제공하는 데에 있다.

公开(公告)号：KR100869553B1

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：KR1020020034344

申请日：2002-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  모토다키미오 ,  사다테츠야 ,  미야자키카즈히토 ,  시노기타케토라

IPC: H01L21/31

Abstract: 본 발명은, 기판처리장치, 액처리장치 및 액처리방법에 관한 것으로, 수평방향으로 부설된 반송로상에서 피처리기판에 공급한 처리액을 기판상에서 단시간에 효율적으로 액제거하는 것을 목적으로 한다. 반송로(108)상에서 기판(G)이 소정위치에 걸리면, 반송롤러(138)의 회전을 멈추고 기판(G)을 정지시킨다. 직후에 구동부(188)를 작동시키고 승강축(186)을 상승시킨다. 그렇게 하면 베이스판(182) 및 리프트핀(184)도 상승하고 리프트핀(184)이 아래로부터 밀어올리듯이 하여 기판(G)을 반송로(108) 위쪽으로 들어올린다. 다음으로 베이스판(182)을 반송로(108)의 폭방향으로 연재하는 축(196)을 중심으로 하여 뒤쪽방향으로 소정 각도만큼 회전이동시킨다. 그렇게 하면 리프트핀(192), 스토퍼부재(194), 기판(G)도 반송로(108)위에서 뒤쪽방향으로 동일 각도만큼 기울인다. 기판(G)은 스토퍼부재(194)에 안착하고, 기판(G)상의 액(Q)은 중력으로 기판경사면을 뒤쪽으로 미끌어져 내리게 하여 기판 바깥쪽으로 낙하한다. 기판(G)에서 떨어진 액(Q)은 팬(130)에 수집되도록 하는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR1020040042875A

公开(公告)日：2004-05-20

申请号：KR1020030080297

申请日：2003-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  노무라마사푸미 ,  시노기타케토라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03D3/065 ,  G03D3/06 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3071 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: PURPOSE: A developing method and a developing apparatus are provided to guarantee a uniformity of a developing fluid when at the developing fluid is recycled. CONSTITUTION: A processing unit(126) performs a development process to dissolve an unnecessary portion of a photoresist film on a substrate. The development process is performed by using an alkaline developing fluid. A collector(108) collects the developing fluid used in the development process at the processing unit. A resist concentration measurer(222) measures a resist-concentration of the collected developing fluid. An alkaline-concentration calculator calculates an alkaline-concentration corresponding to a measured value of the resist-concentration required for realizing a uniformity in the development process. A developing fluid combiner(186) controls the component of the developing fluid in order to accomplish the calculated alkaline concentration. A developing fluid supplier(220) provides the processing unit with the developing fluid whose components has been controlled in the developing liquid combiner.

Abstract translation: 目的：提供显影方法和显影装置，以在显影液被再循环时保证显影液的均匀性。 构成：处理单元（126）执行显影处理以将光致抗蚀剂膜的不需要部分溶解在基板上。 显影过程通过使用碱性显影液进行。 收集器（108）在处理单元处收集在显影过程中使用的显影液。 抗蚀剂浓度测量器（222）测量所收集的显影液的抗蚀剂浓度。 碱浓度计算器计算对应于在显影过程中实现均匀性所需的抗蚀剂浓度的测量值的碱浓度。 显影液合成器（186）控制显影液的成分，以达到计算出的碱浓度。 显影液供应器（220）为处理单元提供其组分已被控制在显影液合并器中的显影液。

公开(公告)号：KR1020000023376A

公开(公告)日：2000-04-25

申请号：KR1019990040887

申请日：1999-09-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노기타케토라 ,  쯔카모토타케시

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A rotation cup, coating apparatus, and coating method is provided to prevent a film thickness badness with a processing material by constantly and uniformly maintaining an interval between a bottom surface of a rotation cup and an object-processing substrate. CONSTITUTION: A spin chuck(23) is arranged in a space of a cater cup(20) for protecting and supporting a substrate(G) and a rotation driving equipment is arranged in the space of the cater cup(20) for rotating the spin chuck(23). A resist nozzle(57) is arranged in a position adjacent to the cater cup(20) for coating a resist solution on the substrate(G) arranged on the spin chuck(23). A rotating cup(CP) with a disk shape is arranged to an inner side of a cater cup body(21). The spin chuck(23) is arranged to an inner side of the rotating cup(CP). A driving motor(25) transmits a rotation driving force to a rotating axis(27) through a driving equipment(26) having a belt and a pulley. The rotating axis(27) is moved from an upper part to a lower part according to a rising guide means(32) by a rising driving means(28).

Abstract translation: 目的：提供旋转杯，涂布装置和涂布方法，以通过不断均匀地保持旋转杯的底表面和物体处理基板之间的间隔来防止加工材料的膜厚度不良。 构成：旋转卡盘（23）布置在用于保护和支撑基底（G）的迎杯（20）的空间中，并且旋转驱动设备布置在迎杯（20）的空间中，用于旋转旋转 卡盘（23）。 抗蚀剂喷嘴（57）布置在与迎杯（20）相邻的位置，用于将抗蚀剂溶液涂覆在布置在旋转卡盘（23）上的基底（G）上。 具有圆盘形状的旋转杯（CP）布置在迎杯体（21）的内侧。 旋转卡盘（23）布置在旋转杯（CP）的内侧。 驱动马达（25）通过具有皮带轮和滑轮的驱动装置（26）将旋转驱动力传递到旋转轴线（27）。 根据上升导向装置（32），通过上升驱动装置（28）将旋转轴（27）从上部移动到下部。