公开(公告)号：KR1020030005029A

公开(公告)日：2003-01-15

申请号：KR1020020038676

申请日：2002-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다테츠야 ,  미야자키카즈히토

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/13 ,  B05B13/02 ,  B05C11/02 ,  B65G49/061 ,  H01L21/67051 ,  Y10S414/14

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for processing solution are provided to spread processing solution on a substrate for a short time by scanning a processing solution discharge nozzle, and to improve the quality of the substrate and decrease the defect rate by evenly developing the solution on the substrate. CONSTITUTION: A developing process unit(DEV,24) comprises a roller transferring mechanism(14) for transferring an LCD(Liquid Crystal Display) substrate(G) in a single direction almost in the horizontal attitude, a main developer discharge nozzle(51a) and a sub developer discharge nozzle(51b) for discharging the developer to the LCD substrate, and a nozzle moving mechanism for scanning the main and sub developer discharge nozzles over the LCD substrate. While the main and sub developer discharge nozzles are scanned over the LCD substrate by driving the nozzle moving mechanism, the developer discharge nozzles discharge the developer to the LCD substrate. Accordingly, uniform developing process is performed at the entire part of the LCD substrate by shortening the supply period of the developer.

Abstract translation: 目的：提供一种处理溶液的设备和方法，通过扫描处理液排放喷嘴，在短时间内将处理溶液铺展在基板上，并通过均匀地显影溶液来提高基板的质量并降低缺陷率 底物。 构成：显影处理单元（DEV，24）包括用于在几乎水平姿势下沿单一方向传送LCD（液晶显示器）基板（G）的辊传送机构（14），主显影剂排出喷嘴（51a） 以及用于将显影剂排出到LCD基板的副显影剂排出喷嘴（51b）和用于在LCD基板上扫描主显影剂排放喷嘴和次显影剂排出喷嘴的喷嘴移动机构。 当通过驱动喷嘴移动机构将主显影剂排放喷嘴和次显影剂排出喷嘴扫描在LCD基板上时，显影剂排出喷嘴将显影剂排出到LCD基板。 因此，通过缩短显影剂的供给周期，在LCD基板的整个部分进行均匀的显影处理。

公开(公告)号：KR1020010050940A

公开(公告)日：2001-06-25

申请号：KR1020000059478

申请日：2000-10-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A coat application processor and a coat application processing method are provided in which the film thickness of he coat film can be made uniform and the spattering of the coating liquid can be surely prevented from the start to the end. CONSTITUTION: A coat application processing unit(22) for applying coating liquid on the surface of a substrate(G) comprises a rotation cup(42) having an opening an its upper portion and for storing therein the substrate G, a driver(40) for rotating the substrate(G) in the rotation cup(42), an annular cap(45) mounted on the rotating cup(42) and having an opening(46), a coating-liquid discharging nozzle(51) for discharging the coating liquid to the substrate(G) via the opening(46) of the annular cap(45), a small cap(53) for choking the opening(46), a carrying arm(55) for carrying the small cap(53) and mounting it on the opening(46), and sucking and sticking means(61a,61b,63,64,66) for sucking the small cap(53) and sticking it on the outer periphery of the opening(46).

Abstract translation: 目的：提供涂布涂布处理剂和涂布涂布处理方法，其中可以使涂膜的膜厚均匀，并且可以可靠地防止涂料液体的飞溅从开始到结束。 构成：用于在基材（G）的表面上涂覆涂布液的涂布涂布处理单元（22）包括：旋转杯（42），其具有开口的上部，并用于在其中存储基板G;驱动器（40）， 用于旋转旋转杯（42）中的基板（G），安装在旋转杯（42）上并具有开口（46）的环形盖（45），用于排出涂层的涂布液排放喷嘴（51） 液体经由环形盖（45）的开口（46）到基板（G），用于阻塞开口（46）的小盖（53），用于承载小盖（53）的承载臂（55）和 将其安装在开口（46）上，以及用于吸入小盖（53）并将其粘在开口（46）的外周上的吸附和粘贴装置（61a，61b，63,66,66）。

公开(公告)号：KR100886020B1

公开(公告)日：2009-03-03

申请号：KR1020080041036

申请日：2008-05-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키,켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠,타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은, 기판건조방법 및 기판건조장치에 관한 것으로, 에어나이프에서 분출되는 에어의 풍량을 대기시보다도 많게 하고, 기판의 전단부 부근의 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 그리고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후, 기판 전단부 부근 및 후단부 부근 이외의 영역에서는 영역의 분출량보다도 적게 하여 에어를 분출하여 처리액을 제거하고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후에 다시, 기판(G) 후단부에서의 후단부 부근 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 이에 의해, 기판 전면에 걸쳐 편차가 없고, 완전히 제거할 수 있고 건조얼룩의 발생을 방지할 수 있으며, 또, 영역에서의 에어 분출량을 삭감할 수 있는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明涉及到基底上并干燥所述基板干燥装置，而且比空气的备用流量从空气刀喷雾，并除去附着于该区域在所述衬底的所述前端部的附近的处理液大。 然后，传感器然后检测部基板前端部的预定时间的流逝，比基板前端附近以外，然后靠近端部的区域之后，以小于所述区域的喷射量通过喷射空气，以除去处理液，并在传感器检测到基板前端 附着在基板G后端的后端附近区域的处理液在经过规定时间后再次被除去。 因此，提出了在基板的整个表面上没有偏差，能够完全去除基板的技术，防止发生干燥不均匀并减少该区域中的空气喷射量。

公开(公告)号：KR100869553B1

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：KR1020020034344

申请日：2002-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  모토다키미오 ,  사다테츠야 ,  미야자키카즈히토 ,  시노기타케토라

IPC: H01L21/31

Abstract: 본 발명은, 기판처리장치, 액처리장치 및 액처리방법에 관한 것으로, 수평방향으로 부설된 반송로상에서 피처리기판에 공급한 처리액을 기판상에서 단시간에 효율적으로 액제거하는 것을 목적으로 한다. 반송로(108)상에서 기판(G)이 소정위치에 걸리면, 반송롤러(138)의 회전을 멈추고 기판(G)을 정지시킨다. 직후에 구동부(188)를 작동시키고 승강축(186)을 상승시킨다. 그렇게 하면 베이스판(182) 및 리프트핀(184)도 상승하고 리프트핀(184)이 아래로부터 밀어올리듯이 하여 기판(G)을 반송로(108) 위쪽으로 들어올린다. 다음으로 베이스판(182)을 반송로(108)의 폭방향으로 연재하는 축(196)을 중심으로 하여 뒤쪽방향으로 소정 각도만큼 회전이동시킨다. 그렇게 하면 리프트핀(192), 스토퍼부재(194), 기판(G)도 반송로(108)위에서 뒤쪽방향으로 동일 각도만큼 기울인다. 기판(G)은 스토퍼부재(194)에 안착하고, 기판(G)상의 액(Q)은 중력으로 기판경사면을 뒤쪽으로 미끌어져 내리게 하여 기판 바깥쪽으로 낙하한다. 기판(G)에서 떨어진 액(Q)은 팬(130)에 수집되도록 하는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR100739214B1

公开(公告)日：2007-07-13

申请号：KR1020000054930

申请日：2000-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: G02F1/1333

Abstract: 본 발명은 도포막 형성방법 및 도포처리장치에 관한 것으로서, 개구를 갖추는 환상 뚜껑체를 회전컵에 장착하고, 그 후, 레지스트액 토출노즐로부터 이 환상 뚜껑체의 개구를 통하여 레지스트액을 기판으로 토출하고, 이와 거의 동시에 기판을 회전시켜 기판에 도포막을 형성한 다음, 뚜껑체의 개구에 작은 뚜껑을 장착함과 동시에 기판을 회전시켜 레지스트막의 막두께를 조정함으로써, 도포막의 막두께를 균일하게 형성할 수 있으며, 다이나믹한 도포방식을 채용하는 경우에 있어서도, 도포개시시부터 종료까지 도포액의 비산을 확실히 방지할 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR1020010039904A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020000054930

申请日：2000-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: G02F1/1333

Abstract: PURPOSE: A method for forming coating-film and a coating apparatus are provided to attain a uniform thickness of coating-film and to prevent coating liquid from scattering in coating operation from the start to the end, even when a dynamic coating method is employed. CONSTITUTION: An annular cover plate(45) having an opening(46) is attached to a rotary cup(42), and then resist liquid is charged to a substrate(G) from a resist liquid charge nozzle(51) through an opening(46) of the annular cover plate(45). Almost simultaneously, a coating-film is formed on the substrate(G) by the rotation of the substrate(G), and then a small cover plate(53) is attached to the opening(46) of the cover plate(45) and the resist film thickness is adjusted by the rotation of the substrate(G).

Abstract translation: 目的：提供一种形成涂膜的方法和涂布装置，以获得均匀的涂膜厚度，并且即使采用动态涂布方法，也可以防止涂层操作中涂层液从开始到结束而飞散。 构成：具有开口（46）的环形盖板（45）附接到旋转杯（42），然后将抗液体从抗蚀剂液体充注嘴（51）通过开口（ 46）。 几乎同时，通过基板（G）的旋转在基板（G）上形成涂膜，然后将小盖板（53）附接到盖板（45）的开口（46）上，并且 通过基板（G）的旋转来调整抗蚀剂膜厚度。

公开(公告)号：KR101994874B1

公开(公告)日：2019-07-01

申请号：KR1020140028389

申请日：2014-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  하야시테루유키 ,  콘타유 ,  사다테츠야 ,  니시야마준 ,  사이토히로미 ,  오타츠카사 ,  타나베세이이치

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  H01L21/67

公开(公告)号：KR100937153B1

公开(公告)日：2010-01-15

申请号：KR1020020032035

申请日：2002-06-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키카즈히토 ,  사다테츠야

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 현상처리장치에 관한 것으로, 수평방향으로 부설한 반송로상에서 피처리기판을 반송하면서 현상처리를 단시간에 효율적으로 행하는 기술에 관한 것이다.
이 현상유닛(DEV, 94)은 프로세스라인(B)을 따라 수평방향으로 연재하는 반송로(108)를 형성하는 복수의 모듈(M1 ~ M8)을 일렬로 연속배치하고 이루어진다. 모듈(M1 ~ M8) 중, 최상류단부의 모듈(M1)은 기판반입부(110)를 구성하고 그 다음에 연속하는 4개의 모듈(M2, M3, M4, M5)은 현상부(112)를 구성하고 그 다음 모듈(M6)은 린스부(114)를 구성하며 그 다음 모듈(M7)은 건조부(116)를 구성하고 최후미의 모듈(M8)은 기판반출부(118)를 구성한다. 프리웨트부(124), 현상액공급부(126) 및 린스부(114)에는 반송로(108)에 노즐토출구를 향해 반송로(108)을 따라 쌍방향으로 이동가능한 프리웨트액공급노즐(PN), 현상액공급노즐(DN) 및 린스액공급노즐(RN)이 각각 설치되는 구성의 현상처리장치가 제시된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种显影装置，通过显影处理而传送基板要在水平方向上奠定了输送路径上处理在短时间内有效地进行的技术。

公开(公告)号：KR100904278B1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：KR1020020069891

申请日：2002-11-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다테츠야 ,  신오자키켄야 ,  미야자키카즈히토

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은, 기판처리장치에 관한 것으로, 반송로 상에서 기판이 상하 에어나이프의 옆을 통과할 때, 각각의 기체 분출부는 반송방향 반대방향으로 나이프형상의 예리한 공기를 분출하여 각각 사선 위쪽 및 사선 아래쪽에서 기판 상면 및 하면에 분출한다. 그렇게 하면, 기판의 상하면에 있어서 린스액의 액막과 액방울이 표면장력에 대항하여 기판 후방으로 밀려보내어지거나, 혹은 모여서, 에어의 풍압을 직접 받는 각 미스트 흡입구 부근의 기판표면에서는 미스트가 발생한다. 그러나, 발생한 미스트는 주위로 확산되지 않고 신속하게 각 미스트회수부의 안쪽으로 빨아들여 배기관을 통해 배출된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置，当所述基板通过所述输送路径上的上部和下部空气刀的侧面通过，每个气体喷射单元在相反的方向输送方向以分别喷射锋利气刀形状倾斜顶部和倾斜底部 在基板的上表面和下表面上。 然后，通过发送或针对冲洗液体和液滴到基板表面张力的液体薄膜被推回在基板的上表面和下表面，或一起在经受空气入口的风压直接到每个雾产生的雾在基材表面的附近。 但是，所产生的雾在周围不扩散地迅速地吸入到各雾回收部的内部，通过排气管排出。

公开(公告)号：KR1020080042792A

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：KR1020080041040

申请日：2008-05-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키,켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠,타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  B08B3/024 ,  B65G49/06 ,  H01L21/67034

Abstract: A method and an apparatus for drying a substrate are provided to save energy by removing a high-pressure air compressor and reducing factory labor, and to improve drying efficiency by spouting air to a substrate transferred at first and second areas with first and second nozzles, respectively. A transfer device conveys a substrate(G) in a predetermined direction. A first nozzle(53a) spouts air to the transferred substrate for removing liquid and drying the substrate. A second nozzle(53b) is arranged below the first nozzle for spouting air to the returned substrate for removing liquid and drying the substrate. A blower fan supplies air to the first and second nozzles. A flowmeter measures the amount of air supplied to the first and second nozzles. Sensors adjust the amount of air supplied by the blower fan based on the result obtained by the flowmeter.

Abstract translation: 提供一种用于干燥基板的方法和装置，以通过去除高压空气压缩机并减少工厂劳动力来节省能量，并且通过用第一和第二喷嘴将空气喷射到在第一和第二区域处转移的基板上来提高干燥效率， 分别。 转印装置沿预定方向输送基板（G）。 第一喷嘴（53a）将空气喷射到转移的基板上以除去液体并干燥基板。 第二喷嘴（53b）布置在第一喷嘴的下方，用于将空气喷射到返回的基板上以除去液体并干燥基板。 鼓风机风扇向第一和第二喷嘴供应空气。 流量计测量供应到第一和第二喷嘴的空气量。 传感器根据流量计得到的结果调节鼓风机风量。