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公开(公告)号：KR101003625B1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：KR1020030013395
申请日：2003-03-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 기판에 대해서 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리장치에 관한 것으로서, 기판을 거의 수평인 자세에서 수평방향으로 반송하는 반송로와, 반송로상에서 기판에 소정의 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리부와, 증기를 분사하는 증기 분사 노즐을 1 개 또는 복수를 가져, 액처리부보다 하류측의 반송로상에서 기판에 증기를 내뿜어, 기판상으로부터 액을 쓸어 내는 건조처리부를 가진다.
본 발명에 의하면, 건조 처리후의 기판 표면에 얼룩, 잔존 침전물 및 워터마크 등이 발생하는 것을 억제할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020100004909A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：KR1020090125972
申请日：2009-12-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G03F7/36 , G02F1/1303
Abstract: PURPOSE: A liquid processing method and a liquid processing apparatus for preventing the generation of watermark are provided to improve the quality of the substrate by preventing the generation of the watermark. CONSTITUTION: A substrate is carried in an excimer UV irradiation unit(S1). A dry cleaning by an ultraviolet irradiation is implemented(S2). The contamination of the particle type is removed from the surface of substrate(S3). The dehydration of the substrate operates(S4). A hydrophobic process of the substrate operates(S6). A resist solution is spread in the upper side of substrate. The unnecessary resist of the substrate rim part is removed. The predetermined circuit pattern is exposed to resist.
Abstract translation: 目的：提供一种用于防止产生水印的液体处理方法和液体处理装置，以通过防止水印的产生来提高基板的质量。 构成：在准分子UV照射单元（S1）中载带基板。 实施紫外线照射的干洗（S2）。 颗粒类型的污染物从基材表面去除（S3）。 基板的脱水操作（S4）。 衬底的疏水工艺（S6）。 抗蚀剂溶液扩散在基板的上侧。 去除衬底边缘部分的不必要的抗蚀剂。 预定的电路图案暴露于抗蚀剂。
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公开(公告)号：KR100837849B1
公开(公告)日：2008-06-13
申请号：KR1020010058717
申请日：2001-09-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 도포순서가 토출 시작점(S1)으로부터 토출 종료점(Sn)으로, 기판의 양단부로부터 중심부로 향하도록 도포하고 있기 때문에, 양단부에 있어서 도포열의 건조시간이 대략 동일하게 된다. 따라서 각 도포열의 건조시간이 기판 중심선에 있어서 도포열을 중심으로 하여 대칭으로 되어 있기 때문에, 이 건조상태 그대로 다음 공정의 처리가 진행되어 막두께의 균일성을 확보할 수 있고, 또한 노즐이 기판의 외측을 이동하는 때에는 레지스트액 토출량을 적게 하거나 또는 토출을 정지하고 있기 때문에 레지스트를 절약할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020010039897A
公开(公告)日：2001-05-15
申请号：KR1020000054678
申请日：2000-09-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: To provide a coater capable of detecting the clogging or the like of an ejection hole of a nozzle for applying a coating liquid. CONSTITUTION: A resist liquid is discharged from a nozzle 40 of each coating head 36, which is disposed above a monitoring part 44 located at a standby position 41, onto each pressure sensor 46. When any one of the pressure sensors 46 detects an abnormal value of pressure, it is judged that abnormality, such as clogging, is generated in any one of the ejection holes of the nozzles 40, and the nozzles 40 are cleaned in a cleaning part 45.
Abstract translation: 目的：提供一种能够检测用于涂布涂液的喷嘴的喷射孔的堵塞等的涂布机。 构成：将抗蚀剂液体从位于待机位置41的监视部44上方的各涂布头36的喷嘴40排出到各压力传感器46上。当压力传感器46中的任一个检测到异常值时 的压力，可以判断在喷嘴40的任何一个喷射孔中产生诸如堵塞的异常，并且喷嘴40在清洁部分45中被清洁。
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公开(公告)号：KR101100486B1
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：KR1020060067297
申请日：2006-07-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C5/0208 , H01L21/6776 , H01L21/67784
Abstract: 본 발명은 부상식기판 반송처리장치에 관한 것으로 표면으로부터 기체를 분사 및 흡인해 피처리 기판 (G)를 부상하는 부상 스테이지 (22)와 부상 스테이지의 윗쪽에 배치되어 기판의 표면에 처리액을 공급하는 레지스트액 공급 노즐 (23)과 기판의 양측단을 각각 탈착 가능 및 피처리 기판의 부상 높이에 추종 가능하게 보지함과 동시에 기판을 부상 스테이지상에서 이동하는 이동 수단을 구비하는 부상식 기판 반송 처리 장치에 있어서 부상 스테이지를 다공질 부재 (50)으로 형성 함과 동시에 상기 다공질 부재에 기밀하게 구획되는 복수의 흡인구멍 (52)를 설치해 다공질 부재의 다공질부 (51)에 기체 공급 수단인 콤플레서 (55)를 접속해 흡인구멍에 우회 유로 (56)을 개재하여 흡인 수단인 진공 펌프 (57)을 접속하는 기술을 제공한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100981212B1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：KR1020090125972
申请日：2009-12-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 기판에 대해서 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리장치에 관한 것으로서, 기판을 거의 수평인 자세에서 수평방향으로 반송하는 반송로와, 반송로상에서 기판에 소정의 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리부와, 증기를 분사하는 증기 분사 노즐을 1 개 또는 복수를 가져, 액처리부보다 하류측의 반송로상에서 기판에 증기를 내뿜어, 기판상으로부터 액을 쓸어 내는 건조처리부를 가진다.
본 발명에 의하면, 건조 처리후의 기판 표면에 얼룩, 잔존 침전물 및 워터마크 등이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
기판, 액처리장치, 반송로, 증기 분사 노즐, 건조처리부-
公开(公告)号：KR100873099B1
公开(公告)日：2008-12-09
申请号：KR1020020011973
申请日：2002-03-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 처리장치에 관한 것으로서, 피처리기판(G)에 대해서 복수의 액처리를 포함하는 일련의 처리를 실행하는 처리장치(100)는 피처리기판(G)이 대략 수평으로 반송되면서 액처리가 실행되는 복수의 액처리유니트(21, 23, 24)와 복수의 액처리에 부수되는 열적처리를 실행하는 복수의 열적처리유니트가 집약된 복수의 열적처리 유니트 섹션(26, 27, 28)을 구비한다. 복수의 액처리유니트(21, 23, 24)는 처리순으로, 피처리기판의 반송라인이 평행한 2열의 반송라인(A, B)등과 같이 배치되며, 상기 반송라인(A, B)의 사이에는 공간부(40)가 형성되어 있다. 상기 공간부(40)를 이동가능하게 반송라인(A, B)과의 사이에서 피처리기판(G)이 인도되면 보지되는 기판 보지·이동부재(41)가 설치되는 기술을 제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种处理装置和处理装置（100），用于在待处理的基板（G）上执行包括多个液体处理的一系列处理， 以及多个热处理单元部分（26,27,28），其中多个用于执行热处理的液体处理单元（21,23,24）和多个热处理单元 和。 多个液体处理单元（21，23，24）的中的顺序被处理，被布置诸如传输线平行于所述两行搬送基板的线（A，B），所述输送线（A，B） 形成空间部分40。 提供了一种技术，其中提供了当衬底G在空间部分40和传输线A或B之间传输时被保持的衬底保持和移动部件41。
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公开(公告)号：KR1020020097004A
公开(公告)日：2002-12-31
申请号：KR1020020034344
申请日：2002-06-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/31
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a device and a method for processing liquid are provided to be capable of carrying out a uniform liquid processing in a whole substrate, even if the substrate is large. CONSTITUTION: A developing processing unit(DEV)(24) has a first developing liquid supply zone, where developing liquid is applied to the substrate(G), a liquid cutting/rinse zone, where developing liquid is removed from the substrate(G), and a roller transport mechanism(14) for transporting the substrate(G) in one direction in an almost horizontal attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the substrate(G) is made in an inclined posture. The developing liquid is made to flow out and rinse liquid is supplied to the substrate(G), while a rinsing liquid discharge nozzle is moved at a predetermined speed along the surface of the substrate(G) kept in the inclined attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the developing liquid can be removed from the substrate(G). Thus, the occurrence of development unevenness is prevented, and line width uniformity is enhanced.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，装置和液体处理方法，即使基板较大，也能够在整个基板上进行均匀的液体处理。 构成：显影处理单元（DEV）（24）具有第一显影液供应区，其中将显影液施加到基板（G），液体切割/漂洗区，其中显影液从基板（G）移除， 以及用于以几乎水平的姿态沿一个方向输送基板（G）的辊传送机构（14）。 在液体切割/漂洗区域中，基板（G）制成倾斜的姿势。 使冲洗液体排出喷嘴沿着保持在倾斜状态的基板（G）的表面以预定速度移动，使显影液流出并将冲洗液供给到基板（G）。 在液体切割/漂洗区域中，可以从基板（G）移除显影液。 因此，防止显影不均匀的发生，并且线宽均匀性增强。
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公开(公告)号：KR1020010093066A
公开(公告)日：2001-10-27
申请号：KR1020010014631
申请日：2001-03-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A method for coating a layer is provided to reduce the quantity of the coated layer, by making liquid outflow from a fine outflow hole of an outflow nozzle to a substrate while the substrate is rotated so that the liquid is supplied on the entire surface of the substrate. CONSTITUTION: The liquid flows out from a plurality of fine outflow holes formed on the lower surface of the outflow nozzle to the transferred substrate while the substrate is rotated so that the liquid of a band type is coated on the substrate. The supply of the liquid is stopped. A process for making the thickness of the layer formed on the substrate uniform is performed while the substrate is rotated.
Abstract translation: 目的：提供一种涂覆层的方法，以便在旋转基板时使液体从流出喷嘴的细流出孔流出到基板，从而在整个表面上供应液体，以减少涂层的量 的基底。 构成：在基板旋转的同时，从形成在流出喷嘴的下表面的多个细流出孔流出到转印基板，使得带状的液体涂布在基板上。 停止供应液体。 在基板旋转的同时进行使在基板上形成的层的厚度均匀的工序。
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公开(公告)号：KR100869553B1
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：KR1020020034344
申请日：2002-06-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/31
Abstract: 본 발명은, 기판처리장치, 액처리장치 및 액처리방법에 관한 것으로, 수평방향으로 부설된 반송로상에서 피처리기판에 공급한 처리액을 기판상에서 단시간에 효율적으로 액제거하는 것을 목적으로 한다. 반송로(108)상에서 기판(G)이 소정위치에 걸리면, 반송롤러(138)의 회전을 멈추고 기판(G)을 정지시킨다. 직후에 구동부(188)를 작동시키고 승강축(186)을 상승시킨다. 그렇게 하면 베이스판(182) 및 리프트핀(184)도 상승하고 리프트핀(184)이 아래로부터 밀어올리듯이 하여 기판(G)을 반송로(108) 위쪽으로 들어올린다. 다음으로 베이스판(182)을 반송로(108)의 폭방향으로 연재하는 축(196)을 중심으로 하여 뒤쪽방향으로 소정 각도만큼 회전이동시킨다. 그렇게 하면 리프트핀(192), 스토퍼부재(194), 기판(G)도 반송로(108)위에서 뒤쪽방향으로 동일 각도만큼 기울인다. 기판(G)은 스토퍼부재(194)에 안착하고, 기판(G)상의 액(Q)은 중력으로 기판경사면을 뒤쪽으로 미끌어져 내리게 하여 기판 바깥쪽으로 낙하한다. 기판(G)에서 떨어진 액(Q)은 팬(130)에 수집되도록 하는 기술이 제시된다.
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