실리콘 태양전지 및 그 제조방법
    1.
    发明申请
    실리콘 태양전지 및 그 제조방법 审中-公开
    硅太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号:WO2012157853A2

    公开(公告)日:2012-11-22

    申请号:PCT/KR2012/003037

    申请日:2012-04-20

    CPC classification number: H01L31/02168 H01L31/02363 H01L31/035281 Y02E10/50

    Abstract: 상기의 기술적 과제를 이루기 위한 본 출원의 일 측면에 따른 실리콘 태양 전지의 제조 방법이 개시된다. 상기 실리콘 태양 전지의 제조 방법에 있어서, 먼저, 제1 도전형으로 도핑된 실리콘 기판을 준비한다. 상기 실리콘 기판 상에 상기 제1 도전형과 반대 도전형인 제2 도전형의 에미터층을 형성한다. 상기 에미터층을 가공하여 상기 에미터층의 광흡수 표면적을 증가시킨다. 상기 가공된 에미터층 상에 산화아연 시드층을 수열합성법에 의하여 형성한다. 상기 산화아연 시드층으로부터 나노막대 형태의 산화아연 반사방지층을 수열합성법에 의하여 성장시킨다.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种根据本申请的一个方面的硅太阳能电池的制造方法。 在制造硅太阳能电池的方法中,首先,制备以第一导电类型掺杂的硅衬底。 在硅衬底上形成与第一导电类型相反的第二导电类型的发射极层。 通过处理发射极层来增加发射极层的光吸收表面积。 使用水热法在经处理的发射极层上形成氧化锌籽晶层。 使用水热法从氧化锌种子层生长具有纳米棒形状的氧化锌防反射层。

    실리콘 나노 와이어의 제조 방법 및 이를 이용한 실리콘계 음극 활물질과 리튬 2차전지의 제조방법
    2.
    发明授权
    실리콘 나노 와이어의 제조 방법 및 이를 이용한 실리콘계 음극 활물질과 리튬 2차전지의 제조방법 有权
    2制造硅纳米线的方法和使用该方法制造硅阳极材料和锂二次电池的方法

    公开(公告)号:KR101589458B1

    公开(公告)日:2016-02-02

    申请号:KR1020130120240

    申请日:2013-10-10

    Abstract: 본발명은전기전도도가우수한금속입자가코팅된실리콘나노와이어및 이의제조방법, 상기실리콘나노와이어를이용하여, 실리콘계음극활물질을제조하는방법및 이를이용한리튬 2차전지를제조하는방법을제공한다. 본발명에따른, 금속입자가코팅된실리콘나노와이어를이용하여제조된음극활물질을포함하는리튬 2차전지의경우, 고용량유지및 사이클수명개선효과가있을뿐만아니라, 고속충/방전구현이가능하다. 본발명에따른, 금속입자가코팅된실리콘나노와이어를제조하는방법은, (a) 실리콘기판상에서로이격된제 1 금속입자들을형성하는단계; (b) 상기실리콘기판을선택적으로식각하여실리콘나노와이어를형성하는단계; (c) 상기제 1 금속입자들을제거하는단계; (d) 상기실리콘나노와이어표면상에서로이격된제 2 금속입자들을형성하는단계; 및 (e) 표면상에상기제 2 금속입자들이형성된실리콘나노와이어를상기실리콘기판으로부터분리하는단계를포함한다.

    실리콘 나노 와이어의 제조 방법 및 이를 이용한 실리콘계 음극 활물질과 리튬 2차전지의 제조방법
    3.
    发明公开
    실리콘 나노 와이어의 제조 방법 및 이를 이용한 실리콘계 음극 활물질과 리튬 2차전지의 제조방법 有权
    一种制造硅纳米线的方法和使用该方法的硅阳极材料和锂二次电池的制造方法

    公开(公告)号:KR1020150041818A

    公开(公告)日:2015-04-20

    申请号:KR1020130120240

    申请日:2013-10-10

    CPC classification number: H01M4/48 H01M4/36 H01M4/485 H01M4/62 H01M10/058

    Abstract: 본발명은전기전도도가우수한금속입자가코팅된실리콘나노와이어및 이의제조방법, 상기실리콘나노와이어를이용하여, 실리콘계음극활물질을제조하는방법및 이를이용한리튬 2차전지를제조하는방법을제공한다. 본발명에따른, 금속입자가코팅된실리콘나노와이어를이용하여제조된음극활물질을포함하는리튬 2차전지의경우, 고용량유지및 사이클수명개선효과가있을뿐만아니라, 고속충/방전구현이가능하다. 본발명에따른, 금속입자가코팅된실리콘나노와이어를제조하는방법은, (a) 실리콘기판상에서로이격된제 1 금속입자들을형성하는단계; (b) 상기실리콘기판을선택적으로식각하여실리콘나노와이어를형성하는단계; (c) 상기제 1 금속입자들을제거하는단계; (d) 상기실리콘나노와이어표면상에서로이격된제 2 금속입자들을형성하는단계; 및 (e) 표면상에상기제 2 금속입자들이형성된실리콘나노와이어를상기실리콘기판으로부터분리하는단계를포함한다.

    Abstract translation: 本发明涉及具有导电性优异的金属颗粒的硅纳米线,其制造方法,使用该硅纳米线的硅系负极活性物质的制造方法以及锂二次电池的制造方法 使用方法。 根据本发明的包含通过使用其上涂覆有金属颗粒的硅纳米线制造的硅基负极活性材料的锂二次电池保持其高容量并且具有改善的循环寿命,并且可以高速充电和排出。 根据本发明的用于制造其上涂覆有金属颗粒的硅纳米线的方法包括以下步骤:(a)在硅衬底上形成彼此间隔开的第一金属颗粒; (b)选择性地蚀刻硅衬底以形成硅纳米线; (c)去除第一金属颗粒; (d)在所述硅纳米线上形成彼此间隔开的第二金属颗粒; 和(e)从硅衬底分离硅纳米线与其上形成的第二金属颗粒。

    CIGS 광흡수층 제조 방법
    4.
    发明公开
    CIGS 광흡수층 제조 방법 有权
    CIGS光吸收层的制造方法

    公开(公告)号:KR1020140047762A

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:KR1020120113536

    申请日:2012-10-12

    Abstract: The present invention relates to a method of manufacturing a CIGS light absorbing layer. According to one embodiment of the present invention, the method of manufacturing a CIGS light absorbing layer includes a step of forming a CIGS thin film; a selenization step; and a thermal treatment step. According to one embodiment of the present invention, the CIGS thin film is formed on a substrate by using a selenium precursor solution. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S10) Forming a CIGS thin film on a substrate in a solution method; (S20) Selenizing the CIGS thin film in the solution method; (S30) Thermal treatment in a nitrogen atmosphere chamber

    Abstract translation: 本发明涉及一种制造CIGS光吸收层的方法。 根据本发明的一个实施例,制造CIGS光吸收层的方法包括形成CIGS薄膜的步骤; 硒化步骤 和热处理步骤。 根据本发明的一个实施方案,通过使用硒前体溶液在基底上形成CIGS薄膜。 (附图标记)(AA)开始; (BB)结束; (S10)溶液法在基板上形成CIGS薄膜; (S20)溶液法对CIGS薄膜进行硒化处理; (S30)氮气氛下的热处理

    다공성 실리콘 구조체 및 이를 포함한 이차전지
    5.
    发明授权
    다공성 실리콘 구조체 및 이를 포함한 이차전지 有权
    多孔硅结构和二次电池包括相同

    公开(公告)号:KR101328148B1

    公开(公告)日:2013-11-13

    申请号:KR1020110120242

    申请日:2011-11-17

    Inventor: 백성호 김재현

    Abstract: 기판; 및 상기 기판 위에 배치된 실리콘 미세구체들의 어레이를 포함하되, 상기 실리콘 미세구체들은 속이 비어 있는 구조를 갖는 다공성 실리콘 구조체가 제공된다.

    Abstract translation: 目的:提供硅结构以具有中空结构和高孔隙率,从而释放在充放电期间产生的应力并具有高循环性能和容量。 构造:多孔硅结构(100)包括衬底(110); 以及布置在基底上的硅微球的阵列(120)。 硅微球具有中空结构。 多孔硅结构的制造方法包括通过使聚合物微球自对准而形成球形聚合物膜的步骤; 通过用硅涂覆球形聚合物膜形成多孔硅膜的步骤; 以及通过除去聚合物微球形成中空硅球(!25)的步骤。

    실리콘 태양전지 및 그 제조방법
    6.
    发明公开
    실리콘 태양전지 및 그 제조방법 有权
    硅太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020130009997A

    公开(公告)日:2013-01-24

    申请号:KR1020127027886

    申请日:2012-04-20

    CPC classification number: H01L31/02168 H01L31/02363 H01L31/035281 Y02E10/50

    Abstract: PURPOSE: A silicon solar cell and a manufacturing method thereof are provided to reduce a refractive index in comparison with an antireflection layer of a thin film structure by applying zinc oxide of a nanorod structure with an air gap to an antireflection layer of a silicon solar cell. CONSTITUTION: A light absorption layer(210) includes silicon doped with a P type or N type. An emitter layer(220) includes silicon with opposite conductive type to the light absorption layer. A first electrode(230) is formed on the lower side of the light absorption layer. A second electrode is formed on a part of the emitter layer. An antireflection layer(250) includes a fine structure(221) of a microsize and an ultra fine structure(251) of a nanosize.

    Abstract translation: 目的:提供硅太阳能电池及其制造方法,通过将具有气隙的纳米棒结构的氧化锌应用于硅太阳能电池的防反射层,与薄膜结构的抗反射层相比减小折射率 。 构成:光吸收层(210)包括掺杂有P型或N型的硅。 发射极层(220)包括与光吸收层相反的导电类型的硅。 第一电极(230)形成在光吸收层的下侧。 第二电极形成在发射极层的一部分上。 抗反射层(250)包括微尺寸的精细结构(221)和纳米尺寸的超细结构(251)。

    질소가 도핑된 환원된 그래핀 옥사이드의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 질소가 도핑된 환원된 그래핀 옥사이드
    10.
    发明公开
    질소가 도핑된 환원된 그래핀 옥사이드의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 질소가 도핑된 환원된 그래핀 옥사이드 有权
    还原和N掺杂的石墨烯氧化物的制备方法以及还原和N掺杂的石墨烯氧化物

    公开(公告)号:KR1020160127252A

    公开(公告)日:2016-11-03

    申请号:KR1020150057963

    申请日:2015-04-24

    Abstract: 본발명은그래핀옥사이드(graphene oxide, GO) 및테트라메틸암모늄하이드록사이드(tetramethylammonium hydroxide, TMAH)를포함하는혼합용액을제조하는단계(단계 1); 및상기단계 1에서제조된혼합용액을가열하는단계(단계 2);를포함하는환원및 질소가도핑된그래핀옥사이드의제조방법를제공한다. 본발명에따른환원및 질소가도핑된그래핀옥사이드의제조방법은질소도펀트로서테트라메틸암모늄하이드록사이드라는 4 차암모늄염을사용함으로써저온에서도충분한환원및 질소가도핑된그래핀옥사이드를제조할수 있다. 또한, 그래핀옥사이드및 테트라메틸암모늄하이드록사이드의혼합비율을조절함으로써질소도핑레벨(doping level)을조절할수 있다. 나아가, 별도의첨가제를포함하지않고환원및 질소가도핑된그래핀옥사이드를제조할수 있기때문에친환경적이고, 액상공정으로대량생산이가능하다.

    Abstract translation: 本发明提供还原和N-掺杂的石墨烯氧化物的制备方法,包括以下步骤:制备含有氧化石墨烯(GO)和氢氧化四甲基铵(TMAH)(步骤1)的混合溶液,并加热步骤1中制备的混合溶液 第2步)。 本发明的还原型和N-掺杂石墨烯氧化物的制备方法可以通过使用四铵氢氧化铵(四铵盐)作为氮掺杂剂,即使在低温也能提供完全还原和N-掺杂的石墨烯氧化物。 根据该方法,可以通过控制氧化石墨烯和四甲基氢氧化铵的混合比来调节N掺杂水平。 此外,该方法不需要任何额外的添加剂来制备还原和N-掺杂的石墨烯氧化物,因此它是一种促进大规模生产的纯环境方法。

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