中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

13 records (took 0.029 seconds)

    PLASMA-CREATED BARRIERS FOR PACKAGING
    5.
    发明专利
    PLASMA-CREATED BARRIERS FOR PACKAGING 未知

    公开(公告)号：AU2023282438A1

    公开(公告)日：2024-12-19

    申请号：AU2023282438

    申请日：2023-06-09

    Applicant: BASF SE

    Inventor： HIRTH SABINE ,  KELLERMEIER MATTHIAS ,  LANGER NICOLLE ,  FREIRE CORREA MATEUS

    IPC: C23C16/50 ,  B05D1/00 ,  C23C16/455

    Abstract: In a first aspect, the invention relates to a coated substrate, wherein the coating is obtained or obtainable from depositing on a surface of a substrate by a plasma-assisted deposition method a reaction product of a fluorine-free compound selected from the group consisting of a lactam with 4 to 8 ring atoms, a lactone with 4 to 8 ring atoms, vinylacetate, polyvinylpyrrolidone, C5 to C8 alkyne and mixtures of two or more of these compounds. A second aspect of the invention is related to a plasma-assisted deposition method for applying a coating based on a reaction product of a fluorine-free compound onto a surface of a substrate. A third aspect of the invention is related to the use of a coated substrate according to the first aspect or of a coated substrate obtained or obtainable from the plasma-assisted deposition method of the second aspect, for packaging, storing and/or transporting a good selected from the group consisting of food, beverage and chemical wherein the good is preferably a chemical, wherein the chemical is preferably a hazardous substance (transported as dangerous good) or an agrochemical, more preferably an agrochemical.

    BARRERAS CREADAS CON PLASMA PARA ENVASADO
    6.
    发明专利
    BARRERAS CREADAS CON PLASMA PARA ENVASADO 未知

    公开(公告)号：AR129581A1

    公开(公告)日：2024-09-11

    申请号：ARP230101485

    申请日：2023-06-09

    Applicant: BASF SE

    Inventor： HIRTH SABINE ,  KELLERMEIER MATTHIAS ,  LANGER NICOLLE ,  FREIRE CORREA MATEUS

    IPC: B05D1/00 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50

    Abstract: En un primer aspecto, un sustrato recubierto, en donde el recubrimiento se obtiene o se puede obtener a partir de depósito sobre una superficie de un sustrato mediante un método de depósito asistido por plasma de un producto de reacción de un compuesto libre de flúor seleccionado del grupo que consiste en una lactama con 4 a 8 átomos de anillo, una lactona con 4 a 8 átomos de anillo, vinilacetato, polivinilpirrolidona, C₅ a C₈ alquino y mezclas de dos o más de estos compuestos. Un segundo aspecto, un método de depósito asistido por plasma para aplicar un recubrimiento en función de un producto de reacción de un compuesto libre de flúor sobre una superficie de un sustrato. Un tercer aspecto, el uso de un sustrato recubierto de acuerdo con el primer aspecto o de un sustrato recubierto obtenido o que se puede obtener a partir del método de depósito asistido por plasma del segundo aspecto, para envasado, almacenamiento y/o transporte de un bien seleccionado del grupo que consiste en alimentos, bebida y productos químicos, en donde el bien es preferentemente un producto químico, en donde el producto químico es preferentemente una sustancia peligrosa (transportada como un bien peligroso) o un producto agroquímico, con mayor preferencia, un producto agroquímico.

    Complejos metálicos que contienen ligandos de diazabencimidazolcarbeno y su uso en OLED
    7.
    发明专利
    Complejos metálicos que contienen ligandos de diazabencimidazolcarbeno y su uso en OLED 未知

    公开(公告)号：ES2525757T3

    公开(公告)日：2014-12-30

    申请号：ES10790441

    申请日：2010-12-13

    Applicant: BASF SE

    Inventor： FUCHS EVELYN ,  LANGER NICOLLE ,  MOLT OLIVER ,  DORMANN KORINNA ,  SCHILDKNECHT CHRISTIAN ,  WATANABE SOICHI ,  WAGENBLAST GERHARD ,  LENNARTZ CHRISTIAN ,  SCHÄFER THOMAS ,  WOLLEB HEINZ ,  FIGUEIRA DUARTE TERESA MARINA ,  METZ STEFAN ,  MURER PETER

    IPC: C07F15/00 ,  H01L51/00 ,  H01L51/50

    Abstract: Complejo de metal-carbeno de formula general (I)**Fórmula** en la que M, n, Y, A2, A3, A4, A5, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, 5 R8, R9, R10, K, L, m y o presentan los siguientes significados: M es Ir o Pt, n es número entero seleccionado de 1, 2 ó 3, Y es NR1, O, S o C(R10)2, A2, A3, A4, A5 independientemente unos de otros son N o C, en donde 2 A >= átomos de N y está presente en el anillo entre dos átomos de N al menos un átomo de C, R1 es un resto alquilo con 1 a 20 átomos de carbono lineal o ramificado, interrumpido dado el caso por al menos un heteroátomo, que porta dado el caso al menos un grupo funcional, resto cicloalquilo con 3 a 20 átomos de carbono, resto arilo con 6 a 30 átomos de carbono sustituido o no sustituido, resto heteroarilo con un total de 5 a 18 átomos de carbono y/o heteroátomos sustituido o no sustituido, R2, R3, R4, R5 son, en el caso de que A2, A3, A4 y/o A5 signifiquen N, un par de electrones libres o, en el caso de que A2, A3, A4 y/o A5 signifiquen C, independientemente unos de otros hidrógeno, un resto alquilo con 1 a 20 átomos de carbono lineal o ramificado, interrumpido dado el caso por al menos un heterátomo, que porta dado el caso al menos un grupo funcional, resto cicloalquilo con 3 a 20 átomos de carbono, resto arilo con 6 20 a 30 átomos de carbono sustituido o no sustituido, resto heteroarilo con un total de 5 a 18 átomos de carbono y/o heteroátomos sustituido o no sustituido, grupo con efecto donador o aceptor o R3 y R4 forman junto con A3 y A4 un anillo con un total de 5 a 18 átomos de carbono y/o heteroátomos, interrumpido dado el caso por al menos otro heteroátomo, insaturado, dado el caso sustituido, R6, R7, R8, R9 independientemente unos de otros son hidrógeno, un resto alquilo con 1 a 20 átomos de carbono lineal o ramificado, interrumpido dado el caso por al menos un heteroátomo, que porta dado el caso al menos un grupo funcional, resto cicloalquilo con 3 a 20 átomos de carbono, resto cicloheteroalquilo con 3 a 20 átomos de carbono, resto arilo con 6 a 30 átomos de carbono sustituido o no sustituido, resto heteroarilo con un total de 5 a 18 átomos de carbono y/o heteroátomos sustituido o no sustituido, con un esqueleto base seleccionado de piridilo, pirimidilo, pirazilo, triazolilo, pirrol, furano, tiofeno, pirazol, triazol, oxazol y tiazol, grupo con efecto donador o aceptor, seleccionado de restos de halógeno, restos sililo, restos siloxi, restos alcoxi, restos ariloxi, restos carbonilo, restos éster, grupos CH2F, grupos CHF2, grupos CF3, grupos CN, grupos tio y grupos SCN

Patent Agency Ranking