公开(公告)号：RU2579597C2

公开(公告)日：2016-04-10

申请号：RU2012123720

申请日：2010-11-10

Applicant: BASF SE

Inventor： LAUTER MIKHAEL ,  RAMAN VIDZHAJ IMMANUEL ,  LI JUZHUO ,  VENKATARAMAN SHIJAM SUNDAR ,  SHEN DANIEL KVO-KHUNG

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304

Abstract: Изобретениеотноситсяк композициидляхимико-механическойполировки, применяемойприизготовленииинтегральныхсхеми микроэлектромеханическихустройств. Композициясодержит (А) поменьшеймереодинтипнеорганическихчастиц, которыедиспергированыв жидкойсреде (В), (Б) поменьшеймереодинтипполимерныхчастиц, которыедиспергированыв жидкойсреде (В), (В) жидкуюсреду, гдедзета-потенциалнеорганическихчастиц (А) вжидкойсреде (В) идзета-потенциалполимерныхчастицв жидкойсреде (В) являютсяположительными. Полимерныечастицы (Б) представляютсобойсополимер, содержащийстироли/илидивинилбензоли метакриламид, иимеютпоменьшеймереодинтипфункцинальнойгруппы, котораяявляетсядиалкиламино-группойилиимидазольнойгруппой, причеммассовоеотношениеполимерныхчастиц (Б) кнеорганическимчастицам (А) находитсяв интервалеот 0,001 до 0,06, авеличинарНкомпозициинаходитсяв интервалеот 4 до 6. Описантакжеспособполучениякомпозициидляхимико-механическойполировки, способпроизводстваполупроводниковыхустройств, включающиххимико-механическуюполировкуи применениекомпозициидляхимико-механическойполировкиповерхностейсубстратов, используемыхв полупроводниковойпромышленностии дляустройствс узкощелевойизоляцией. Техническийрезультат - улучшениехарактеристикполировки, особеннов отношенииинтенсивностисъемаматериалаи шагаснижениявысоты. 5 н. и 7 з.п. ф-лы, 6 табл., 9 пр., 4 ил.