公开(公告)号：RU2605941C2

公开(公告)日：2016-12-27

申请号：RU2014107763

申请日：2012-07-30

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN MARTEN ,  DRESHER BETTINA ,  ZHILLO KRISTOF ,  LI JUZHUO

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: Изобретениеотноситсяк композициидляхимико-механическогополирования (ХМП) ик ееприменениюдляполированияподложекдляполупроводниковойпромышленности. Способизготовленияполупроводниковыхустройстввключаетхимико-механическоеполированиеэлементарногогерманияи/илиматериала SiGe, вкотором 0,1≤x

公开(公告)号：RU2579597C2

公开(公告)日：2016-04-10

申请号：RU2012123720

申请日：2010-11-10

Applicant: BASF SE

Inventor： LAUTER MIKHAEL ,  RAMAN VIDZHAJ IMMANUEL ,  LI JUZHUO ,  VENKATARAMAN SHIJAM SUNDAR ,  SHEN DANIEL KVO-KHUNG

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304

Abstract: Изобретениеотноситсяк композициидляхимико-механическойполировки, применяемойприизготовленииинтегральныхсхеми микроэлектромеханическихустройств. Композициясодержит (А) поменьшеймереодинтипнеорганическихчастиц, которыедиспергированыв жидкойсреде (В), (Б) поменьшеймереодинтипполимерныхчастиц, которыедиспергированыв жидкойсреде (В), (В) жидкуюсреду, гдедзета-потенциалнеорганическихчастиц (А) вжидкойсреде (В) идзета-потенциалполимерныхчастицв жидкойсреде (В) являютсяположительными. Полимерныечастицы (Б) представляютсобойсополимер, содержащийстироли/илидивинилбензоли метакриламид, иимеютпоменьшеймереодинтипфункцинальнойгруппы, котораяявляетсядиалкиламино-группойилиимидазольнойгруппой, причеммассовоеотношениеполимерныхчастиц (Б) кнеорганическимчастицам (А) находитсяв интервалеот 0,001 до 0,06, авеличинарНкомпозициинаходитсяв интервалеот 4 до 6. Описантакжеспособполучениякомпозициидляхимико-механическойполировки, способпроизводстваполупроводниковыхустройств, включающиххимико-механическуюполировкуи применениекомпозициидляхимико-механическойполировкиповерхностейсубстратов, используемыхв полупроводниковойпромышленностии дляустройствс узкощелевойизоляцией. Техническийрезультат - улучшениехарактеристикполировки, особеннов отношенииинтенсивностисъемаматериалаи шагаснижениявысоты. 5 н. и 7 з.п. ф-лы, 6 табл., 9 пр., 4 ил.

公开(公告)号：RU2577281C2

公开(公告)日：2016-03-10

申请号：RU2013115235

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： LI JUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN

IPC: C09G1/04 ,  C09G1/02 ,  C09G1/18 ,  C09K3/14

Abstract: Изобретениенаправленонаводнуюполирующуюкомпозицию, котораяособенноподходитдляполированияматериаловподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройств. Композициясодержит (A) абразивныечастицы, которыеположительнозаряжены, когдадиспергированыв воднойсреде, имеющей pH винтервалеот 3 до 9; (B) водорастворимыеилидиспергируемыев водекомпоненты, выбранныеиз (b1) алифатическихи циклоалифатическихоксикарбоновыхкислот, гдемолярноеотношениегидроксильныхгруппк группамкарбоновыхкислотсоставляетпоменьшеймере 2; (b2) сложныхэфировилилактоновоксикарбоновыхкислот (b1), имеющихпоменьшеймередвегидроксильныегруппы; и (b3) ихсмесей; и (C) водорастворимыеилидиспергируемыев водеполимерныекомпоненты, выбранныеиз (c1) линейныхи разветвленныхполимеровалкиленоксидов; (c2) линейныхи разветвленных, алифатическихи циклоалифатическихполи(N-виниламидных) полимеров; и (c3) катионныхполимерныхфлокулянтов, имеющихсреднемассовуюмолекулярнуюмассуменее 100000 Дальтон. Композициядемонстрируетулучшеннуюоксид/нитридселективностьи обеспечиваетполучениеотполированныхпластин, имеющиххорошуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 4 н. и 9 з.п. ф-лы, 6 табл., 6 пр.

公开(公告)号：RU2573672C2

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：RU2013115237

申请日：2011-09-05

Applicant: BASF SE

Inventor： LI JUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  CHIU VEJ LAN UILLIAM ,  PINDER KHARVI UEHJN

IPC: C09G1/02 ,  B24B7/22 ,  B24B37/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

Abstract: Изобретениеотноситсяк новойводнойполирующейкомпозициидляполированияполупроводниковыхподложек, содержащихпленкидиэлектрикаоксидакремнияи поликремния, атакженеобязательносодержащихпленкинитридакремния. Указаннаяводнаяполирующаякомпозициясодержит (A) поменьшеймереодинтипабразивныхчастиц, (В) от 0,001 до 5,0 мас.% поменьшеймереодногорастворимогов водеполимера, (С) поменьшеймереодинанионныйфосфатныйдиспергирующийагент. Абразивныечастицы (А) содержатилисостоятиздиоксидацерия, положительнозаряженыпридиспергированиив воднойсреде, свободнойоткомпонента (C) иимеющей pH винтервалеот 3 до 9, чтоподтверждаетсяэлектрофоретическойподвижностью. Компонент (B) поменьшеймереэтоодинрастворимыйв водеполимер, выбранизгруппы, состоящейизлинейныхи разветвленныхгомополимерови сополимеровалкиленоксидов. Изобретениеотноситсяи кспособуполированияподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройствс применениемуказаннойводнойполирующейкомпозиции. Полирующаякомпозицияпоизобретениюобладаетзначительноулучшеннойселективностьюоксид/поликремнийи обеспечиваетполучениеполированныхпластин, имеющихпревосходнуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 6 табл., 9 пр.