公开(公告)号：US09493877B1

公开(公告)日：2016-11-15

申请号：US15144735

申请日：2016-05-02

Applicant: Innovative Micro Technology

Inventor： John Harley ,  Jeffery F. Summers ,  Tao Gilbert

IPC: C23F1/02 ,  C23F4/00 ,  C23F1/12 ,  H01J37/32 ,  C23F1/16 ,  C23F1/38 ,  C23F1/44 ,  B81C1/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C23F1/02 ,  B81C1/00531 ,  B81C1/00539 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/0133 ,  C23F1/16 ,  C23F1/38 ,  C23F1/44 ,  C23F4/00 ,  G03F7/0041 ,  H01J37/32009 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/02244 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/32136 ,  H01L21/32139

Abstract: A method for creating small features in an Al/Ag/Ti multilayer stack is disclosed. The method uses a combination of wet and dry etching techniques to anisotropically etch the layers.

Abstract translation: 公开了一种用于在Al / Ag / Ti多层叠层中形成小特征的方法。 该方法使用湿式和干式蚀刻技术的组合来各向异性地蚀刻层。