公开(公告)号：WO2013092920A3

公开(公告)日：2013-10-03

申请号：PCT/EP2012076498

申请日：2012-12-20

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY ,  DALLA PIAZZA SILVIO

IPC: G04F5/06 ,  B23K26/00 ,  B81C1/00 ,  G02B6/12 ,  G04B17/06 ,  G04B17/34 ,  G04C3/12 ,  G04G17/02

CPC classification number: H03H9/19 ,  B23K26/0057 ,  B81B2201/0271 ,  B81B2203/0118 ,  B81C1/00595 ,  B81C2201/0143 ,  F21V17/02 ,  G04B17/066 ,  G04B17/345 ,  G04C3/12 ,  G04F5/063 ,  G04G17/02 ,  H01L41/0475 ,  H01L41/332 ,  H03H9/215

Abstract: The present invention relates to a method of fabricating a resonator in a substrate, characterized in that it comprises the following steps: a) modifying the structure of at least one zone of the substrate so as to render said at least one zone more selective; b) etching said at least zone so as to selectively fabricate said resonator.

Abstract translation: 本发明涉及一种在衬底中制造谐振器的方法，其特征在于它包括以下步骤：a）改变衬底的至少一个区域的结构，以使所述至少一个区域更具选择性; b）蚀刻所述至少一个区域以选择性地制造所述谐振器。

公开(公告)号：WO2007059876A2

公开(公告)日：2007-05-31

申请号：PCT/EP2006010854

申请日：2006-11-13

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD ,  HESSLER THIERRY ,  GRUPP JOACHIM

Inventor： HESSLER THIERRY ,  GRUPP JOACHIM

IPC: G04B17/22 ,  C03C23/00 ,  F16F1/10 ,  G04B17/06 ,  G04D3/00

CPC classification number: F16F1/10 ,  C03C15/00 ,  C03C23/002 ,  F16F1/021 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/203 ,  G04B17/066 ,  G04B17/227 ,  G04D3/0089

Abstract: The invention concerns a spiral spring made from a photostructurable glass plate by UV irradiation, heat treatment and chemical etching, said glass having a thermal coefficient of Young modulus CTE 0 . By UV irradiation through one or more masks, optionally completed by a heat treatment, selected zones of the spiral spring have a CTE 0 modified into a CTE i value.

Abstract translation: 本发明涉及一种通过UV照射，热处理和化学蚀刻由可光结构玻璃板制成的螺旋弹簧，所述玻璃具有杨氏模量CTE _{0 的热系数。 通过一个或多个掩模的UV照射（任选地通过热处理完成），螺旋弹簧的选定区域具有被修改为CTE i 值的CTE 0 。}

公开(公告)号：EP2514094B1

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：EP10781637

申请日：2010-11-10

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY ,  CONUS THIERRY ,  TRÜMPY KASPAR

IPC: H03H9/02 ,  G04B17/06 ,  G04B17/22 ,  H03H3/007

CPC classification number: H03H9/02448 ,  G04B17/227 ,  H01L41/22 ,  H03H3/0076

公开(公告)号：RU2603236C2

公开(公告)日：2016-11-27

申请号：RU2014128595

申请日：2012-12-07

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY

IPC: G04B31/004

Abstract: Ударостойкийподшипникдляхронометравключаетв себяупругуюструктуру (10) ицентральныйучасток (14), опирающийсянауказаннуюупругуюструктуру, науказанномцентральномучасткеимеетсяглухоеотверстие (16A), предназначенноедляприемацапфысистемывращающихсяшестеренхронометра. Упругаяструктураи центральныйучастокобразованыцельнойдеталью (6), образованноймонокристаллическимкварцем, аглухоеотверстиеимеет, поменьшеймеречастично, формуусеченнойилинеусеченнойтрехграннойпирамиды, вкоторуюупираетсявстыктореццапфы. Изобретениетакжеотноситсяк способуизготовленияударостойкогоподшипникаподобноготипа, вкоторомцельнаяпластинаобрабатываетсяв ваннедляанизотропноготравлениямонокристаллическогокварца. Предпочтительнонадвестороныпластиныпомещаютсядвесоответствующиемаски (20, 26) дляодновременноготравлениякварцас обеихсторон. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 10 ил.

公开(公告)号：RU2590873C1

公开(公告)日：2016-07-10

申请号：RU2015105254

申请日：2015-02-16

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY ,  SARCHI DAVIDE ,  STRANCZL MARC

IPC: G04B18/00

Abstract: Способподдержанияи регулированиячастотыколебательнойсистемы (1) часовоколоеесобственнойчастоты (ω0). Регулирующееустройство (2) воздействуетнаколебательнуюсистему (1) спериодическимколебанием, вызывающимпоменьшеймерепериодическоеизменениерезонанснойчастотыколебательнойсистемы (1) ипоменьшеймереодноизменениеактивнойдлиныпружиныколебательнойсистемы (1) срегулировочнойчастотой (ωR), котораясоставляетот 0,9 до 1,1 отзначенияцелогократногособственнойчастоты (ω0), причемупомянутоецелоебольшеилиравно 2 именьшеилиравно 10. 3 н. и 19 з.п. ф-лы, 11 ил.

公开(公告)号：HK1210637A1

公开(公告)日：2016-04-29

申请号：HK15111368

申请日：2015-11-18

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY ,  GUEISSAZ FRANCOIS ,  WILLEMIN MICHEL ,  MARTIN JEAN-CLAUDE

IPC: G04B20060101

Abstract: The element (1) has a balance (2), a balance coq (3), and a hairspring (4) secured between the balance and the balance coq. The hairspring transmits and diffuses light emitted by a light energy source (5), where the hairspring is formed from quartz, glass, ceramic or material partially transparent to visible and/or UV wavelengths or a partially amorphous material. The balance coq carries the source near an external end (6) of the hair spring. The balance carries the light energy source near an internal end (7) of the hair spring. An independent claim is also included for a mechanical clockwork movement.

公开(公告)号：CH709280A2

公开(公告)日：2015-08-28

申请号：CH2042014

申请日：2014-02-17

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY ,  SARCHI DAVIDE ,  STRANCZL MARC

IPC: G04B17/26 ,  G04B17/06

Abstract: L’invention concerne un procédé d’entretien et de régulation d’un mécanisme résonateur d’horlogerie autour de sa fréquence propre ω0 mettant en œuvre au moins un dispositif régulateur (71, 72) agissant sur ledit mécanisme résonateur avec un mouvement périodique. Ledit mouvement périodique impose une modulation périodique de la fréquence de résonance et/ou du facteur de qualité et/ou du point de repos dudit mécanisme résonateur, avec une fréquence de régulation ωR qui est comprise entre 0.9 fois et 1.1 fois la valeur d’un multiple entier de ladite fréquence propre ω0, ledit entier étant supérieur ou égal à 2.

公开(公告)号：CH707058A2

公开(公告)日：2014-04-15

申请号：CH18552012

申请日：2012-10-04

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY ,  GUEISSAZ FRANÇOIS ,  WILLEMIN MICHEL ,  MARTIN JEAN-CLAUDE

IPC: G04B17/06 ,  G04B45/02

Abstract: L’invention concerne un organe régulateur (1) de montre ou de pièce d’horlogerie comportant un balancier (2), un coq (3) et au moins un ressort-spiral (4) fixé entre ledit balancier (2) et ledit coq (3). Ledit au moins un ressort-spiral (4) est en quartz ou en verre ou en céramique ou partiellement transparent aux longueurs d’onde visible et/ou ultra-violet ou en matériau au moins partiellement amorphe, et transmet et diffuse de la lumière émise par au moins une source d’énergie lumineuse (5).

公开(公告)号：HK1183526A1

公开(公告)日：2013-12-27

申请号：HK13110948

申请日：2013-09-25

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： SARCHI DAVIDE ,  KARAPATIS NAKIS ,  HESSLER THIERRY ,  HELFER JEAN-LUC

IPC: G04B20060101

Abstract: The timepiece (1) has a first resonator (R1) oscillating at first frequency and connected to a main energy source (B2) by a main gear train (T2) via a main escapement (D2) i.e. detent escapement. A second resonator (R2) oscillates at second frequency, where the second frequency is a product of the first frequency according to a factor, which is a rational number. The second resonator cooperates with the escapement for releasing the escapement to maintain the first resonator when the second resonator oscillates. The escapement comprises a single escape wheel cooperating with two detents. The detents are controlled by the first resonator and the second resonator, respectively.

公开(公告)号：CH705861A2

公开(公告)日：2013-06-14

申请号：CH27292012

申请日：2012-12-07

Applicant: SWATCH GROUP RES & DEV LTD

Inventor： HESSLER THIERRY

IPC: G04B31/02 ,  G04B31/06

Abstract: L’invention a pour objet un palier antichoc pour pièce d’horlogerie comprenant une structure élastique (10) et une partie centrale (14) portée par cette structure élastique, cette partie centrale présentant un trou borgne (16A) destiné à recevoir un pivot d’un mobile tournant de la pièce d’horlogerie. La structure élastique et la partie centrale sont formées par une seule plaquette monobloc (6) constituée de quartz monocristallin et le trou borgne présente au moins partiellement la forme d’une pyramide trigonale tronquée ou non tronquée contre laquelle vient buter l’extrémité du pivot. L’invention concerne également un procédé de fabrication d’un tel palier antichoc dans lequel il est prévu d’usiner la plaquette monobloc dans un bain chimique de gravure anisotrope du quartz monocristallin. De préférence, deux masques (20, 26) sont agencés respectivement des deux côtés de la plaquette pour effectuer simultanément une attaque du quartz depuis les deux côtés.