公开(公告)号：CN109338332A

公开(公告)日：2019-02-15

申请号：CN201811013286.1

申请日：2018-08-31

Applicant: 复旦大学

Inventor： 邓海 ,  李雪苗

IPC: C23C16/44 ,  B05D1/00 ,  B05D7/24 ,  C23C16/04 ,  C23C16/18 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  G03F7/039

CPC classification number: C23C16/44 ,  B05D1/005 ,  B05D7/24 ,  C23C16/042 ,  C23C16/18 ,  C23C16/403 ,  C23C16/45525 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明公开了一种高χ值嵌段共聚物的导向自组装方法，包括以下步骤：S1：提供基底模板；S2：在所述基底模板上形成薄膜修饰层；S3：将高χ值嵌段共聚物溶液旋涂于所述薄膜修饰层上；S4：退火，使所述高χ值嵌段共聚物在所述薄膜修饰层上进行相分离，最终形成长程有序的垂直层状结构排列。本发明技术方案的高χ值嵌段共聚物的导向自组装方法对基底模板进行修饰，将高χ值嵌段共聚物旋涂于修饰层上使原本平行于基底模板排列的层状相结构垂直于基底模板排列，解决了高χ值嵌段共聚物的图形取向问题。

公开(公告)号：CN104870386B

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201380068416.0

申请日：2013-12-20

Applicant: 法国圣戈班玻璃厂 ,  法国国家科学研究中心

Inventor： A.贝纳克利 ,  E.布尔雅-拉米 ,  F.吉耶莫

IPC: C03C1/00 ,  C03C17/00 ,  C04B41/50 ,  C04B41/87

CPC classification number: C03C17/007 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B05D5/06 ,  C03C1/008 ,  C03C17/002 ,  C03C17/2456 ,  C03C17/3417 ,  C03C2217/425 ,  C03C2217/45 ,  C03C2217/477 ,  C03C2217/48 ,  C03C2217/71 ,  C03C2217/73 ,  C03C2217/732 ,  C03C2218/113 ,  C03C2218/116 ,  C03C2218/154 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/0481 ,  H01L51/5275 ,  Y10T428/24997

Abstract: 一种透明玻璃或陶瓷或玻璃陶瓷基板，涂有功能层或至少两个功能层的叠层，所述功能层或该叠层的所述功能层的至少一个是多孔的并由无机材料M1制成，其特征在于，无机材料M1的多孔功能层或多孔功能层的至少一种在其孔隙的至少一部分的表面处具有至少一种不同于M1的无机材料M2。

公开(公告)号：CN108269735A

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：CN201711106323.9

申请日：2017-11-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 簗濑优

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/62 ,  G03F1/82

CPC classification number: C01B32/184 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/107 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/62 ,  Y10S977/734 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/892

Abstract: 本发明的目的在于提供用于得到石墨烯膜的有效的制造方法和对EUV光表现出高透射率的表膜构件的制造方法。本发明的特征在于，包括：准备设置在衬底上的石墨烯的工序；用保护膜覆盖石墨烯的工序；通过湿式蚀刻除去衬底的工序；以及使用表面张力比湿式蚀刻所使用的湿式蚀刻液小的溶剂将保护膜溶解而除去的工序。

公开(公告)号：CN108248155A

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201711435286.6

申请日：2017-12-26

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 山田和夫 ,  长尾洋平 ,  照井弘敏 ,  山内优

IPC: B32B17/00 ,  B32B17/10 ,  B32B27/00

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05D3/0272 ,  B32B17/06 ,  B32B27/281 ,  B32B38/10 ,  B32B2255/26 ,  B32B2457/00 ,  B32B17/00 ,  B32B17/064 ,  B32B27/00

Abstract: 本发明涉及层叠体、带有机硅树脂层的支撑基材、带有机硅树脂层的树脂基板、及电子器件的制造方法。本发明提供一种耐发泡性优异的层叠体，其依次具备支撑基材、有机硅树脂层和基板，上述有机硅树脂层包含选自由锆、铝、及锡组成的组中的至少1种金属元素。

公开(公告)号：CN105131326B

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201510363815.0

申请日：2015-03-31

Applicant: 帕尔公司

Inventor： K·A-H·H·阿米尔 ,  S·石

IPC: C08J9/26 ,  C08J5/18 ,  C08J7/00 ,  C08L53/00

CPC classification number: B01D71/80 ,  B01D67/0011 ,  B01D67/0016 ,  B01D67/0083 ,  B01D69/02 ,  B01D71/52 ,  B01D71/62 ,  B01D71/72 ,  B05D1/005

Abstract: 公开了式(I)的自组装二嵌段共聚物形成的膜：其中R1‑R4，n和m如本文所述，其可以用于制备纳米多孔膜。含有自组装为圆柱形态的二嵌段共聚物的膜的实施方式。同样公开了一种制备这种膜的方法，其包括旋涂涂覆含有二嵌段共聚物的聚合物溶液以获得薄膜，随后在溶剂蒸气中退火该薄膜层和/或在溶剂或溶剂混合物中浸泡以形成纳米多孔膜。

公开(公告)号：CN103460808B

公开(公告)日：2018-06-01

申请号：CN201280016534.2

申请日：2012-03-30

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 福浦知浩

IPC: H05B33/24 ,  H05B33/12 ,  H01L51/52 ,  H01L27/32 ,  H01L33/50 ,  H01L31/055 ,  G02B5/00 ,  B22F1/00 ,  C03C17/00 ,  B05D1/00 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00

CPC classification number: G02B5/008 ,  B05D1/005 ,  B22F1/0018 ,  B22F1/0096 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00 ,  C03C17/007 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3223 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/3422 ,  C08G2261/95 ,  H01L27/322 ,  H01L31/055 ,  H01L33/502 ,  H01L51/5203 ,  H01L51/5262 ,  H05B33/12 ,  H05B33/24 ,  Y10T428/12153 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/256

Abstract: 本发明提供一种金属系粒子集合体，其为30个以上的金属系粒子相互隔开并二维配置而成的粒子集合体，其中，该金属系粒子的平均粒径为200～1600nm的范围内，平均高度为55～500nm的范围内、以平均粒径相对于平均高度之比定义的径高比为1～8的范围内，该金属系粒子是按照与其相邻的金属系粒子的平均距离为1～150nm的范围内的方式配置的。该金属系粒子集合体显示了极强的等离子振子共振，且等离子振子共振的作用范围扩大至极长距离。

公开(公告)号：CN105848865B

公开(公告)日：2018-04-13

申请号：CN201480071161.8

申请日：2014-11-17

Applicant: 光学转变公司

Inventor： P·J·林奇 ,  M·F·哈雷 ,  A·乔普拉

IPC: B29D11/00

CPC classification number: B05C13/02 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0493 ,  B05D7/50 ,  B24B13/0012 ,  B29D11/00 ,  B29D11/00028 ,  B29D11/00653 ,  B29D11/00865 ,  G02C7/06 ,  G02C7/102

Abstract: 描述了形成光致变色分段多焦点透镜的方法。该方法包括，通过模制形成分段多焦点透镜坯，其中该分段多焦点透镜坯具有前表面和后表面。该分段多焦点透镜坯的前表面包括分段光学屈光度增加部分。该方法进一步包括，研磨该分段多焦点透镜坯的后表面，从而形成具有前表面和后表面的完成的分段多焦点透镜。该完成的分段多焦点透镜的前表面包括该分段光学屈光度增加部分。该方法还包括，在该完成的分段多焦点透镜的后表面的至少一部分之上形成光致变色涂层。该光致变色涂层包括至少一种光致变色化合物。

公开(公告)号：CN105565292B

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201410594881.4

申请日：2014-10-29

Applicant: 北京大学

Inventor： 张锦 ,  胡悦 ,  康黎星 ,  赵秋辰 ,  张树辰

IPC: C01B32/159 ,  C01B32/162 ,  B82Y30/00

CPC classification number: C30B29/02 ,  B05D1/005 ,  B05D1/60 ,  B05D3/007 ,  B05D3/0406 ,  B05D3/0453 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B31/0233 ,  C01B32/162 ,  C01B2202/02 ,  C01B2202/08 ,  C01B2202/22 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/26 ,  C23C16/45512 ,  C30B25/186 ,  C30B29/20 ,  C30B31/04 ,  H01L51/0002 ,  H01L51/0048 ,  H01L51/0541 ,  H01L51/0558 ,  H01L51/0566 ,  Y10S977/75 ,  Y10S977/843 ,  Y10S977/938

Abstract: 本发明公开了一种超高密度单壁碳纳米管水平阵列及其制备方法。该方法，包括如下步骤：在单晶生长基底上加载催化剂，退火后，在化学气相沉积系统中通入氢气进行所述催化剂的还原反应，并保持氢气的通入进行单壁碳纳米管的定向生长即得。该方法制备得到超高密度单壁碳纳米管水平阵列的密度超过130根/微米，这是目前世界上已报道直接生长密度最高的单壁碳纳米管水平阵列。对本发明制备的超高密度单壁碳纳米管水平阵列进行电学性能测试，其开电流密度达到380μA/μm，跨导达到102.5μS/μm，均是目前世界上碳纳米管场效应晶体管中的最高水平。

公开(公告)号：CN107851601A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680018313.7

申请日：2016-03-23

Applicant: 奥贝达克特公司

Inventor： 皮阿珉·木斐勒

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC classification number: B05C13/00 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68742

Abstract: 用于保持涂布设备的衬底的旋转板，其旋转板包括多个抽吸点，其特征在于环形高部，其中环形高部的直径基本对应于衬底的直径。

公开(公告)号：CN105449111B

公开(公告)日：2018-03-20

申请号：CN201610012450.1

申请日：2016-01-08

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 李延钊 ,  李重君 ,  陈卓 ,  张渊明

IPC: H01L51/50 ,  H01L51/56

CPC classification number: H01L51/502 ,  B05D1/005 ,  H01L21/82 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/50 ,  H01L51/5004 ,  H01L51/5036 ,  H01L51/56

Abstract: 提供一种具有结合层的量子点发光二极管基板及其制备方法。所述量子点发光二极管基板包括多个亚像素发光区域，其中每个亚像素发光区域包括发光层，所述发光层包括结合层和与所述结合层结合的量子点。所述量子点发光二极管基板可以以高的分辨率和方便的工艺制备，适合于大规模生产。