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公开(公告)号：TW201812471A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106123902
申请日：2017-07-18
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡斯庫瑞恩 柯恩 艾德瑞安納斯 , VERSCHUREN, COEN ADRIANUS , 史莫克曼 厄文 保羅 , SMAKMAN, ERWIN PAUL
CPC classification number: G03F7/70433 , G03F1/50 , G03F7/70425 , G03F7/70508
Abstract: 本發明描述一種經組態以處理複數個基板之直接寫入曝光設備，該設備包含： - 一基板固持器，其經組態以固持具有一可用圖案化區域之一基板； - 一圖案化系統，其經組態以將不同圖案投影至該基板上； - 一處理系統，其經組態以： ○ 判定將施加於該複數個基板之一第一基板上的一或多個圖案之一第一組合；及 ○ 判定將施加於該複數個基板之一後續第二基板上的一或多個圖案之一不同第二組合。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种经组态以处理复数个基板之直接写入曝光设备，该设备包含： - 一基板固持器，其经组态以固持具有一可用图案化区域之一基板； - 一图案化系统，其经组态以将不同图案投影至该基板上； - 一处理系统，其经组态以： ○ 判定将施加于该复数个基板之一第一基板上的一或多个图案之一第一组合；及 ○ 判定将施加于该复数个基板之一后续第二基板上的一或多个图案之一不同第二组合。
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公开(公告)号：TW201812438A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106121048
申请日：2017-06-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 潘得利 塔克希 , PANDLEY, TAKSH , 賽門斯 馬克 克里斯多福 , SIMMONS, MARK CHRISTOPHER
CPC classification number: G03F1/36 , G03F7/70433 , G06F17/5081
Abstract: 本發明提供一種程序，其包括：獲得指定一微影圖案之一佈局之資料；獲得該佈局之一計算分析之效能度量，該等效能度量指示執行該計算分析之各別部分之一或多個電腦程序的效能；使該等效能度量與在該等各別效能度量之量測期間經處理的該佈局之部分相關；及基於使該等效能度量與在量測期間經處理的該佈局之部分相關之一結果而產生一三維或更高維視覺化，其中該等視覺化維度中之至少一些指示該佈局之部分之相對位置且該等視覺化維度中之至少一些指示與該等各別部分相關之一效能度量。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种进程，其包括：获得指定一微影图案之一布局之数据；获得该布局之一计算分析之性能度量，该等性能度量指示运行该计算分析之各别部分之一或多个电脑进程的性能；使该等性能度量与在该等各别性能度量之量测期间经处理的该布局之部分相关；及基于使该等性能度量与在量测期间经处理的该布局之部分相关之一结果而产生一三维或更高维可视化，其中该等可视化维度中之至少一些指示该布局之部分之相对位置且该等可视化维度中之至少一些指示与该等各别部分相关之一性能度量。
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93.发明专利
公开(公告)号：TW201805736A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106139757
申请日：2016-04-01
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 斐貞金 吉拉德 , FEIJEN,KIM GERARD , 范 布爾亨利克斯 威爾翰瑪斯 瑪莉亞 , VAN BUEL,HENRICUS WILHELMUS MARIA , 寇克馬汀那斯 喬瑟夫 , KOK,MARTINUS JOSEPH
IPC: G03F7/20 , G01N21/956
CPC classification number: G03F9/7088 , G01B11/0616 , G01B11/14 , G01B11/272 , G01N21/956 , G02B3/14 , G02B26/004 , G02B27/0068 , G03F7/706 , G03F7/70683 , G03F9/7069 , G03F9/7092
Abstract: 本發明提供一種檢測裝置(例如，一散射計)，其包含：一基板支撐件，其用於支撐一基板；及一光學系統。一照明系統藉由輻射照明一目標(T)。一定位系統(518)移動該光學系統及該基板支撐件中之一者或兩者以便相對於該光學系統定位一個別目標(T)，使得成像光學件可使用繞射輻射之一部分以在一影像感測器(23)上形成目標結構之一影像。藉由前饋式控制來控制(902)一液體透鏡(722)以使該影像克服振動及/或該光學系統與該目標結構之間的掃描移動而維持靜止。在一第二態樣中，在不同波長下進行測量期間，液體透鏡(1324，1363)經控制用以校正色像差。此校正可使將照明聚焦於目標(T)上及/或將一影像聚焦於一影像感測器(23)上有所改良。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种检测设备(例如，一散射计)，其包含：一基板支撑件，其用于支撑一基板；及一光学系统。一照明系统借由辐射照明一目标(T)。一定位系统(518)移动该光学系统及该基板支撑件中之一者或两者以便相对于该光学系统定位一个别目标(T)，使得成像光学件可使用绕射辐射之一部分以在一影像传感器(23)上形成目标结构之一影像。借由前馈式控制来控制(902)一液体透镜(722)以使该影像克服振动及/或该光学系统与该目标结构之间的扫描移动而维持静止。在一第二态样中，在不同波长下进行测量期间，液体透镜(1324，1363)经控制用以校正色像差。此校正可使将照明聚焦于目标(T)上及/或将一影像聚焦于一影像传感器(23)上有所改良。
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公开(公告)号：TW201800875A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106117086
申请日：2017-05-24
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 巴特勒 漢司 , BUTLER, HANS , 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS , 迪 威特 保羅 寇尼 亨利 , DE WIT, PAUL CORNE HENRI
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70808
Abstract: 本發明提供一種微影裝置，其包含一基板台、一投影系統、一編碼器系統、一量測框架及一量測系統。該基板台具有用於固持一基板之一固持表面。該投影系統係用於將一影像投影於該基板上。該編碼器系統係用於提供表示該基板台之一位置之一信號。該量測系統係用於量測該微影裝置之一性質。該固持表面係沿著一平面。該投影系統處於該平面之一第一側處。該量測框架經配置以支撐在不同於該第一側的該平面之一第二側處的該編碼器系統之至少部分及該量測系統之至少部分。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种微影设备，其包含一基板台、一投影系统、一编码器系统、一量测框架及一量测系统。该基板台具有用于固持一基板之一固持表面。该投影系统系用于将一影像投影于该基板上。该编码器系统系用于提供表示该基板台之一位置之一信号。该量测系统系用于量测该微影设备之一性质。该固持表面系沿着一平面。该投影系统处于该平面之一第一侧处。该量测框架经配置以支撑在不同于该第一侧的该平面之一第二侧处的该编码器系统之至少部分及该量测系统之至少部分。
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公开(公告)号：TW201800738A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106107533
申请日：2017-03-08
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 蔻妮 威樂 馬力 朱立亞 麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL , 寇尼茲南柏格 亞力山德 派斯提亞 , KONIJNENBERG, ALEXANDER PRASETYA
IPC: G01N21/33 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F9/00
CPC classification number: G01N21/47 , G01N21/33 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F9/7092
Abstract: 本發明揭示一種獲得描述一物件結構之資料之方法。該方法包含以下步驟：(a)藉由照明輻射照明該物件結構；(b)在藉由該物件結構散射之後調變該照明輻射之相位，該調變包含施加取決於至少一個可控制參數之一第一相位因數及具有一向量範數之一次加性函數之一形式之一像差函數；(c)捕獲複數個強度圖案，其中每一強度圖案對應於該至少一個可控制參數之一唯一值；以及(d)基於該複數個強度圖案重建構描述該物件結構之該資料。本發明亦揭示對應檢測及微影設備、製造元件之方法及電腦程式。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种获得描述一对象结构之数据之方法。该方法包含以下步骤：(a)借由照明辐射照明该对象结构；(b)在借由该对象结构散射之后调制该照明辐射之相位，该调制包含施加取决于至少一个可控制参数之一第一相位因子及具有一矢量范数之一次加性函数之一形式之一像差函数；(c)捕获复数个强度图案，其中每一强度图案对应于该至少一个可控制参数之一唯一值；以及(d)基于该复数个强度图案重建构描述该对象结构之该数据。本发明亦揭示对应检测及微影设备、制造组件之方法及电脑进程。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201741779A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106106742
申请日：2017-03-01
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡 力司特 雅得安 喬漢 , VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN , 柴特瑪司 艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼 保羅 克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克 納馬拉 艾略特 葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 沃馬 艾羅克 , VERMA, ALOK , 休威斯 湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 , CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH , 迪 拉 福恩特 范諾汀 瑪麗亞 伊莎貝爾 , DE LA FUENTE VALENTIN, MARIA ISABEL , 凡 維特明 柯恩 , VAN WITTEVEEN, KOEN , 薩爾 瑪蒂貞 瑪麗亞 , ZAAL, MARTIJN MARIA , 王淑錦 , WANG, SHU JIN
IPC: G03F7/20 , G01N21/88 , G01N21/95 , G06F17/50 , H01L21/308
CPC classification number: G06F17/5072 , G01B3/14 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2021/8887 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01L21/308 , H01L22/12
Abstract: 一種度量衡目標，其包括：一第一結構，其經配置以藉由一第一圖案化製程而產生；及一第二結構，其經配置以藉由一第二圖案化製程而產生，其中該第一結構及/或該第二結構並不用以產生一器件圖案之一功能態樣，且其中該第一結構及該第二結構一起形成一單位胞元之一或多個例項，該單位胞元在一標稱實體組態下具有幾何對稱性，且其中該單位胞元具有一特徵，該特徵在不同於該標稱實體組態之一實體組態下歸因於該第一圖案化製程、該第二圖案化製程及/或另一圖案化製程中之圖案置放之一相對移位而造成該單位胞元中之一不對稱性。
Abstract in simplified Chinese: 一种度量衡目标，其包括：一第一结构，其经配置以借由一第一图案化制程而产生；及一第二结构，其经配置以借由一第二图案化制程而产生，其中该第一结构及/或该第二结构并不用以产生一器件图案之一功能态样，且其中该第一结构及该第二结构一起形成一单位胞元之一或多个实例，该单位胞元在一标称实体组态下具有几何对称性，且其中该单位胞元具有一特征，该特征在不同于该标称实体组态之一实体组态下归因于该第一图案化制程、该第二图案化制程及/或另一图案化制程中之图案置放之一相对移位而造成该单位胞元中之一不对称性。
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公开(公告)号：TW201740213A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106106030
申请日：2017-02-23
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 范弗丹當克 麥可 喬漢斯 , VERVOORDELDONK, MICHAEL JOHANNES , 羅夫 傑瑞 , LOF, JOERI
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G03F7/7075 , G03F7/70733 , G03F7/70875
Abstract: 本發明提供一種用於處置一基板之基板處置系統，其包含一固持器、一旋轉裝置及一移動器。該固持器係用於固持該基板。該旋轉裝置係用於使該固持器圍繞垂直於一平面之一軸線旋轉。該移動器係用於使該固持器相對於該軸線沿著該平面中之一路徑移動。另外，提供一種包含該基板處置系統之微影設備。該基板處置系統可包含經配置以在一第一情形下將該固持器耦接至該移動器及該旋轉裝置中之一者之一耦接裝置。該耦接裝置可經配置以在一第二情形下將該固持器與該移動器及該旋轉裝置中之該者解耦。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于处置一基板之基板处置系统，其包含一固持器、一旋转设备及一移动器。该固持器系用于固持该基板。该旋转设备系用于使该固持器围绕垂直于一平面之一轴线旋转。该移动器系用于使该固持器相对于该轴线沿着该平面中之一路径移动。另外，提供一种包含该基板处置系统之微影设备。该基板处置系统可包含经配置以在一第一情形下将该固持器耦接至该移动器及该旋转设备中之一者之一耦接设备。该耦接设备可经配置以在一第二情形下将该固持器与该移动器及该旋转设备中之该者解耦。
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公开(公告)号：TW201740211A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106105219
申请日：2017-02-17
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 希可利 哈奇 爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 石橋真史 , ISHIBASHI, MASASHI , 凡 迪傑克 里昂 保羅 , VAN DIJK, LEON PAUL , 凡 哈倫 理查 喬哈奈 法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS , 柳星蘭 , LIU, XING LAN , 強布洛特 雷納 瑪麗亞 , JUNGBLUT, REINER MARIA , 艾凡德斯奇吉 賽德利克 馬可 , AFFENTAUSCHEGG, CEDRIC MARC , 歐頓 羅納德 亨利克斯 喬哈奈 , OTTEN, RONALD HENRICUS JOHANNES
CPC classification number: G03F9/7034 , G03F7/70258 , G03F7/70633 , G03F7/70783 , G03F9/7011
Abstract: 一種微影程序，其包括：將一基板(W)夾持(CL)至一基板支撐件(WT)上；量測(AS)橫越該經夾持基板之標記之位置；及使用經量測之該等位置將一圖案施加至該經夾持。基於橫越該基板而量測之該等位置中的一翹曲誘發性特性(402、404、406)之辨識而將一校正(WCOR)應用於該經施加圖案在該基板之局域化區中之定位。在一項實施例中，首先藉由使用該等經量測位置及其他資訊(CDAT)推斷該翹曲基板之一或多個形狀特性(FFW)來產生該校正。接著，基於該等經推斷形狀特性，應用一夾持模型(WCM)以回應於夾持而模擬該翹曲基板之變形。第三，基於該經模擬變形計算該校正(LCOR)。可由一查找表整合及/或實施此等步驟中的一些或全部。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影进程，其包括：将一基板(W)夹持(CL)至一基板支撑件(WT)上；量测(AS)横越该经夹持基板之标记之位置；及使用经量测之该等位置将一图案施加至该经夹持。基于横越该基板而量测之该等位置中的一翘曲诱发性特性(402、404、406)之辨识而将一校正(WCOR)应用于该经施加图案在该基板之局域化区中之定位。在一项实施例中，首先借由使用该等经量测位置及其他信息(CDAT)推断该翘曲基板之一或多个形状特性(FFW)来产生该校正。接着，基于该等经推断形状特性，应用一夹持模型(WCM)以回应于夹持而仿真该翘曲基板之变形。第三，基于该经仿真变形计算该校正(LCOR)。可由一查找表集成及/或实施此等步骤中的一些或全部。
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公开(公告)号：TW201740209A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106100929
申请日：2017-01-12
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 裘寧克 安德烈 伯納德斯 , JEUNINK, ANDRE BERNARDUS , 馬汀斯 羅比 法蘭西斯科斯 喬瑟夫司 , MARTENS, ROBBY FRANCISCUS JOSEPHUS , 丹 佛絲 葉瑟芙 卡倫 馬莉雅 , DE VOS, YOUSSEF KAREL MARIA , 凡 朵斯特 雷哥 彼德斯 康納利斯 , VAN DORST, RINGO PETRUS CORNELIS , 譚 柏格 傑哈德 艾伯特 , TEN BRINKE, GERHARD ALBERT , 珊登 德爾克 杰洛米 安德烈 , SENDEN, DIRK JEROME ANDRE , 柏提斯 寇音 修伯特 邁修斯 , BALTIS, COEN HUBERTUS MATHEUS , 傑利森 賈斯汀 裘漢斯 赫馬努斯 , GERRITZEN, JUSTIN JOHANNES HERMANUS , 卡敏加 吉而摩 馬修斯 , KAMMINGA, JELMER MATTHEUS , 帕西提 伊芙琳 瓦莉斯 , PACITTI, EVELYN WALLIS , 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 西柏利奇 艾利 可尼利斯 , SCHEIBERLICH, ARIE CORNELIS , 史古登 伯特 德克 , SCHOLTEN, BERT DIRK , 史卡德 安卓列 , SCHREUDER, ANDRE , 索薩德 雅伯罕 亞歷山卓 , SOETHOUDT, ABRAHAM ALEXANDER , 特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 , TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER , 凡 迪 威弗 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/6838 , G03F7/707 , G03F7/70733 , H01L21/68742
Abstract: 一種用於自經組態以支撐一基板之一支撐台卸載該基板之方法，該方法包含：經由該支撐台中之複數個氣流開口將氣體供應至該支撐台之一基座表面與該基板之間的一間隙，其中在卸載之一初始階段期間，經由該支撐台之一外部區域中之至少一個氣流開口供應該氣體，並且不經由該支撐台之在該外部區域徑向內部之一中心區域中之任一氣流開口供應該氣體；及在卸載之一後續階段期間，經由該外部區域中之至少一個氣流開口及該中心區域中之至少一個氣流開口供應該氣體。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于自经组态以支撑一基板之一支撑台卸载该基板之方法，该方法包含：经由该支撑台中之复数个气流开口将气体供应至该支撑台之一基座表面与该基板之间的一间隙，其中在卸载之一初始阶段期间，经由该支撑台之一外部区域中之至少一个气流开口供应该气体，并且不经由该支撑台之在该外部区域径向内部之一中心区域中之任一气流开口供应该气体；及在卸载之一后续阶段期间，经由该外部区域中之至少一个气流开口及该中心区域中之至少一个气流开口供应该气体。
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公开(公告)号：TW201740077A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106114027
申请日：2017-04-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 林楠 , LIN, NAN , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 吉朋 尼爾斯 , GEYPEN, NIELS
CPC classification number: G03F7/70616 , G01B11/24 , G01N21/9501 , G02F1/3551 , G02F1/37 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , H01S3/0092 , H01S3/1305 , H01S3/1625 , H01S3/1636
Abstract: 本發明揭示一種在一檢測裝置中執行一量測之方法，及一種相關聯檢測裝置及高諧波產生(HHG)源。該方法包含：組態一高諧波產生輻射源之至少一個驅動雷射脈衝之一或多個可控制特性以控制由該高諧波產生輻射源提供的照明輻射之輸出發射光譜；及運用該照明輻射照明一目標結構。該方法可包含組態該驅動雷射脈衝使得該輸出發射光譜包含複數個離散諧波波峰。替代地，該方法可包含使用具有不同波長之複數個驅動雷射脈衝使得該輸出發射光譜係實質上單色的。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种在一检测设备中运行一量测之方法，及一种相关联检测设备及高谐波产生(HHG)源。该方法包含：组态一高谐波产生辐射源之至少一个驱动激光脉冲之一或多个可控制特性以控制由该高谐波产生辐射源提供的照明辐射之输出发射光谱；及运用该照明辐射照明一目标结构。该方法可包含组态该驱动激光脉冲使得该输出发射光谱包含复数个离散谐波波峰。替代地，该方法可包含使用具有不同波长之复数个驱动激光脉冲使得该输出发射光谱系实质上单色的。
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