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公开(公告)号：TW201740077A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106114027
申请日：2017-04-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 林楠 , LIN, NAN , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 吉朋 尼爾斯 , GEYPEN, NIELS
CPC classification number: G03F7/70616 , G01B11/24 , G01N21/9501 , G02F1/3551 , G02F1/37 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , H01S3/0092 , H01S3/1305 , H01S3/1625 , H01S3/1636
Abstract: 本發明揭示一種在一檢測裝置中執行一量測之方法，及一種相關聯檢測裝置及高諧波產生(HHG)源。該方法包含：組態一高諧波產生輻射源之至少一個驅動雷射脈衝之一或多個可控制特性以控制由該高諧波產生輻射源提供的照明輻射之輸出發射光譜；及運用該照明輻射照明一目標結構。該方法可包含組態該驅動雷射脈衝使得該輸出發射光譜包含複數個離散諧波波峰。替代地，該方法可包含使用具有不同波長之複數個驅動雷射脈衝使得該輸出發射光譜係實質上單色的。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种在一检测设备中运行一量测之方法，及一种相关联检测设备及高谐波产生(HHG)源。该方法包含：组态一高谐波产生辐射源之至少一个驱动激光脉冲之一或多个可控制特性以控制由该高谐波产生辐射源提供的照明辐射之输出发射光谱；及运用该照明辐射照明一目标结构。该方法可包含组态该驱动激光脉冲使得该输出发射光谱包含复数个离散谐波波峰。替代地，该方法可包含使用具有不同波长之复数个驱动激光脉冲使得该输出发射光谱系实质上单色的。
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公开(公告)号：TW201832024A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107102311
申请日：2018-01-23
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 林楠 , LIN, NAN , 蔻妮 威樂 馬力 朱立亞 麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
Abstract: 藉由一微影程序將諸如疊對光柵(Ta及Tb)之目標結構形成於一基板(W)上。運用一第一輻射光點(456a、Sa)來照明第一目標，且同時地運用一第二輻射光點(456b、Sb)來照明第二目標。一感測器(418)在不同部位處偵測已由該第一目標之特徵在一第一方向上繞射的該第一輻射之部分(460x-、460x+)及已由該第二目標之特徵在一第二方向上繞射的該第二輻射之部分(460y-、460y+)。可同時地偵測在X及Y方向上之不對稱性，從而縮減在X及Y上之疊對量測所需要之時間。可僅僅藉由激發一高階諧波產生(HHG)輻射源或逆Compton散射源中之兩個部位(710a、710b)而產生在軟x射線波長下之該兩個輻射光點。
Abstract in simplified Chinese: 借由一微影进程将诸如叠对光栅(Ta及Tb)之目标结构形成于一基板(W)上。运用一第一辐射光点(456a、Sa)来照明第一目标，且同时地运用一第二辐射光点(456b、Sb)来照明第二目标。一传感器(418)在不同部位处侦测已由该第一目标之特征在一第一方向上绕射的该第一辐射之部分(460x-、460x+)及已由该第二目标之特征在一第二方向上绕射的该第二辐射之部分(460y-、460y+)。可同时地侦测在X及Y方向上之不对称性，从而缩减在X及Y上之叠对量测所需要之时间。可仅仅借由激发一高级谐波产生(HHG)辐射源或逆Compton散射源中之两个部位(710a、710b)而产生在软x射线波长下之该两个辐射光点。
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公开(公告)号：TWI692634B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW108107994
申请日：2017-08-18
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
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公开(公告)号：TWI634394B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106114730
申请日：2017-05-04
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 林楠 , LIN, NAN , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201805615A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106114028
申请日：2017-04-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 林楠 , LIN, NAN
CPC classification number: G03F7/70616 , G01N21/47 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G01N2021/4704 , G01N2021/4735 , G01N2021/8822 , G01N2021/95615 , G01N2201/12 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/7065 , G03F7/70683 , G03F9/7003 , H01L22/12
Abstract: 運用(例如)在x射線或EUV波帶中之輻射來輻照一所關注結構(T)，且藉由一偵測器(19、274、908、1012)偵測散射輻射。一處理器(PU) (例如)藉由模擬(S16)輻射與一結構之相互作用且比較(S17)該經模擬相互作用與該偵測到輻射來計算諸如線寬(CD)或疊對(OV)之一性質。修改(S14a、S15a、S19a)該方法以考量由該檢測輻射造成的該結構之改變。此等改變可為(例如)材料之收縮或其光學特性之改變。該等改變可由當前觀測中或一先前觀測中之檢測輻射造成。
Abstract in simplified Chinese: 运用(例如)在x射线或EUV波带中之辐射来辐照一所关注结构(T)，且借由一侦测器(19、274、908、1012)侦测散射辐射。一处理器(PU) (例如)借由仿真(S16)辐射与一结构之相互作用且比较(S17)该经仿真相互作用与该侦测到辐射来计算诸如线宽(CD)或叠对(OV)之一性质。修改(S14a、S15a、S19a)该方法以考量由该检测辐射造成的该结构之改变。此等改变可为(例如)材料之收缩或其光学特性之改变。该等改变可由当前观测中或一先前观测中之检测辐射造成。
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公开(公告)号：TW201805603A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106122306
申请日：2017-07-04
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 林楠 , LIN, NAN , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
CPC classification number: G01N21/8806 , G01N21/4788 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G01N2201/0697 , G02F1/353 , G03F7/70008 , G03F7/70616
Abstract: 本發明揭示一種用於產生用於一檢測裝置之量測輻射之照明源。該源產生至少第一量測輻射及第二量測輻射，使得該第一量測輻射與該第二量測輻射進行干涉以形成運用一差拍分量進行調變之經組合量測輻射。該照明源可為一高階諧波產生(HHG)源。亦揭示一種包含此源之檢測裝置及一種相關聯檢測方法。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于产生用于一检测设备之量测辐射之照明源。该源产生至少第一量测辐射及第二量测辐射，使得该第一量测辐射与该第二量测辐射进行干涉以形成运用一差拍分量进行调制之经组合量测辐射。该照明源可为一高级谐波产生(HHG)源。亦揭示一种包含此源之检测设备及一种相关联检测方法。
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公开(公告)号：TWI634322B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106114028
申请日：2017-04-27
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
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公开(公告)号：TW201823713A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106128023
申请日：2017-08-18
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡 弗斯特 彼得 丹尼 , VAN VOORST, PETER DANNY , 林楠 , LIN, NAN , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 凡 登 波斯 西特喜 希巨門 , VAN DER POST, SIETSE THIJMEN
Abstract: 本發明揭示一種檢測裝置及一種用於量測一基板上之一目標結構之相關聯方法。該檢測裝置包含：一照明源，其用於產生量測輻射；一光學配置，其用於將該量測輻射聚焦至該目標結構上；及一補償光學器件。該補償光學器件可包含一SLM，其可操作以在空間上調變該量測輻射之波前以便補償該光學配置中之一非均一製造缺陷。在替代性實施例中，該補償光學器件可位於量測輻射之光束中，或位於用於產生一HHG源中之高諧波輻射之泵浦輻射的光束中。該補償光學器件在位於泵浦輻射之光束的情況下可用於校正指向誤差，或在該量測輻射之一光束中賦予一所要剖面或不同照明圖案。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种检测设备及一种用于量测一基板上之一目标结构之相关联方法。该检测设备包含：一照明源，其用于产生量测辐射；一光学配置，其用于将该量测辐射聚焦至该目标结构上；及一补偿光学器件。该补偿光学器件可包含一SLM，其可操作以在空间上调制该量测辐射之波前以便补偿该光学配置中之一非均一制造缺陷。在替代性实施例中，该补偿光学器件可位于量测辐射之光束中，或位于用于产生一HHG源中之高谐波辐射之泵浦辐射的光束中。该补偿光学器件在位于泵浦辐射之光束的情况下可用于校正指向误差，或在该量测辐射之一光束中赋予一所要剖面或不同照明图案。
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公开(公告)号：TW201805727A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106114730
申请日：2017-05-04
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 林楠 , LIN, NAN , 盧波 山德 巴斯 , ROOBOL, SANDER BAS , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
CPC classification number: G03F7/70575 , G02F1/353 , G02F2001/354 , G02F2201/16 , G03F7/2004 , G03F7/70033 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F2007/2067 , G21K5/04 , H05G2/00
Abstract: 本發明描述一種供用於微影製程中的在用於一檢測設備中之一照明設備中產生照明輻射的方法。提供包含複數個輻射脈衝之一驅動輻射光束。該光束被分裂成第一複數個驅動輻射脈衝及第二複數個驅動輻射脈衝。每複數個驅動輻射脈衝具有一可控制特性。該第一複數個驅動輻射脈衝及該第二複數個驅動輻射脈衝可用以產生具有一輸出波長光譜之一照明輻射光束。該第一可控制特性及該第二可控制特性經控制以便分別控制該照明輻射光束之該輸出波長光譜之第一部分及第二部分。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种供用于微影制程中的在用于一检测设备中之一照明设备中产生照明辐射的方法。提供包含复数个辐射脉冲之一驱动辐射光束。该光束被分裂成第一复数个驱动辐射脉冲及第二复数个驱动辐射脉冲。每复数个驱动辐射脉冲具有一可控制特性。该第一复数个驱动辐射脉冲及该第二复数个驱动辐射脉冲可用以产生具有一输出波长光谱之一照明辐射光束。该第一可控制特性及该第二可控制特性经控制以便分别控制该照明辐射光束之该输出波长光谱之第一部分及第二部分。
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