Abstract:
PLL에 기초한 CMOS 프랙셔날-N 주파수 합성기는 온 칩의 LC 전압 제어 발진기를 포함한다. 고차 이산 시그마-델타 변조기는 상기 프랙셔날-N 주파수 합성기에 사용된다. 상기 합성기는 고차 시그마-델타 변조기를 사용하여 프랙셔날 스프리어스를 억제하기 위한 노이즈 정형화 기법을 이용한다.
Abstract:
본 발명은 잉크젯 프린터헤드의 제조 방법으로서, 희생층의 형성에 사용되는 포지티브 포토레지스트 조성물 또는 비감광성 가용성 폴리머 조성물에 포함된 용매가 유로형성층 및 노즐층 형성에 사용되는 네거티브 포토레지스트 조성물에 포함된 용매와 극성(polarity)이 다른 것을 특징으로 하는 잉크젯 프린터헤드의 제조 방법을 개시한다.
Abstract:
PURPOSE: An anti-fingerprinting coating composition is provided to prevent a fingerprint from staining a display part or a touch panel of an electronic product, and to have excellent durability. CONSTITUTION: An anti-fingerprinting coating composition comprises a silane oligomer. The silane oligomer comprises an R1 group represented by chemical formula 1: RaO-(CH2CH2O)p-Rb-, and an R2 group represented by chemical formula 2: (Rc)q. In the chemical formula 1, Ra is one or more selected from hydrogen, and a C1-3 alkyl group. Rb is one or more selected from a C5-20 alkyl, C5-20 alkenyl, C5-20 alkynyl, C5-20 aryl, C6-20 arylalkyl, C5-20 cyclic alkyl, or C5-20 hetero atom-containing alkyl group, and p is an integer from 1-12. In the chemical formula 2, Rc is a C3-20 cyclic alkyl group, and q is an integer from 1-3. [Reference numerals] (AA,BB,EE,FF) Light; (CC,GG) Coating film; (DD,HH) Base material
Abstract:
기판 상에 적층되는 챔버층에 이 챔버층의 두께가 설정된 두께인지 용이하게 검사할 수 있도록 하는 디텍션 인디케이터가 형성되는 MEMS소자 및 그 제조방법을 개시한다. 이러한 MEMS소자는 챔버층이 설정된 두께로 평탄화되었는지 용이하게 검사할 수 있도록 챔버층에 형성되는 서로 다른 깊이를 가진 두 개의 디텍션 인디케이터나 챔버층의 평탄화 시 그 윗면이 하측으로 갈수록 작아지는 테이퍼형상의 디텍션 인디케이터가 챔버층에 형성된다. 이에 따라 챔버층에 형성되는 디텍션 인디케이터를 챔버층의 평탄화 후 광학현미경으로 검사하여 이 챔버층이 설정된 두께로 평탄화되었는지 정밀하게 판단할 수 있으며, 챔버층 두께의 검사를 용이하게 할 수 있다.
Abstract:
균일한 두께의 잉크 유로층을 형성하는 잉크젯 프린트헤드의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 기판의 상면에 히터를 형성하는 단계와 상기 기판의 상면에 유로층을 형성하는 단계와 상기 유로층의 상면에 종점검출층을 형성하는 단계와 상기 유로층의 소정 부분을 제거하여 잉크유로를 형성하는 단계와 상기 종점검출층과 상기 잉크유로를 매립하는 희생층을 형성하는 단계와 상기 희생층을 상기 종점검출층이 노출될 때까지 CMP 공정에 의해 평탄화하는 단계와 상기 희생층 및 상기 유로층의 상면에 노즐층을 형성하는 단계와 상기 희생층을 제거하는 단계를 포함한다. 잉크젯 프린터, 프린트헤드, CMP, 종점검출
Abstract:
PURPOSE: An inkjet print head and a manufacturing method thereof are provided to improve the mechanical properties of the inkjet print head by simplifying the manufacturing process of the inkjet print head. CONSTITUTION: An inkjet print head comprises a substrate(110), a chamber layer(120), a nozzle layer(130), and an adhesive layer(121). The substrate has an ink feed hole(111). The chamber layer is formed on the substrate and has multiple ink chambers(122) filled with ink supplied from the ink feed hole. The nozzle layer is formed on the chamber layer and has multiple nozzles(132) for discharging the ink. The adhesive layer is inserted between the substrate and the chamber layer.
Abstract:
A photoresist composition, a method for forming a pattern by using the composition, and an ink-jet print head using the composition are provided to inhibit the generation of crack due to internal stress and to improve heat resistance, chemical resistance and adhesion. A photoresist composition comprises an oxetane-containing compound represented by the formula 1 or 2; an oxirane-containing compound represented by the formula 3 or 4; a photoinitiator; and a solvent, wherein Q1 to Q8 and Z1 to Z8 are independently H, a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C4-C30 aliphatic hydrocarbon ring, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryl group, a substituted or unsubstituted C3-C30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aryloxy group, a substituted or unsubstituted C6-C30 acyl group, or a substituted or unsubstituted monovalent group containing an ether bond.
Abstract:
An ink-jet print head and a manufacturing method thereof are provided to join a path forming layer on a substrate stably by forming an adhesive layer and simplify the step for forming the adhesive layer. An adhesive layer(40) formed between a substrate(10) and a path forming layer(20) is formed of silicone modified polyimide resin having photosensitivity by photolithography for preventing the separation of the path forming layer from the substrate.