국부 패턴의 제조 방법
    94.
    发明公开
    국부 패턴의 제조 방법 无效
    生产本地化图案的方法

    公开(公告)号:KR1020110035898A

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:KR1020100090739

    申请日:2010-09-15

    Abstract: PURPOSE: A local pattern manufacturing method is provided to achieve the desired conductivity ratio by controlling the temperature of the mask and the electrical field applied to the mask. CONSTITUTION: A mask(7) is arranged in contact with the lower part of a support(1). The mask comprises at least one recess(8). The recess corresponds to the pattern to be formed on the top of the support. The recess has shape and the size suitable for the pattern to be formed. The solution(9) comprises the material which is designed in order to form the pattern on the upper side of the support.

    Abstract translation: 目的:提供局部图案制造方法,通过控制掩模的温度和施加到掩模的电场来实现所需的导电率。 构成:掩模(7)布置成与支撑件(1)的下部接触。 掩模包括至少一个凹部(8)。 凹部对应于将在支撑件的顶部上形成的图案。 该凹部具有适于形成图案的形状和尺寸。 溶液(9)包括被设计用于在支撑体的上侧形成图案的材料。

    Method of generating localized pattern
    97.
    发明专利
    Method of generating localized pattern 有权
    生成本地化图案的方法

    公开(公告)号:JP2011129878A

    公开(公告)日:2011-06-30

    申请号:JP2010219680

    申请日:2010-09-29

    Inventor: BENWADIH MOHAMED

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of generating a simple and high-resolution localized pattern which is easy to implement. SOLUTION: This method of generating at least one pattern on the upper surface of a support body 1 made of a substance showing first thermal conductivity includes a process of arranging a mask 7 made of a substance which shows second thermal conductivity and including at least one hole part 8 having a shape corresponding to the shape of the pattern. The hole part 8 contacts the bottom face of the support body 1. The ratio of the first conductivity to the second conductivity is ≥2 or ≤1/2 in the execution period (duration) of the method. The method includes processes of: depositing a solution containing a substance made to form the pattern on the upper surface, and evaporating the solution. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种生成易于实现的简单且高分辨率的局部图案的方法。 解决方案:在由显示第一导热性的物质制成的支撑体1的上表面上产生至少一种图案的方法包括布置由显示第二导热性的物质制成的掩模7的方法, 至少一个孔部分8具有与图案的形状对应的形状。 孔部8接触支撑体1的底面。在该方法的执行期间(持续时间)中,第一导电率与第二导电率的比值为≥2或≤1/ 2。 该方法包括以下步骤:在上表面上沉积含有形成图案的物质的溶液,并蒸发溶液。 版权所有(C)2011,JPO&INPIT

    Method for manufacturing columnar structure having two-stage layer
    98.
    发明专利
    Method for manufacturing columnar structure having two-stage layer 审中-公开
    用于制造具有两层结构的柱状结构的方法

    公开(公告)号:JP2008200793A

    公开(公告)日:2008-09-04

    申请号:JP2007038771

    申请日:2007-02-20

    CPC classification number: B81C1/00111 B81C2201/0154 C09J7/00 C09J2201/626

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for artificially, simply and easily manufacturing a structure that imitates a structure having a fine two-stage layer appearing in soles of gecko.
    SOLUTION: The method for manufacturing a columnar structure having a two-stage layer includes steps of: (1) filling pores of a porous membrane with resin on a base material; (2) curing the resin to form a columnar structure; (3) subjecting the end portion of the columnar structure to plasma etching processing to form a columnar structure having a two-stage layer; and (4) removing the porous membrane from the base material.
    COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种人造地,简单且容易地制造模仿具有出现在壁虎的鞋底中的具有精细的两级层的结构的结构的方法。 解决方案:制造具有两层层的柱状结构体的方法包括以下步骤:(1)在基材上用树脂填充多孔膜的孔; (2)固化树脂以形成柱状结构; (3)对柱状结构的端部进行等离子体蚀刻处理,形成具有两层的柱状结构体; 和(4)从基材除去多孔膜。 版权所有(C)2008,JPO&INPIT

    PROCEDE DE FONCTIONNALISATION DES VEINES FLUIDIQUES CONTENUES DANS UN DISPOSITIF MICROMECANIQUE, DISPOSITIF MICROMECANIQUE COMPRENANT DES VEINES FONCTIONNALISEES ET SON PROCEDE DE REALISATION
    99.
    发明申请
    PROCEDE DE FONCTIONNALISATION DES VEINES FLUIDIQUES CONTENUES DANS UN DISPOSITIF MICROMECANIQUE, DISPOSITIF MICROMECANIQUE COMPRENANT DES VEINES FONCTIONNALISEES ET SON PROCEDE DE REALISATION 审中-公开
    用于在微机械装置中包含的流体线的功能的方法,包括功能线的微生物装置及其制造方法

    公开(公告)号:WO2012001642A1

    公开(公告)日:2012-01-05

    申请号:PCT/IB2011/052865

    申请日:2011-06-29

    Abstract: Le but de la présente invention est de fournir un procédé de fonctionnalisation de veines fluidiques (1b) dans un dispositif micromécanique dont les parois comprennent une couche opaque. A cette fin l'invention propose un procédé de fonctionnalisation d'un dispositif micromécanique muni d'une veine fluidique comprenant une paroi périphérique (5) présentant une surface externe (2) à la veine et une surface interne (3) délimitant un espace (1b) dans lequel est susceptible de circuler un fluide, la paroi périphérique comprenant au moins partiellement une couche de silicium (5a). Le procédé comprend les étapes suivantes : a) la mise à disposition d'un dispositif dont la paroi périphérique (5) comprend au moins partiellement une couche de silicium (5a) présentant, au moins localement, une épaisseur (e) comprise entre 100 et 200 nm exclu, avantageusement entre 160 et 180 nm, c) la silanisation d'au moins la surface interne de la veine fluidique, d) la photo déprotection localisée et sélective sur au moins la surface interne du dispositif silanisé par insolation de la paroi périphérique (5) là où elle présente une épaisseur (e) comprise entre 100 et 200 nm exclu, avantageusement entre 160 et 180 nm.

    Abstract translation: 本发明涉及一种在微机械装置中功能化流体管线(1b)的方法,其中壁部包括不透明层。 为此目的,本发明提供了一种功能化微机械装置的方法,该微机械装置设置有流体管线,该流体管线包括在管线外部具有表面(2)的周壁(5)和限定空间(1b)的内表面(3) 流体可以循环,周壁至少部分地包括硅层(5a)。 该方法包括以下步骤:a)提供一种器件,其外围壁(5)至少部分地包括硅层(5a),该硅层至少局部地具有大于100nm的厚度(e)并且小于 200nm,有利地为160〜180nm; c)至少对流体管线的内表面进行硅烷化; d)通过在所述壁的厚度(e)大于100nm且小于200nm的点处暴露周壁(5),至少在硅烷化装置的内表面上进行局部选择性光 - 去保护 ,有利地为160至180nm。

Patent Agency Ranking