公开(公告)号：CN1649797A

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：CN03809462.2

申请日：2003-04-28

Applicant: 赫罗伊斯·坦尼沃有限公司

Inventor： S·施密德特 ,  K·罗泽利布

IPC: C03B19/14 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/04 ,  Y02P40/57

Abstract: 根据先前已知的一种制造低OH含量圆柱形石英玻璃体的方法，首先通过含硅化合物的高温水解以及SiO2颗粒层的移除在旋转载体上形成伸长的多孔烟炱体，所述烟炱体经脱水处理并在玻璃化炉中玻璃化。本发明的目的在于发明一种简单方法，它以上述方法为基础并在无附加技术复杂性的情况下实现低OH含量石英玻璃圆柱体的制造并同时实现OH浓度的均匀分布。所述目的的实现通过在脱水处理后及玻璃化前，对烟炱体在玻璃化炉的保护气体和/或真空中进行预处理，烟炱体在加热区加热到100℃～1350℃。

公开(公告)号：CN1541961A

公开(公告)日：2004-11-03

申请号：CN200410038459.7

申请日：2004-04-28

Applicant: 瓦克化学有限公司

Inventor： 弗里茨·施韦特费格 ,  霍尔格·西拉特 ,  扬·塔贝利翁 ,  罗尔夫-克劳斯·克拉森

IPC: C03B19/12 ,  C03B19/06 ,  C03C3/04

CPC classification number: C25D1/14 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C30B35/002

Abstract: 一种制造具有接近正确的最终尺寸及轮廓的均匀成型SiO2坯体的方法，其中无定形SiO2粒子从水性分散液中电泳沉积在不导电的膜上，该无定形SiO2粒子包括相对大的无定形SiO2粒子与相对小的无定形SiO2粒子，该膜的形状与构型对应于待制造的SiO2成型坯体，其中所述膜的平均孔隙大小大于较小的无定形SiO2粒子的平均粒度。

公开(公告)号：CN1472151A

公开(公告)日：2004-02-04

申请号：CN03128228.8

申请日：2003-06-27

Applicant: 长飞光纤光缆有限公司

Inventor： 谢康 ,  张树强 ,  韩庆荣 ,  王铁军 ,  涂成厚 ,  拉吉·马泰

IPC: C03B37/018 ,  C03B37/02 ,  G02B6/00 ,  C23C16/50 ,  C23C16/30

CPC classification number: C03B37/01892 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/0183 ,  C03B37/01853 ,  C03B37/01861 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/31 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32

Abstract: 本发明涉及一种降低光纤预制棒中羟基含量以制备低水峰单模光纤的方法，本发明的工艺过程为：在适当的环境条件下，将一定比例的高纯原料气体SiCl4、GeCl4、O2和C2F6通过密封良好的导管和旋转夹头导入低羟基衬底管，在微波作用下激发反应气体进行反应，在衬底管内壁沉积一定结构设计的沉积层。按熔缩工艺将衬底管熔缩成实心的芯棒，用RIT工艺将芯棒与低羟基套管组合成光纤预制棒，或通过OVD工艺在芯棒外表面沉积外包层制成光纤预制棒，再将光纤预制棒送入拉丝炉拉丝成纤。用本发明方法制备的光纤在1310nm处的衰耗小于0.344dB/km，1383nm处的衰耗小于0.334dB/km，1550nm处的衰耗小于0.224dB/km，1383nm处的损耗低于1310nm的规定值。

公开(公告)号：CN1430584A

公开(公告)日：2003-07-16

申请号：CN01810099.6

申请日：2001-05-21

Applicant: 赫罗伊斯·坦尼沃有限公司

Inventor： H·法比安

IPC: C03B37/012 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03B37/01211 ,  C03B37/014 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12

Abstract: 按照由包芯结构毛坯或由形成包芯结构的几种部件的同轴组件经拉丝来制造光纤的已知方法，采用烟灰沉积法生产芯圆柱，该芯圆柱具有较高折射指数“nk”和外径“dk”的芯玻璃层，它外面包围着有较低折射指数“nM1”和外径“dM1”的第一玻璃包层，然后在芯圆柱外表面施加第二玻璃包层。按照本发明，第二玻璃包层(4)在单独步骤中被制成套管形式，该套管的平均OH浓度最高为1ppm(重量)。第二玻璃包层(4)是通过使套管萎陷到芯圆柱(2；3)上施加的，采用芯圆柱(2；3)使“dM1”/“dk”比介于1～2.2，并且在靠近表面达10μm深度区域内的平均OH浓度最高为1ppm(重量)。

公开(公告)号：CN1101344C

公开(公告)日：2003-02-12

申请号：CN99110356.4

申请日：1999-07-14

Applicant: 卢森特技术有限公司

Inventor： P·F·格洛迪斯 ,  C·F·格里德利 ,  D·P·杰布罗诺韦斯基 ,  D·卡利什 ,  K·L·沃克

IPC: C03B37/018

CPC classification number: C03B37/01211 ,  C03B37/01869 ,  C03B37/01884 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2203/24

Abstract: 一种通过改性化学蒸汽沉积(MCVD)工艺制造大的光纤预型件(303)及其制造方法。其包括在一旋转的玻璃管(33)的内表面上沉积出连续的芯核及包覆材料层，该玻璃管的氢氧离子含量小于按重量每百万0.5份。然后使管向内坍塌，形成一芯棒(301)。在芯棒(301)形成后，对其进行等离子蚀刻，以去除污物，以形成一大预型件。

公开(公告)号：WO2017103155A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081505

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： HEINZ FABIAN, Heinz ,  HOFMANN, Achim ,  HÜNERMANN, Michael ,  OTTER, Matthias ,  KAYSER, Thomas

IPC: C03B19/06 ,  C03B20/00 ,  C03B19/10

CPC classification number: C03B19/066 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C1/02 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogenen Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Quarzglasköper einen OH-Gehalt von weniger als 10 ppm, einen Chlorgehalt von weniger als 60 ppm und einen Aluminiumgehalt von weniger als 200 ppb aufweist. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Formkörper und ein Gebilde, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML; ...包括如下工艺步骤i）提供热解二氧化硅粉末的Siliziumdioxidgranulats Rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat熔化和iii）形成的石英玻璃＆ouml; 从熔融玻璃，石英玻璃及oUML的至少一部分rpers;包括由小于10ppm，小于60ppm的氯含量和小于200ppb的铝含量的OH含量。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种模制体和结构，每个模制体和结构均可通过进一步处理石英玻璃体获得，

公开(公告)号：WO2017103120A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081444

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： ARNDT, Martin ,  OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/10 ,  C03B19/09

CPC classification number: C03B19/066 ,  C03B19/095 ,  C03B19/10 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2203/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Quarzglaskörnung beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze und iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Quarzglaskörnung, die durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung opake Quarzglaskörper, die durch Weiterverarbeiten der Quarzglaskörnung erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML; rning包括如下工艺步骤i）提供热解二氧化硅粉末的Siliziumdioxidgranulats，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat熔化，iii）形成的石英玻璃及OUML ... 至少部分熔融玻璃，和iv）将石英玻璃体粉碎以获得石英玻璃颗粒。 本发明还涉及可通过该方法获得的石英玻璃颗粒。 此外，本发明涉及不透明的石英玻璃与OUML;可以通过进一步处理的石英玻璃与OUML获得主体; ERH rning BEAR是ltlich 。

公开(公告)号：WO2006082983A2

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：PCT/JP2006302093

申请日：2006-02-01

Applicant: ASAHI GLASS CO LTD ,  HINO KEIGO

Inventor： HINO KEIGO

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/23

Abstract: The invention provides a process for producing a synthetic quartz glass, comprising: (a) depositing fine quartz glass particles synthesized by flame hydrolysis of a glass-forming material, on a substrate, to form a porous quartz glass base; (b) presintering the porous quartz glass base; (c) heat-treating the presintered porous quartz glass base by holding it under vacuum at a temperature in the range of from 1,100°C to below the vitrification temperature for a certain time period; and (d) heating the thus heat-treated porous quartz glass base to a temperature not lower than the vitrification temperature to obtain a synthetic quartz glass. According to the process for synthetic quartz glass production of the invention, a synthetic quartz glass having a reduced OH group amount and a uniform OH group concentration can be obtained. From the synthetic quartz glass, an optical member having excellent optical properties can be obtained.

Abstract translation: 本发明提供一种合成石英玻璃的制造方法，其特征在于，包括：（a）将通过火焰水解玻璃形成材料而合成的石英玻璃微粒堆积在基板上而形成多孔质石英玻璃基板的工序; （b）预烧多孔石英玻璃基体; （c）将预烧结的多孔石英玻璃基材在真空下在1100℃至低于玻璃化温度的温度下保持一段时间来热处理; （d）将如此热处理过的多孔石英玻璃基体加热到不低于玻璃化温度的温度，得到合成石英玻璃。 根据本发明的合成石英玻璃生产方法，可以获得具有降低的OH基量和均匀的OH基浓度的合成石英玻璃。 从合成石英玻璃可以获得具有优异光学性能的光学元件。

公开(公告)号：WO2006071936A2

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：PCT/US2005047257

申请日：2005-12-28

Applicant: CORNING INC ,  BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH E ,  TANDON PUSHKAR ,  BLEAKING DANIEL J ,  MAXON JOHN E ,  WILBERT KIMBERLY A

Inventor： BOOKBINDER DANA C ,  FIACCO RICHARD M ,  HRDINA KENNETH E ,  TANDON PUSHKAR ,  BLEAKING DANIEL J ,  MAXON JOHN E ,  WILBERT KIMBERLY A

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03C4/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23

Abstract: Disclosed are high purity synthetic silica glass material having a high OH concentration homogeneity in a plane perpendicular to the optical axis, and process of making the same. The glass has high refractive index homogeneity. The glass can have high internal transmission of at least 99.65%/cm at 193 nm. The process does not require a post-sintering homogenization step. The controlling factors for high compositional homogeneity, thus high refractive index homogeneity, include high initial local soot density uniformity in the soot preform and slow sintering, notably isothermal treatment during consolidation.

Abstract translation: 公开了在垂直于光轴的平面内具有高OH浓度均匀性的高纯度合成石英玻璃材料及其制造方法。 玻璃具有高折射率均匀性。 该玻璃在193nm下可以具有至少99.65％/ cm的高内部透射率。 该方法不需要烧结后均化步骤。 高成分均匀性因此高折射率均匀性的控制因素包括在烟灰预制棒中的初始局部烟灰密度均匀性和慢速烧结，特别是在固结期间的等温处理。

公开(公告)号：WO2005021449A3

公开(公告)日：2005-04-21

申请号：PCT/JP2004012373

申请日：2004-08-27

Applicant: NEW IND RES ORGANIZATION ,  UCHINO TAKASHI ,  YAMADA TOMOKO

Inventor： UCHINO TAKASHI ,  YAMADA TOMOKO

IPC: C03B20060101 ,  C03B19/06 ,  C03B20/00 ,  C03C12/00 ,  C09K11/00 ,  C09K11/08 ,  C09K11/59

CPC classification number: C03C12/00 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04

Abstract: A luminescent element of next-generation optical device that by photoluminescence (PL), exhibits a large half-value width of emission spectrum in the wavelength region of visible light so as to realize broad light emitting characteristics and enables white light emission. Silica glass is produced through a firing operation for firing a product of pressure molding of silica microparticles such as fumed silica, wherein the firing temperature is regulated within a range not exceeding 1000°C so as to satisfactorily carry out dehydration condensation reaction with respect to OH groups of silica microparticles to thereby attain clearing and wherein amorphous defects having occurred during the reaction are retained without being reduced. This silica glass is used as a phosphor.

Abstract translation: 下一代光学器件的发光元件通过光致发光（PL）在可见光的波长区域中显示发射光谱的大半值宽度，从而实现宽的发光特性并使白光发射成为可能。 二氧化硅玻璃是通过焙烧煅烧二氧化硅微粒如煅制二氧化硅的产物的煅烧操作来生产的，其中煅烧温度被控制在不超过1000℃的范围内，以便令人满意地对OH进行脱水缩合反应 从而实现二氧化硅微粒的清除，并且其中在反应过程中发生的无定形缺陷未被还原而保留。 该石英玻璃被用作荧光体。