公开(公告)号：JP5394734B2

公开(公告)日：2014-01-22

申请号：JP2008505860

申请日：2006-03-30

Applicant: ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー ,  信越石英株式会社

Inventor： ユルゲン ウエーバー、 ,  トビアス ポッゲ、 ,  マルチン トロメル、 ,  ボード キューン、 ,  ウルリッヒ キルスト、 ,  ヴァルトラウト ヴェルデッケル、

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/006 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/54 ,  C30B25/12 ,  C30B31/14 ,  C30B35/00 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：JP4403082B2

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：JP2004570726

申请日：2003-11-28

Applicant: 信越石英株式会社

Inventor： 龍弘 佐藤 ,  俊幸 加藤 ,  宜正 吉田 ,  孝宏 垣内 ,  徹 瀬川 ,  朗 藤ノ木

IPC: C03B20/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26

公开(公告)号：JP2008535764A

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：JP2008505860

申请日：2006-03-30

Applicant: ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー ,  信越石英株式会社

Inventor： ユルゲン ウエーバー、 ,  ヴァルトラウト ヴェルデッケル、 ,  ボード キューン、 ,  ウルリッヒ キルスト、 ,  マルチン トロメル、 ,  トビアス ポッゲ、

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/006 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/54 ,  C30B25/12 ,  C30B31/14 ,  C30B35/00 ,  Y02P40/57

Abstract: エッチング作用する環境において使用するウエハ保持器のための理想的な石英ガラスは、高い純度および高い乾式エッチング耐性の点で傑出している。 この要求をかなりの程度まで満たす石英ガラスを提供するために、本発明によれば次のことが提案される。 すなわち石英ガラスが、少なくとも表面に近い範囲において窒素によってドーピングされており、３０重量ｐｐｍ以下の準安定のヒドロキシル基の平均含有量を有し、かつその仮想温度が、１２５０℃より下であり、かつ１２００℃の温度におけるその粘性が、少なくとも１０
１３ ｄＰａ・ｓである。 このような石英ガラスを製造するための経済的な方法は、次の方法ステップを含んでいる：石英ガラス素材になるようにＳｉＯ
２ 原料を溶融し、その際、ＳｉＯ
２ 原料または石英ガラス素材が、脱水処理を受け、アンモニアを含む雰囲気において１０５０℃と１８５０℃との間の範囲における窒化温度にＳｉＯ
２ 原料または石英ガラス素材を加熱し、石英ガラス素材の石英ガラスを１２５０℃またはそれより低い仮想温度に設定する熱処理を行い、かつ石英ガラス保持器を形成しながら石英ガラス素材の表面処理を行う。

公开(公告)号：JP3574577B2

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：JP34008298

申请日：1998-11-30

Applicant: 東芝セラミックス株式会社

Inventor： 啓章 小鷹 ,  正人 斉藤 ,  浩人 生野 ,  友之 石井 ,  安雄 石川 ,  潤一 神保 ,  龍也 露木

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/24 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54

公开(公告)号：EP2958869A2

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：EP14705187.4

申请日：2014-02-19

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： KUEHN, Bodo

IPC: C03C4/00 ,  C03B19/14 ,  C03B19/01 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention relates to an optical component made of synthetic quartz glass for use in an ArF excimer laser lithography process with an applied wavelength of 193 nm, comprising a glass structure substantially free of oxygen defect sites, a hydrogen content ranging from 0.1 x 10
16 molecules/cm
3 to 1.0 x 10
18 molecules/cm
3 , an SiH group content of less than 2 x 10
17 molecules/cm
3 , and a hydroxyl group content ranging from 0.1 to 100 wt. ppm, said glass structure having a fictive temperature of less than 1070 °C. The aim of the invention is to allow a reliable prediction of the compacting behavior when using UV laser radiation with the applied wavelength on the basis of a measurement of the compacting behavior using a measured wavelength of 633 nm. This is achieved by an optical component design in which the component undergoes a laser-induced change in the refractive index in response to irradiation by means of a radiation with a wavelength of 193 nm using 5x10
9 pulses with a pulse width of 125 ns and a respective energy density of 500 µJ/cm
2 at a pulse repetition frequency of 2000 Hz, said change totaling a first measured value M
193nm when measured using the applied wavelength of 193 nm and totaling a second measured value M
633nm when measured using a measured wavelength of 633 nm, wherein M
193nm /M
633nm

公开(公告)号：EP2118026B1

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：EP08716965.2

申请日：2008-02-20

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan ,  WEBER, Juergen

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/3441 ,  C03C2201/40 ,  G03F7/70958

公开(公告)号：EP1625433B1

公开(公告)日：2008-09-17

申请号：EP04709909.8

申请日：2004-02-10

Applicant: 3M Innovative Properties Company

Inventor： DOWER, William V., ,  VISWANATHAN, Nirmal K., ,  PAOLUCCI, Dora M., ,  BARRERA, Michael D.,

IPC: G02B6/12 ,  C03C25/60 ,  C03C25/62 ,  C03C3/06

CPC classification number: G02B6/02114 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C13/047 ,  C03C25/607 ,  C03C25/6226 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/60

Abstract: The present invention relates to increasing the photosensitivity of optical fibers. One aspect of the present invention comprises a method for rapidly diffusing hydrogen or deuterium into an optical fiber from a gas mixture having a low total hydrogen content to generate changes in the refractive index of the optical fiber. The resulting photosensitive fiber may be used to create optical devices including Bragg gratings and Bragg grating-based devices.

公开(公告)号：EP1866257A1

公开(公告)日：2007-12-19

申请号：EP06730327.1

申请日：2006-03-22

Applicant: Asahi Glass Company, Limited

Inventor： HAYASHI, Hideaki, c/o Asahi Glass Company, Limited ,  KOIKE, Akio, c/o Asahi Glass Company, Limited ,  KAWATA, Mitsuhiro, c/o Asahi Glass Company, Limited ,  SUGIMOTO, Naoki, c/o Asahi Glass Company, Limited ,  KIKUGAWA, Shinya, c/o Asahi Glass Company, Limited ,  YAMADA, Kenji, c/o Asahi Glass Company, Limited

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  G02B1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1438 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/34 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3405 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/3417 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54

Abstract: To provide quartz-type glass for a microlithographic projection exposure apparatus, which contains at least 51 mass% of SiO2 and which further contains at least one member selected from the group consisting of lanthanum, aluminum, hafnium, nitrogen, scandium, yttrium and zirconium. It is a material which is useful for an illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus or as a projection object lens and has a refractive index at 248 nm larger than 1.508 of quartz glass and a refractive index at 193 nm larger than 1.560 of quartz glass and which can be small-sized.

公开(公告)号：EP1261554B1

公开(公告)日：2004-10-20

申请号：EP00974749.4

申请日：2000-11-28

Applicant: International Business Machines Corporation

Inventor： BEYELER, René ,  BLÖCHL, Peter ,  BONA, Gian-Luca ,  GERMANN, Roland, W. ,  HORST, Folkert ,  OFFREIN, Bert, J. ,  SALEMINK, Huub, L. ,  WIESMANN, Dorothea, W.

IPC: C03C3/04 ,  C03C3/11 ,  C03B19/14 ,  C01B21/087 ,  C01B21/082 ,  C23C16/30 ,  G02B6/10

CPC classification number: G02B6/122 ,  C01B21/0823 ,  C01B21/087 ,  C01P2002/82 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/24 ,  C03C1/02 ,  C03C3/045 ,  C03C3/111 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/24 ,  C23C16/308 ,  G02B6/105 ,  G02B6/13 ,  G02B6/132 ,  G02B2006/12119

Abstract: A new material is provided that can be used for the fabrication of planar optical waveguides. The material includes silicon, oxygen and nitrogen and additionally deuterium. Also provided is a method for fabricating planar optical waveguides based on this new material, which uses deuterated gaseous precursors.

公开(公告)号：EP1261554A1

公开(公告)日：2002-12-04

申请号：EP00974749.4

申请日：2000-11-28

Applicant: International Business Machines Corporation

Inventor： BEYELER, René ,  BLÖCHL, Peter ,  BONA, Gian-Luca ,  GERMANN, Roland, W. ,  HORST, Folkert ,  OFFREIN, Bert, J. ,  SALEMINK, Huub, L. ,  WIESMANN, Dorothea, W.

IPC: C03C3/04 ,  C03C3/11 ,  C03B19/14 ,  C01B21/087 ,  C01B21/082 ,  C23C16/30 ,  G02B6/10

CPC classification number: G02B6/122 ,  C01B21/0823 ,  C01B21/087 ,  C01P2002/82 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/24 ,  C03C1/02 ,  C03C3/045 ,  C03C3/111 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/24 ,  C23C16/308 ,  G02B6/105 ,  G02B6/13 ,  G02B6/132 ,  G02B2006/12119

Abstract: A new material is provided that can be used for the fabrication of planar optical waveguides. The material includes silicon, oxygen and nitrogen and additionally deuterium. Also provided is a method for fabricating planar optical waveguides based on this new material, which uses deuterated gaseous precursors.