中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

849 records (took 0.031 seconds)

    APERIODIC MULTILAYER STRUCTURES
    92.
    发明申请
    APERIODIC MULTILAYER STRUCTURES 审中-公开
    APERIODIC多层结构

    公开(公告)号：WO2009043374A1

    公开(公告)日：2009-04-09

    申请号：PCT/EP2007/060477

    申请日：2007-10-02

    Applicant: CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE - INFM ISTITUTO NAZIONALE PER LA FISICA DELLA MATERIA ,  UNIVERSITA' DEGLI STUDI DI PADOVA ,  REFLECTIVE X-RAY OPTICS LLC. ,  PELIZZO, Maria-Guglielmina ,  NICOLOSI, Piergiorgio ,  SUMAN, Michele ,  WINDT, David L.

    Inventor： PELIZZO, Maria-Guglielmina ,  NICOLOSI, Piergiorgio ,  SUMAN, Michele ,  WINDT, David L.

    IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

    CPC classification number: G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B27/0012 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70233 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  Y10T428/24612

    Abstract: Aperiodic mult ilayer structures An aperiodic multilayer structure (2, 2') comprising a plurality of alternating layers of a first (4, 4') and a second (6, 6') material and a capping layer (10, 10') covering these alternating layers, wherein the structure (2, 2') is characterized in that the thickness of the alternating layers chaotically varies in at least a portion of said structure (2, 2'). The invention further comprises design method comprising the step of define a time interval and a first plurality of periodic multilayer structures (A), then calculate a first merit function ( ∫ R(λ ) 10 * I(λ)dλ ) and define a first domain for each first structures. The method further includes the step of apply at least one rando m mutation to each first structures inside the associated first domain and calculate a second merit function ( ∫R(λ) 10 * I(λ)dλ for the at least one mutation. Then, the method proceeds with a co mparison of each first merit functions with the second merit function of the associated at least one mutation and if said second merit function is enhanced with respect to the first merit function, the at least one mutation is substituted for the structure of the first plurality and a second domain is defined for thw mutation, otherwise, the structure of the first plurality is maintained inside the corresponding first domain. The method further includes the step of calculate a mean value of the merit functions o f the first plurality of structures or mutations present in each first or second domain and define a threshold value to said mean value; then, for each first plurality of structures or mutations present in each first or second domain whose merit function is enhanced of the threshold with respect to the mean value, subst itute a third domain to the first or second domain unt il the corresponding merit function is enhanced of said predetermined threshold. Then, the preceding step are repeated unt il the time interval has lapsed and the merit funct ions of the first plurality of structures or mutations present in each first domain are compared and the structure or mutation whose merit function is the more enhanced is selected.

    Abstract translation: 非周期多层结构包括多个第一（4,4''）和第二（6,6'）材料的交替层和覆盖层（10,10'）的非周期多层结构（2,2'），覆盖 这些交替层，其中所述结构（2,2'）的特征在于，所述交替层的厚度在所述结构（2,2'）的至少一部分中混沌变化。 本发明还包括设计方法，包括定义时间间隔和第一多个周期性多层结构（A）的步骤，然后计算第一优值函数（ΔR（？）10 * I（？）d？）并定义 每个第一个结构的第一个域。 所述方法还包括对所述相关联的第一结构域内的每个第一结构应用至少一个rando m突变的步骤，并计算所述至少一个突变的第二优点函数（ΔR（α）10 * I（？）d？）。 然后，该方法进行每个第一优点函数与相关联的至少一个突变的第二优值函数的比较，并且如果针对第一优值函数增强所述第二优值函数，则将至少一个突变替换为 所述第一多个结构和第二结构域被定义用于突变，否则，所述第一多个结构的结构被保持在所述对应的第一域内，所述方法还包括以下步骤：计算所述第一和第二域的优点函数的平均值 存在于每个第一或第二结构域中的多个结构或突变，并且对所述平均值定义阈值;然后，对于每个第一或第二结构中存在的每个第一多个结构或突变 cond域，其优点函数相对于平均值增加阈值，将第三域替换为第一或第二域，其中对应的优值函数被增强为所述预定阈值。 然后，重复上述步骤，并且比较每个第一域中存在的第一多个结构或突变的优点函数，并且选择其优点功能更强的结构或突变。

    SYSTEMS AND METHODS FOR CLEANING A CHAMBER WINDOW OF AN EUV LIGHT SOURCE
    94.
    发明申请
    SYSTEMS AND METHODS FOR CLEANING A CHAMBER WINDOW OF AN EUV LIGHT SOURCE 审中-公开
    用于清洁EUV光源的窗户窗口的系统和方法

    公开(公告)号：WO2006093780A2

    公开(公告)日：2006-09-08

    申请号：PCT/US2006/006407

    申请日：2006-02-24

    Applicant: CYMER, INC. ,  BYKANOV, Alexander, N. ,  MARX, William, F.

    Inventor： BYKANOV, Alexander, N. ,  MARX, William, F.

    CPC classification number: G21K1/06 ,  B08B7/0071 ,  B82Y10/00 ,  G01N21/15 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  H05G2/001

    Abstract: Systems and methods are disclosed for cleaning a chamber window of an extreme ultraviolet (EUV) light source. The window may have an inside surface facing a chamber interior and an opposed outside surface and the light source may generate debris by plasma formation. For the system, a subsystem may be positioned outside the chamber and may be operable to pass energy through the window to heat debris accumulating on the inside surface of the window. In a first embodiment, the subsystem may place a flowing, heated gas in contact with the outside surface of the window. In another embodiment, electromagnetic radiation may be passed through the window.

    Abstract translation: 公开了用于清洁极紫外（EUV）光源的室窗的系统和方法。 窗口可以具有面向室内部和相对的外表面的内表面，并且光源可以通过等离子体形成而产生碎屑。 对于该系统，子系统可以定位在室外，并且可操作以将能量传递通过窗口以加热积聚在窗口内表面上的碎屑。 在第一实施例中，子系统可以使流动的加热气体与窗口的外表面接触。 在另一个实施例中，电磁辐射可以通过窗口。

    MASKEN, LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG UND HALBLEITERBAUELEMENT
    95.
    发明申请
    MASKEN, LITHOGRAPHIEVORRICHTUNG UND HALBLEITERBAUELEMENT 审中-公开
    口罩，光刻设备和半导体元件

    公开(公告)号：WO2005036266A1

    公开(公告)日：2005-04-21

    申请号：PCT/EP2003/010338

    申请日：2003-09-17

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  MANN, Hans-Jürgen ,  LOWISCH, Martin ,  SINGER, Wolfgang

    Inventor： MANN, Hans-Jürgen ,  LOWISCH, Martin ,  SINGER, Wolfgang

    IPC: G03F1/14

    CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70191 ,  G21K2201/061

    Abstract: Die Erfindung betrifft Masken mit einer Multilayerbeschichtung einer bestimmten Periodendickenverteilung, wie sie in Lithographievorrichtungen zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Ein Problem von Projektionsoptiken ist die Pupillenapodisierung, die zu Abbildungsfehlern führt. Erfindungsgemässe wird vorgeschlagen, die Periodendicke in der Maskenebene grösser als die für maximale Reflektivät ideale Periodendicke zu wählen. Dadurch wird nicht nur die Apodisierung über die Pupille symmetrischer, sondern auch die Intensitätsvariation wird insgesamt geringer.

    Abstract translation: 本发明涉及一种具有特定的厚度分布周期的多层涂层的掩模，如在光刻设备用于制造半导体器件。 投影光学装置的一个问题是光瞳切趾，这导致的像差。 本发明提出了选择在掩模平面比理想最大Reflektivät周期厚度大的周期厚度。 不仅变迹对称于瞳孔，而且强度变化是较低的整体。

    広帯域望遠鏡
    96.
    发明申请
    広帯域望遠鏡 审中-公开
    宽带电话

    公开(公告)号：WO2003056377A1

    公开(公告)日：2003-07-10

    申请号：PCT/JP2002/013484

    申请日：2002-12-25

    Applicant: 理化学研究所 ,  滝澤 慶之 ,  高橋 義幸 ,  清水 裕彦 ,  大谷 知行 ,  戎崎 俊一

    Inventor： 滝澤 慶之 ,  高橋 義幸 ,  清水 裕彦 ,  大谷 知行 ,  戎崎 俊一

    IPC: G02B23/00

    CPC classification number: B82Y10/00 ,  G02B23/02 ,  G02B23/06 ,  G21K2201/061

    Abstract: The light of a broad energy band can be observed by reflecting the light of the broad energy band, for example, the light from the visible light region to the X-ray region at a high reflectance, respectively, by a composite telescope including a normal incidence optical system and an oblique incidence optical system. A broadband telescope comprises an oblique incidence optical system unit in which the light is obliquely incident on a surface part for reflecting the incident light, a normal incidence optical system unit in which the light is substantially vertically incident on a surface part for reflecting the incident light, and an analyzer for spectrum analysis of the light reflected by the surface part of the obliquely incidence optical system unit and the light reflected by the surface part of the normal incidence optical system unit.

    Abstract translation: 通过将复合望远镜分别通过包括正常的复合望远镜反射广泛能带的光，例如以高反射率从可见光区域到X射线区域的光，可以观察到宽能带的光 入射光学系统和倾斜入射光学系统。 宽带望远镜包括斜入射光学系统单元，其中光倾斜地入射在用于反射入射光的表面部分上;法线入射光学系统单元，其中光基本上垂直入射在用于反射入射光的表面部分上 以及用于对由倾斜入射光学系统单元的表面部分反射的光和由入射光学系统单元的表面部分反射的光进行光谱分析的分析仪。

    MULTIPLE CORNER KIRKPATRICK-BAEZ BEAM CONDITIONING OPTIC ASSEMBLY
    98.
    发明申请
    MULTIPLE CORNER KIRKPATRICK-BAEZ BEAM CONDITIONING OPTIC ASSEMBLY 审中-公开
    多角度KIRKPATRICK-BAEZ光束调节光学组件

    公开(公告)号：WO99043008A1

    公开(公告)日：1999-08-26

    申请号：PCT/US1999/003304

    申请日：1999-02-18

    IPC: G21K1/06

    CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/061

    Abstract: An x-ray reflecting system comprising a plurality of x-ray reflectors, wherein said x-ray reflectors are coupled together to form a Kirkpatrick-Baez side-by-side system of multiple corners and may include multi-layer or graded-d multi-layer Bragg x-ray reflective surfaces.

    Abstract translation: 一种包括多个x射线反射器的x射线反射系统，其中所述x射线反射器耦合在一起以形成多角的Kirkpatrick-Baez并排系统，并且可以包括多层或多层 层布拉格X射线反射面。

    METHOD OF MANUFACTURING AN X-RAY OPTICAL ELEMENT FOR AN X-RAY ANALYSIS APPARATUS
    99.
    发明申请
    METHOD OF MANUFACTURING AN X-RAY OPTICAL ELEMENT FOR AN X-RAY ANALYSIS APPARATUS 审中-公开
    制造X射线分析装置的X射线光学元件的方法

    公开(公告)号：WO9634274A2

    公开(公告)日：1996-10-31

    申请号：PCT/IB9600308

    申请日：1996-04-10

    Applicant: PHILIPS ELECTRONICS NV ,  PHILIPS NORDEN AB

    Inventor： HAISMA JAN ,  D ACHARD VAN ENSCHUT JOHANNES ,  ADEMA CORNELIS LUCAS ,  GIJSBERS JAN CORNELIS ,  DE BOKX PIETER KLASS

    IPC: G01N23/20 ,  G01N23/207 ,  G02B1/00 ,  G02B1/10 ,  G21K1/06

    CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G01N23/207 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

    Abstract: A method of manufacturing an X-ray optical element. The element consists of a body of a material having a shape memory. At a high temperature, i.e. a temperature beyond the transition temperature of the material, the body is pressed so as to impart a first, desired shape. A surface of the body is thus shaped for example, as a logarithmic spiral or as another curved shape. After cooling to a low temperature, i.e. a temperature below the transition temperature of the material, a second, machinable shape is imparted to the body, preferably a flat surface. A number of precision operations can be performed on this second, machinable shape, for example polishing to a surface roughness of 0.5 nm RMS. Subsequent to this precision operation, the body is heated and resumes its first, desired shape which is retained after cooling. The body can be provided, if desired, with a comparatively thin surface layer which is also polished in the flat shape and which bends when the body resumes the desired shape. This layer can be chosen on the basis of desired mechanical (polishability) or X-ray optical properties. The X-ray optical element may comprise notably a multilayer mirror for X-ray purposes, thus forming a high-precision crystal for wavelength analysis.

    Abstract translation: 一种制造X射线光学元件的方法。 该元件由具有形状记忆的材料的主体组成。 在高温下，即超过材料的转变温度的温度下，压制主体以赋予第一所需的形状。 因此，身体的表面例如成形为对数螺旋形或另一种弯曲形状。 在冷却到低温，即低于材料的转变温度的温度之后，将第二可加工的形状赋予主体，优选地被赋予平坦的表面。 可以在该第二可机加工形状上进行许多精密操作，例如抛光至0.5nm RMS的表面粗糙度。 在这种精密操作之后，主体被加热并且恢复其在冷却之后被保持的其第一期望的形状。 如果需要，可以将主体具有相对较薄的表面层，该表面层也被抛光成扁平形状，并且当身体恢复所需形状时弯曲。 该层可以根据期望的机械（抛光性）或X射线光学性质来选择。 X射线光学元件可以特别包括用于X射线目的的多层反射镜，从而形成用于波长分析的高精度晶体。

Patent Agency Ranking