公开(公告)号：CN1368905A

公开(公告)日：2002-09-11

申请号：CN00811377.7

申请日：2000-07-25

Applicant: 恩格尔哈德公司

Inventor： V·罗斯凯 ,  K·W·布拉穆勒 ,  B·C·彼比 ,  J·D·科尼里斯 ,  R·A·曲戈雷 ,  G·A·格拉米茨尼 ,  船曳正起 ,  川内恒久 ,  高桥智也

IPC: B05D7/22 ,  B05D3/04 ,  B01J37/02

CPC classification number: B05D7/22 ,  B01J37/0215 ,  B05C3/09 ,  B05C11/06 ,  B05D1/002 ,  B05D3/042

Abstract: 将催化剂组合物施用到中空基材的内部。该组合物通过将基材浸渍在包含涂料淤浆浴的容器中而涂覆到基材上。随后向该部分浸渍的基材施加真空。真空的强度及其施用时间足以使涂料淤浆由该浴向上抽吸到位于中空基材内部的多个通道中的每一个。在从该浴中取出基材之后,将它旋转180°。在足以将涂料淤浆分配在基材通道内以在其中形成均匀涂覆外形的强度下和时间内,施用一种加压空气射流。

公开(公告)号：CN1267592A

公开(公告)日：2000-09-27

申请号：CN00106409.6

申请日：2000-02-24

Applicant: 杜邦三井氟化物有限公司

Inventor： T·尼施奥 ,  T·艾达

IPC: B29C41/04 ,  B05D7/22 ,  B29K27/18

CPC classification number: B05D1/002 ,  B05D5/083 ,  B05D7/222 ,  B05D7/54

Abstract: 揭示一种滚衬方法,该方法使用单一聚合物材料,生产厚且平滑,在很宽的温度范围没有气泡的氟聚合物衬里。

公开(公告)号：CN107871657A

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201710873010.X

申请日：2017-09-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 金松泰范

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: B05D1/002 ,  B05D3/002 ,  H01L21/06 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明涉及一种基板处理方法和基板处理装置，一边防止气泡卷入在基板的表面形成的图案的凹部，一边将填充剂良好地填充于凹部。基板处理方法包括：液膜形成工序，在基板中的形成有图案的图案形成面形成冲洗液的液膜；积液形成工序，在基板的旋转中心附近，向液膜供给有机溶剂来形成有机溶剂的积液；置换工序，一边使基板以与积液形成工序相比更大的转速旋转，一边向积液供给有机溶剂，从而将构成液膜的冲洗液置换为有机溶剂；涂敷工序，在被有机溶剂覆盖的图案形成面涂敷填充剂溶液；以及，填充工序，使在图案形成面涂敷的填充剂溶液所包含的填充剂，向图案的凹部下沉来进行填充。

公开(公告)号：CN105073587B

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201480013289.9

申请日：2014-01-10

Applicant: 干细胞技术公司

Inventor： S·伍德赛德 ,  O·艾格勒

IPC: B65D1/40 ,  B01J19/00 ,  B65D90/02 ,  C09K3/18

CPC classification number: B01L3/508 ,  B01L3/5085 ,  B01L2200/06 ,  B01L2300/0829 ,  B01L2300/0858 ,  B01L2300/16 ,  B01L2300/161 ,  B01L2300/166 ,  B05D1/002 ,  B05D1/18 ,  B05D5/08 ,  C08G77/24 ,  C09D183/08

Abstract: 本发明涉及用于在容纳液体的容器中的弯月面降低构件，其可以包括物理表面特征，所述物理表面特征覆盖了所述容器的内表面的至少一部分。物理表面特征可以具有第一内表面和第二内表面，二者大致相互平行；并且包括至少一个第三表面，该第三表面在第一表面和第二表面之间延伸。第一内表面、第二内表面和第三表面的构造可物理性地改变液体和物理表面特征之间的后退接触角。可以将涂覆材料涂覆到物理表面特征的多个表面中的至少一个表面上以化学性地改变液体与经涂覆的表面之间的后退接触角，借此，在液体与弯月面降低构件之间形成的后退接触角在约75度至110度之间。

公开(公告)号：CN107051850A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201710240016.3

申请日：2017-04-13

Applicant: 四川圣典节能服务有限公司

Inventor： 吴定国

IPC: B05D7/22 ,  B05D1/02 ,  B05D1/00 ,  B05D3/04

CPC classification number: B05D7/225 ,  B05D1/00 ,  B05D1/002 ,  B05D1/02 ,  B05D3/0413

Abstract: 本发明公开了一种直灯管的喷涂工艺，先在灯管内用硅胶涂覆一层硅胶层，并用40‑80℃烘烤10‑15min后，接着荧光粉喷涂液喷涂直灯管内部，其中荧光粉喷涂液：以重量计，荧光粉：聚氧乙烯：去离子水为3‑5:1‑2：10，荧光粉喷涂液喷涂直灯管时，直灯管的一端连接喷浆设备的喷浆口，另一端连接负压装置，喷涂过程中，直灯管以其轴线旋转，同时通入热风干燥10‑15min，涂覆硅胶层的方法和喷涂荧光粉喷涂液的方法一样。本发明能够将荧光粉均匀喷涂灯管内，防止荧光粉层直接和灯管接触，提高了荧光粉的附着均匀性，提高了LED出光质量。

公开(公告)号：CN104138824B

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201410138551.4

申请日：2014-04-08

Applicant: 英飞凌科技股份有限公司

Inventor： K·皮尔希 ,  H·利特纳 ,  M·卡林

IPC: B05C9/14 ,  B05C11/02 ,  B05C13/02

CPC classification number: B05B12/02 ,  B05B13/02 ,  B05C11/02 ,  B05D1/002 ,  B05D3/007 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/68327 ,  Y10T156/10

Abstract: 本发明的各个实施例涉及向衬底涂敷流体。用于向衬底涂敷流体的装置包括：衬底保持器；流体涂敷设备，被配置用于向所述衬底保持器上的衬底涂敷流体；加热机构，被配置用于对所述流体进行局部加热；以及控制器，被配置用于控制所述加热机构应用局部加热，以便获得所述衬底上的所述流体的希望的厚度分布。

公开(公告)号：CN106626303A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201611233210.0

申请日：2016-10-27

Applicant: 空客赛峰发射器联合股份公司

Inventor： C·维内特 ,  E·博瑞 ,  J·罗多劳瑟 ,  P·拉萨勒 ,  M·姆诺兹 ,  J·博伊瑞

IPC: B29C47/02 ,  B29C53/56 ,  B29C53/80 ,  B29C53/84 ,  B29C70/32 ,  B29L31/30

CPC classification number: B05C5/0225 ,  B05D1/002 ,  B05D1/265 ,  B29C53/66 ,  B29C53/8041 ,  B29C48/0019 ,  B29C48/151 ,  B29C53/56 ,  B29C53/8016 ,  B29C53/845 ,  B29C70/32 ,  B29L2031/3097

Abstract: 本发明提供一种制造用于推进器的本体或后部组件的热防护覆层的装置，所述装置至少包括：挤出设备，包括具有出口孔的模具，弹性体材料的条带通过出口孔挤出，挤出设备设有配置为改变模具的出口孔的尺寸的模具控制系统；芯轴，配置为绕其轴线旋转；沉积头部，配置为将条带沉积在芯轴上，沉积头部和芯轴配置为沿芯轴的纵向轴线相对于彼此运动；输送系统，配置为将条带从模具的出口孔输送至沉积头部；以及厚度监测系统，配置为测量条带在沉积头部上和在芯轴上的厚度，并将每个测得的厚度值与预定值进行比较，所述厚度监测系统还配置为：根据这种对比结果控制模具控制系统，从而使得模具的出口孔的尺寸改变。

公开(公告)号：CN106475273A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201610916420.3

申请日：2013-04-17

Applicant: 斯多里机械有限责任公司

Inventor： N·A·祖姆伯格 ,  G·H·布彻尔 ,  A·E·卡斯滕斯 ,  J·A·戴维森

IPC: B05C5/02

CPC classification number: B05D7/227 ,  B05C5/022 ,  B05C13/02 ,  B05D1/002 ,  B05D1/02 ,  B05D1/26 ,  B05D3/12 ,  B05D7/22

Abstract: 本申请公开了一种衬垫机(100)，包括基部线性结构固定在基部(102)上的静止位置中。传送组件(130)例如传送器带将容器封闭件(200)传送给密封剂枪(110)。操纵机构(140)例如多个马达和至少一个轮部件在密封剂枪(110)分配密封剂以便向容器封闭件(200)施加衬垫时相对于相应一个密封剂枪来操纵(例如旋转或自旋)各容器封闭件(200)。本申请还公开了一种在衬垫机(100)中向容器封闭件(200)施加衬垫的方法。(102)。多个流体分配装置例如密封剂枪(110)以

公开(公告)号：CN104549935B

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201410584699.0

申请日：2014-10-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 阿部胜也 ,  宫原康弘 ,  长谷川悠史

IPC: B05D1/02 ,  B05D1/36 ,  B05D3/00 ,  G03G15/20

CPC classification number: B05D1/002 ,  B05D1/02 ,  B05D1/26 ,  B05D1/36 ,  B05D1/40 ,  B05D7/52 ,  B05D2254/02 ,  B05D2518/10 ,  G03G15/00 ,  G03G15/20 ,  G03G15/2053 ,  G03G15/2057 ,  G03G15/206 ,  G03G2215/00413

Abstract: 涂膜形成方法以及定影构件的制造方法。一种涂膜形成方法，其包括：从喷嘴将第一液体供给到圆筒状基体以形成第一液体的涂膜，其中，所述方法包括：挤压含第二液体的构件，以在周面上形成第二液体的液膜，并且，第一液体的涂膜的形成包括：将第一液体供给到形成于基体的周面的第二液体的液膜上，以在液体供给单元和第二液体的液膜之间形成第一液体的珠，以及在基体的周向上扩展珠。

公开(公告)号：CN105470123A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510642420.4

申请日：2015-09-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李瑟 ,  郑煐宪 ,  崔从洙

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: B05D1/002 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/306

Abstract: 在根据本发明构思的示例性实施例的装置和方法中，可使用两种或多种处理溶液处理基板。基板处理装置可包括：处理容器，所述处理容器提供有处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元提供在所述处理容器中以支撑基板；和溶液供给单元，所述溶液供给单元将处理溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板上。溶液供给单元可包括：刻蚀溶液供给喷嘴，所述刻蚀溶液供给喷嘴将刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的边缘区域；和防刻蚀溶液(EPS)供给喷嘴，所述防刻蚀溶液供给喷嘴将防刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的中央区域。因此，可以防止基板的中央区域变干。