적응형 피드백 제어 연마를 위한 방법
    101.
    发明公开
    적응형 피드백 제어 연마를 위한 방법 审中-实审
    自适应反馈控制抛光方法

    公开(公告)号:KR1020170118682A

    公开(公告)日:2017-10-25

    申请号:KR1020177012332

    申请日:2015-10-20

    Abstract: 적응형피드백제어방법은기판상의두 개의환형영역들사이의유전체층세정시간차를최소화하기위해화학적기계적연마공정을위해제공된다. 광학윈도우를갖는광학시스템은연마패드아래로통과하고적어도 2 개의환형영역들로부터반사광간섭신호들을검출한다. 사전-세정시간차이가결정되어 CMP 헤드막 압력및 리테이닝링 압력중 하나또는둘 모두에대한조정을계산하는데 사용된다. 압력조정은제 2 연마주기의필요성을피하고적어도 2 개의환형영역들내의금속층의디싱차이및 저항차를감소시키기위해연마주기의종료전에적용된다. 몇몇실시예들에서, 제 2 압력조정은주기의종료전에수행되고상이한 CMP 헤드막 압력조정들이상이한압력구역들에서헹헤진다.

    Abstract translation: 提供了一种自适应反馈控制方法用于化学机械抛光工艺,以最小化衬底上两个环形区域之间的电介质层清洁时间差。 具有光学窗口的光学系统通过抛光垫下方并检测来自至少两个环形区域的反射光干涉信号。 确定预清洁时间差并用于计算对CMP头膜片压力和保持环压力中的一个或两个的调节。 在抛光周期结束之前施加压力调整以避免需要第二抛光周期并且减少至少两个环形区域中的凹陷差异和金属层的电阻差异。 在一些实施例中,在循环结束之前执行第二压力调整,并且在不同的压力区域中冲洗不同的CMP头膜压力调整。

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