公开(公告)号：EP1240114A1

公开(公告)日：2002-09-18

申请号：EP00993506.5

申请日：2000-12-14

Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

Inventor： WERDECKER, Waltraud ,  FABIAN, Heinz ,  GERTIG, Udo ,  LEIST, Johann ,  GÖBEL, Rolf

IPC: C03C3/06 ,  C03C1/02 ,  C03B19/10

CPC classification number: C03C1/026 ,  C03B19/1065 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/54

Abstract: The invention relates to a method for the production of opaque quartz glass wherein a blank is made from synthetic SiO2 crystals and heated to form a blank body made of opaque quartz glass at a given vitrification temperature. A method for the production of pure, opaque quartz glass is disclosed wherein said quartz glass has a homogeneous pore distribution and a high density, a high viscosity and a lower tendency to devitrify. According to the invention, the SiO2 crystals are formed from an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles (21; 31) having a specific surface (according to BET) between 1.5 m2/g and 40 m2/g with a stamping density of at least 0.8 g/cm3. SiO2 granulate (21; 31) suitable for use in performing the procedure is characterized in that it is composed of an at least partially porous agglomerate of SiO2 primary particles and has a specific surface (according to BET) between 1.5 m2/g and 40 m2/g in addition to a stamping density of at least 0.6 g/cm3.

公开(公告)号：EP0909743B1

公开(公告)日：2002-01-30

申请号：EP98119541.5

申请日：1998-10-15

Applicant: Tosoh Corporation ,  Tosoh Quartz Corporation

Inventor： Nagata, Hiroya ,  Kudo, Masayuki, 206, Tosoh Corporation Machida-Ryo ,  Tsukuma, Koji ,  Kikuchi, Yoshikazu ,  Akiyama, Tomoyuki

IPC: C03C3/06 ,  C03C11/00

CPC classification number: C03B19/09 ,  C03C3/06 ,  C03C11/007 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  Y10S65/08 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/249969

公开(公告)号：EP0909743A1

公开(公告)日：1999-04-21

申请号：EP98119541.5

申请日：1998-10-15

Applicant: Tosoh Corporation ,  NIPPON SILICA GLASS CO., LTD.,

Inventor： Nagata, Hiroya ,  Kudo, Masayuki, 206, Tosoh Corporation Machida-Ryo ,  Tsukuma, Koji ,  Kikuchi, Yoshikazu ,  Akiyama, Tomoyuki

IPC: C03C3/06 ,  C03C11/00

CPC classification number: C03B19/09 ,  C03C3/06 ,  C03C11/007 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  Y10S65/08 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/249969

Abstract: An opaque silica glass article comprising a transparent portion and an opaque portion, wherein the opaque portion has an apparent density of 1.70 - 2.15 g/cm 3 and contains 5 x 10 4 - 5 x 10 6 bubbles per cm 3 , said bubbles having an average diameter of 10 - 100 µm; and the transparent portion has an apparent density of 2.19 - 2.21 g/cm 3 and the amount of bubbles having a diameter of at least 100 µm in the transparent portion is not more than 1 x 10 3 per cm 3 .
The opaque silica glass article is made by a process wherein a mold is charged with a raw material for forming the opaque portion, which is a mixture comprising a silica powder with a small amount of a silicon nitride powder, and a raw material for forming the transparent portion so that the two raw materials are located in the positions corresponding to the opaque and the transparent portions, respectively, of the silica glass article to be produced; and the raw materials are heated in vacuo to be thereby vitrified.

Abstract translation: 不透明石英玻璃制品，其包括和不透明部分的透明部分，worin不透明部分具有在1.70表观密度 - 2.15克/厘米<3>和含有5×10 <4> - 每平方厘米5×10 <6>气泡 <3>，。所述气泡具有在10至100微米平均直径; 和透光部分具有至2:21的2:19表观密度克/厘米<3>和具有透明部分的直径的至少100微米的气泡的量不大于1×10 <3>每厘米多个<3 >。 不透明石英玻璃制品是由worin的模具中装入的原料用于形成遮光部的方法，所有这些是包括具有氮化硅粉末的少量的二氧化硅粉末的混合物，和一个原料用于形成由 透明部分，以便做了两种原料都位于位置分别对应于不透明和透明部分，该石英玻璃制品要生产的; 和原材料是在真空中加热从而被玻璃化。

公开(公告)号：KR1020170009908A

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：KR1020167035090

申请日：2015-05-13

Applicant: 코닝 인코포레이티드

Inventor： 북바인더,앤드리아웨이스 ,  북바인더,다나크라이그 ,  그로스,티모시마이클 ,  탄돈,푸쉬카

IPC: C03C3/04 ,  C03C3/06 ,  C03C3/091 ,  C03C3/11 ,  C03C21/00 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C3/045 ,  C03C3/06 ,  C03C3/091 ,  C03C3/111 ,  C03C21/007 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/24 ,  Y10T428/315

Abstract: 개시된알칼리가-없는유리는 (중량%로) 50% ≤ SiO≤ 80%, 2% ≤ AlO≤ 17%, 8% ≤ BO≤ 36%, 및 2% 이상내지 25% 이하의 CaO, MgO, BaO, SrO 또는 ZnO 중적어도하나를갖는다. 상기알칼리가-없는유리는 0.2 중량%를초과하는 N을갖는표면층을가질수 있다. 이러한알칼리가-없는유리는질화공정에의해달성되고, 증가된강도, 내스크래치성및 화학적내구성을나타낸다.

Abstract translation: 公开了无碱玻璃，其重量百分比为50％，SiO 2和n IE 80％，2％，Al 2 O 3和N 2; 17％，8％和10％; B 2 O 3和N 3; 36％，并且大于或等于2％且小于或等于 CaO，MgO，BaO，SrO或ZnO中的至少一种。 无碱玻璃可以具有大于0.2重量％N的表面层。这种无碱玻璃通过渗氮工艺实现，并且显示出增加的强度，耐划伤性和化学耐久性。

公开(公告)号：KR1020150138170A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：KR1020157022805

申请日：2014-02-19

Applicant: 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지

Inventor： 퀸보도

IPC: C03C4/00 ,  G02B1/02 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: 본발명은, 193 nm 의적용파장을갖는 ArF 엑시머레이저리소그래피프로세스에서의사용을위한합성석영유리로만들어지며, 실질적으로산소결함사이트가없는유리구조, 0.1 x 10molecule/cm내지 1.0 x 10molecule/cm범위의수소함량, 2 x 10molecule/cm미만의 SiH 기의함량, 및 0.1 과 100 wt. ppm 사이의범위의히드록실기의함량을포함하고, 상기유리구조가 1070℃미만의가상온도를갖는, 광학컴포넌트에관한것이다. 본발명의목적은 633 nm 의측정파장을이용하여압축거동의측정에기초한적용파장으로 UV 레이저방사선을이용할때 압축거동의신뢰적인예측을허용하는것이다. 이것은, 컴포넌트가, 펄스폭이 125 ns 이고 2000 Hz 의펄스반복주파수에서각각의에너지밀도가 500 μJ/cm인 5x10개펄스들을이용하여 193 nm 의파장을갖는방사선에의한조사에응답하여레이저유도굴절률변화를겪고, 상기변화는, 193 nm 의적용파장을이용한측정시제 1 측정값 M의합계를내고, 633 nm 의측정파장을이용하여측정시제 2 측정값 M의합계를내고, 여기서 M/M

公开(公告)号：KR100653861B1

公开(公告)日：2006-12-05

申请号：KR1020057007709

申请日：2003-11-28

Applicant: 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤

Inventor： 사토타쯔히로 ,  카이토타카히로 ,  후지노키아키라 ,  카토토시유키 ,  세가와토흐루 ,  요시다노부마사

IPC: C03B20/00 ,  C03B8/04 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26

Abstract: 첫 번째로, 불순물이 적고 천연 석영 유리와 동등 이상의 고온 점도 특성을 가지고, 고온 환경하에서도 변형하기 어려운 합성 석영 유리의 제조 방법, 특히 발포가 없고 치밀한 고내열성 합성 석영 유리의 제조 방법을 제공한다.
두 번째로, 본 발명의 제조 방법에 의하여 용이하게 얻어지는 고내열성 합성 석영 유리체, 특히 발포가 없고 치밀하며, 적외선 흡수율 및 방출율이 높고, 또 알칼리금속 확산 방지 효과가 대단히 높은 투명 또는 흑색 유리체를 제공한다.
245nm의 흡수 계수가 0.05cm
-1 이상인 고내열성 석영 유리체를 제조하는 방법으로, 실리카 다공질체를 환원 처리한 후, 소성해서 치밀한 유리체로 하도록 했다.
고내열성 합성 석영 유리, 실리카 다공질체, 환원 처리, 치밀한 유리체, 발포, 고온 점도 특성, 석영 유리 지그, 투명 석영 유리, 흑색 석영 유리, 실라잔, 휘발성 규소화합물

公开(公告)号：KR101044771B1

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：KR1020087025927

申请日：2007-09-04

Applicant: 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 ,  신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤

Inventor： 베버,쥬에르겐 ,  사토,타츠히로 ,  슈나이더,랄프 ,  호프만,아킴 ,  게바우어,크리스티안

IPC: H01L21/22 ,  H01L21/265

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03C4/20 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/3435 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/54

Abstract: 본 발명은 반도체 제조에 사용되는 석영 유리의 구성요소에 관한 것으로서, 인접 표면 영역 내의 적어도 상기 구성요소는 첫 번째 도펀트와 두 번째 도펀트의 공동-도핑(co-doping)을 나타내고, 상기 두 번째 도펀트는 0.1-3% 질량퍼센트(SiO
2 와 도펀트의 전체 질량에 대한) 농도의 하나 또는 그 이상의 희토류 금속 산화물을 포함한다. 또한 에칭 효과와 함께 높은 순도와 건조 에칭 저항성을 가지며 알루미튬 옥사이드와의 공동 도핑에 의해 야기되는 단점을 피하기 위한 에칭 효과를 이용하여 반도페 제조에 사용되는 석영 유리 구성요소를 제공하는 방법에 있어서, 본 발명은 첫번째 도펀트가 질소이고 석영 유리의 준안정 하이드록실 그룹의 평균 함량이 30 질량ppm 이하인 것을 특징으로 발명을 제공한다.
반도체, 석영 유리, 도펀트, 질소 도펀트

公开(公告)号：KR1020070120083A

公开(公告)日：2007-12-21

申请号：KR1020077004944

申请日：2006-03-30

Applicant: 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 ,  신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤

Inventor： 웨버유르겐 ,  포게토비아스 ,  트로머마틴 ,  쿠엔보도 ,  키르스트울리히 ,  베르덱커발트라우드

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/062 ,  C03C17/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/006 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/54 ,  C30B25/12 ,  C30B31/14 ,  C30B35/00 ,  Y02P40/57

Abstract: An ideal quartz glass for a wafer holder for application in an etching environment is characterised both by high purity and also a high dry etching resistance. According to the invention, such a quartz glass may be achieved, whereby the quartz glass is doped with nitrogen, at least in a region near the surface, has an average content of metastable hydroxy groups of less than 30 wt. ppm, the fictive temperature is less than 1250 °C and the viscosity at a temperature of 1200 °C is at least 1013 dPas. A commercial method for production of such a quartz glass comprises the following method steps: fusion of a SiO2 raw material to give a quartz glass blank, whereby the SiO2 raw material or the quartz glass blank is subjected to a dehydration process, heating of the SiO2 raw material or the quartz glass blank to a nitriding temperature in the range between 1050 °C and 1850 °C under an atmosphere containing ammonia, a temperature treatment, by means of which the quartz glass of the quartz glass blank is brought to a fictive temperature of 1250 °C or less and a surface treatment of the quartz glass blank to give the quartz glass holder.

Abstract translation: 用于在蚀刻环境中应用的晶片保持器的理想石英玻璃的特征在于高纯度和高耐干蚀刻性。 根据本发明，可以实现这种石英玻璃，由此至少在靠近表面的区域中石英玻璃掺杂有氮，其平均羟基含量小于30wt。 ppm，假想温度低于1250℃，1200℃温度下的粘度至少为1013 dPas。 生产这种石英玻璃的商业方法包括以下方法步骤：将SiO 2原料熔化以得到石英玻璃坯料，由此使SiO 2原料或石英玻璃坯料进行脱水处理，加热SiO 2 原料或石英玻璃坯料，在含有氨的气氛下，在1050℃至1850℃的范围内的氮化温度进行温度处理，通过该温度处理将石英玻璃坯料的石英玻璃变为假想温度 为1250℃以下，对石英玻璃坯料进行表面处理，得到石英玻璃支架。

公开(公告)号：KR100482478B1

公开(公告)日：2005-04-14

申请号：KR1020027010936

申请日：2000-11-28

Applicant: 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션

Inventor： 베예러르네엠 ,  브뢰흘페터 ,  보나기안-루카 ,  게르만롤란트 ,  호르스트폴케르트 ,  오프라인베르트 ,  잘레밍크훕엘 ,  비스만도로테아베

IPC: C03C3/04

CPC classification number: G02B6/122 ,  C01B21/0823 ,  C01B21/087 ,  C01P2002/82 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/24 ,  C03C1/02 ,  C03C3/045 ,  C03C3/111 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/24 ,  C23C16/308 ,  G02B6/105 ,  G02B6/13 ,  G02B6/132 ,  G02B2006/12119

Abstract: 평면 광 도파관 제조에 사용될 수 있는 신규한 재료가 제공된다. 상기 재료는 규소, 산소 및 질소 및 추가로 중수소를 포함한다. 또한, 중수소화된 기상 전구체를 사용하는, 상기 신규 재료에 기초된 평면 광 도파관의 제조방법이 제공된다.

公开(公告)号：TW201434778A

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：TW103103371

申请日：2014-01-29

Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 ,  HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： 庫恩 伯多

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03B19/01 ,  G02B1/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: 本發明係關於一種由合成石英玻璃製成之光學元件，應用於氬氟準分子雷射製版術，其操作波長為193nm，且具一基本上不含氧缺陷點之玻璃結構，其氫含量介於0.1×1016分子/cm3至1.0×1018分子/cm3之間，矽氫基含量低於2×1017分子/cm3，氫氧基含量介於0.1及100重量百萬分比之間，其中，該玻璃結構具一低於1070℃之假想溫度。若以量測波長為633nm之密實度測量為起點，使其得以可靠預測紫外線雷射於操作波長操作時之密實度，則該光學元件之架構應如下所述，即以一波長為193nm及5×109脈衝數之射線照射，脈衝寬度為125ns，各脈衝之能量密度為500μJ/cm2，而且脈衝重複頻率為2000Hz，用以反應雷射誘生之折射係數變化，其數據以193nm之操作波長所測得之第一測量值為M193nm，而以633nm之量測波長所測得之第二測量值為M633nm，而且：M193nm/M633nm＜1.7成立。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种由合成石英玻璃制成之光学组件，应用于氩氟准分子激光制版术，其操作波长为193nm，且具一基本上不含氧缺陷点之玻璃结构，其氢含量介于0.1×1016分子/cm3至1.0×1018分子/cm3之间，硅氢基含量低于2×1017分子/cm3，氢氧基含量介于0.1及100重量百万分比之间，其中，该玻璃结构具一低于1070℃之假想温度。若以量测波长为633nm之密实度测量为起点，使其得以可靠预测紫外线激光于操作波长操作时之密实度，则该光学组件之架构应如下所述，即以一波长为193nm及5×109脉冲数之射线照射，脉冲宽度为125ns，各脉冲之能量密度为500μJ/cm2，而且脉冲重复频率为2000Hz，用以反应激光诱生之折射系数变化，其数据以193nm之操作波长所测得之第一测量值为M193nm，而以633nm之量测波长所测得之第二测量值为M633nm，而且：M193nm/M633nm＜1.7成立。