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    光学部材冷却装置、鏡筒及び露光装置ならびにデバイスの製造方法
    102.
    发明申请
    光学部材冷却装置、鏡筒及び露光装置ならびにデバイスの製造方法 审中-公开
    光学部件冷却装置，透镜条，曝光装置和装置制造方法

    公开(公告)号：WO2009051199A1

    公开(公告)日：2009-04-23

    申请号：PCT/JP2008/068792

    申请日：2008-10-16

    Applicant: 株式会社 ニコン ,  西川 仁

    Inventor： 西川 仁

    IPC: H01L21/027 ,  G02B5/08 ,  G02B7/00 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G02B7/008 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/065

    Abstract: 　ミラー（４１）のような光学部材を冷却する冷却装置は、冷却部材（５１）と、ミラー（４１）の裏面（４１Ｂ）に冷却部材（５１）の接触面（５１Ａ）を密着させる係合機構（５２）とを含む。裏面（４１Ｂ）と接触面（５１Ａ）は平坦化されている。ミラー（４１）の裏面（４１Ｂ）には、溝部（４６）と張出部（４８）とを有する係止部（４４）が形成されている。係合機構（５２）の軸部（５７）が係止部（４４）の張出部（４８）と係合した状態で、係合機構（５２）の係合部材（６０）は、ばね（５８）により冷却部材（５１）側に付勢される。

    Abstract translation: 用于冷却诸如反射镜（41）的光学构件的冷却装置包括冷却构件（51）和用于使冷却构件（51）的接触表面（51A）紧密接触的接合机构（52） 反射镜（41）的后表面（41B）。 后表面（41B）和接触表面（51A）变平。 在反射镜（41）的后表面（41B）上形成有具有槽部（46）和延伸部（48）的锁定部（44）。 在接合机构（52）的轴部（57）与锁定部（44）的延伸部（48）卡合的状态下，卡合机构（52）的卡合部件（60）向着 冷却部件（51）由弹簧（58）构成。

    曲率分布結晶レンズの製造方法、偏光制御装置、Ｘ線反射率測定装置およびＸ線反射率測定方法
    103.
    发明申请
    曲率分布結晶レンズの製造方法、偏光制御装置、Ｘ線反射率測定装置およびＸ線反射率測定方法 审中-公开
    用于制造曲线分布晶体镜，偏振控制装置，X射线反射测量装置和X射线反射测量方法

    公开(公告)号：WO2007072906A1

    公开(公告)日：2007-06-28

    申请号：PCT/JP2006/325491

    申请日：2006-12-21

    Applicant: 国立大学法人京都大学 ,  国立大学法人東北大学 ,  奥田 浩司 ,  落合 庄治郎 ,  中嶋 一雄 ,  藤原 航三

    Inventor： 奥田 浩司 ,  落合 庄治郎 ,  中嶋 一雄 ,  藤原 航三

    IPC: G21K1/06 ,  G01N23/201

    CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

    Abstract: 　Si,Ge,GaAs等の半導体単結晶板が型押し部材に挟み込まれて高温加圧により塑性変形された場合に結晶格子面の結晶表面に対する傾きがJohanssonの回折条件を満たすように、半導体単結晶板の片面上を研磨する予備研磨工程と、集光円を回転させた凸状の２次曲面を持つ凸状型押し部材、および、Johanssonの回折条件を満たすために上記半導体単結晶板の結晶格子が満たすべき曲率の凹状の２次曲面を持つ凹状型押し部材の間に、研磨された面が凸状型押し部材の２次曲面に対向し、研磨されていない面が凹状型押し部材の２次曲面に対向するように半導体単結晶板を挟み込み、高温高圧下で塑性変形させる。これにより、曲率分布結晶レンズを効率よく作成することができる。

    Abstract translation: 在预处理步骤中，对半导体单晶板的一侧进行研磨，使得当将Si，Ge，GaAs等的半导体单晶板插入到压花部件中，然后在高温高压条件下进行塑性变形 晶格面对晶体表面的倾斜度满足约翰逊衍射条件。 半导体单晶板被保持在具有光聚焦圆已经旋转的突出二次曲线的突出按压构件和具有凹凸二次曲线的凹入的按压构件之间，其具有要被半导体的晶格所满足的曲率 用于满足Johansson衍射条件的单晶板。 在这种情况下，保持半导体单晶板使得抛光面以二次曲线面对突出的按压构件，并且未抛光面以其二次曲线面对凹入的按压构件，随后在高温高压下塑性变形 条件。 根据上述结构，可以有效地制作曲率分布晶体透镜。

    REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT
    105.
    发明申请
    REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT 审中-公开

    公开(公告)号：US20180307142A1

    公开(公告)日：2018-10-25

    申请号：US16011019

    申请日：2018-06-18

    Applicant: Carl Zeiss SMT GmbH

    Inventor： Peter Huber

    IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

    CPC classification number: G03F7/7015 ,  G03F1/24 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/065

    Abstract: A reflective optical element, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus or a mask inspection apparatus. According to one aspect, the reflective optical element has an optically effective surface, a substrate (405, 505), a reflection layer system (410, 510) and at least one porous outgassing layer (450, 550), which at least intermittently releases particles adsorbed in the outgassing layer (450, 550) when the optically effective surface (400a, 500a) is irradiated by electromagnetic radiation.

    Apparatus and system for generating extreme ultraviolet light and method of using the same
    107.
    发明授权
    Apparatus and system for generating extreme ultraviolet light and method of using the same 有权
    用于产生极紫外光的装置和系统及其使用方法

    公开(公告)号：US09544985B2

    公开(公告)日：2017-01-10

    申请号：US14803920

    申请日：2015-07-20

    Applicant: Jin-Seok Heo ,  Jin-Hong Park

    Inventor： Jin-Seok Heo ,  Jin-Hong Park

    IPC: A61N5/06 ,  H05G2/00 ,  G21K1/06 ,  G03F7/20 ,  B05B12/12

    CPC classification number: H05G2/008 ,  B05B12/12 ,  G03F7/70033 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  H05G2/005

    Abstract: Provided is an apparatus for generating extreme ultraviolet light. The apparatus includes a collector mirror unit, a gas supply unit configured to supply a processing gas to the collector mirror unit, a gas supply nozzle arranged in at least one area of the collector mirror unit and configured to supply the processing gas to a surface of the collector mirror unit, and a controller configured to adjust a shape of a spray hole of the gas supply nozzle. The shape of the spray hole may be changed according to a control operation of the controller.

    Abstract translation: 提供一种用于产生极紫外光的装置。 该装置包括收集反射镜单元，被配置为向收集反射镜单元供应处理气体的气体供给单元，设置在收集反射镜单元的至少一个区域中并被配置为将处理气体供应到 收集器反射镜单元和被配置为调节气体供应喷嘴的喷射孔的形状的控制器。 可以根据控制器的控制操作来改变喷孔的形状。

    Dual elliptical reflector with a co-located foci for curing optical fibers
    108.
    发明授权
    Dual elliptical reflector with a co-located foci for curing optical fibers 有权
    双椭圆形反射器，具有用于固化光纤的共定位焦点

    公开(公告)号：US09105367B2

    公开(公告)日：2015-08-11

    申请号：US14514277

    申请日：2014-10-14

    Applicant: Phoseon Technology, Inc.

    Inventor： Doug Childers

    IPC: G21K5/00 ,  C03C25/12 ,  F26B13/00 ,  G21K1/06

    CPC classification number: G21K5/00 ,  C03C25/12 ,  F26B3/28 ,  F26B13/00 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065

    Abstract: A device for UV curing a coating or printed ink on a workpiece such as an optical fiber comprises dual elliptical reflectors arranged to have a co-located focus. The workpiece is centered at the co-located focus such that the dual elliptical reflectors are disposed on opposing sides of the workpiece. Two separate light sources are positioned at a second focus of each elliptical reflector, wherein light irradiated from the light sources is substantially concentrated onto the surface of the workpiece at the co-located focus.

    Abstract translation: 用于在诸如光纤的工件上UV涂覆或印刷油墨的装置包括布置成具有共同定位焦点的双椭圆形反射器。 工件在同一焦点处居中，使得双椭圆形反射器设置在工件的相对侧上。 两个单独的光源被定位在每个椭圆形反射器的第二焦点处，其中从光源照射的光在共同定位的焦点处基本集中在工件的表面上。

    Source-collector module with GIC mirror and xenon liquid EUV LPP target system
    109.
    发明授权
    Source-collector module with GIC mirror and xenon liquid EUV LPP target system 有权
    源收集器模块采用GIC镜和氙液EUV LPP目标系统

    公开(公告)号：US08258485B2

    公开(公告)日：2012-09-04

    申请号：US12807165

    申请日：2010-08-30

    Applicant: Richard A. Levesque ,  Natale M. Ceglio ,  Giovanni Nocerino ,  Fabio Zocchi

    Inventor： Richard A. Levesque ,  Natale M. Ceglio ,  Giovanni Nocerino ,  Fabio Zocchi

    IPC: H01J37/20

    CPC classification number: G21K1/067 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067 ,  H05G2/003 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

    Abstract: A source-collector module (SOCOMO) for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV radiation, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror arranged relative to the LPP and having an input end and an output end. The LPP is formed using an LPP target system having a light source portion and a target portion, wherein a pulsed laser beam from the light source portion irradiates Xenon liquid in the target portion. The GIC mirror is arranged relative to the LPP to receive the EUV radiation at its input end and focus the received EUV radiation at an intermediate focus adjacent the output end. A radiation collection enhancement device having at least one funnel element may be used to increase the amount of EUV radiation provided to the intermediate focus and/or directed to a downstream illuminator. An EUV lithography system that utilizes the SOCOMO is also disclosed.

    Abstract translation: 用于产生发射EUV辐射的激光产生等离子体（LPP）的源极集电极模块（SOCOMO）以及相对于LPP布置并具有输入端和输出端的掠入射收集器（GIC）反射镜。 使用具有光源部分和目标部分的LPP靶系统形成LPP，其中来自光源部分的脉冲激光束照射目标部分中的氙液体。 GIC反射镜相对于LPP布置以在其输入端接收EUV辐射，并将接收的EUV辐射聚焦在邻近输出端的中间焦点。 具有至少一个漏斗元件的辐射收集增强装置可以用于增加提供给中间焦点和/或被引导到下游照明器的EUV辐射的量。 还公开了利用SOCOMO的EUV光刻系统。

    EUV COLLECTOR
    110.
    发明申请
    EUV COLLECTOR 有权
    EUV收藏家

    公开(公告)号：US20120050703A1

    公开(公告)日：2012-03-01

    申请号：US13214470

    申请日：2011-08-22

    Applicant: Michael Layh ,  Udo Dinger

    Inventor： Michael Layh ,  Udo Dinger

    IPC: G03F7/20 ,  G02B7/192 ,  G03B27/70 ,  G21K5/00

    CPC classification number: G21K1/06 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70891 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

    Abstract: An EUV collector for collecting and transmitting radiation from an EUV radiation source includes at least one collector mirror for reflecting an emission of the EUV radiation source, which is rotationally symmetric with respect to a central axis. The EUV collector also includes a cooling device for cooling the at least one collector mirror. The cooling device has at least one cooling element, which has a course with respect to the collector mirror, in each case, such that the projection of the course into a plane perpendicular to the central axis has a main direction, which encloses an angle of at most 20° with respect to a predetermined preferred direction. The collector transmits improved quality radiation to illuminate an object field.

    Abstract translation: 用于收集和发射来自EUV辐射源的辐射的EUV收集器包括至少一个收集器反射镜，用于反射相对于中心轴旋转对称的EUV辐射源的发射。 EUV收集器还包括用于冷却至少一个收集器反射镜的冷却装置。 冷却装置具有至少一个冷却元件，该冷却元件在每种情况下具有相对于收集器反射镜的过程，使得该过程的投影垂直于中心轴线的平面具有主方向，该主方向包围 相对于预定的优选方向为至多20°。 收集器传输改进的质量辐射以照亮物体场。

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