公开(公告)号：KR1020080022193A

公开(公告)日：2008-03-10

申请号：KR1020087000962

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool includes a rotatable retaxder configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens. ® KIPO & WIPO 2008

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的偏振传感器，其中所述光罩极化传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具包括可旋转的重放机，其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。 ®KIPO＆WIPO 2008

公开(公告)号：KR1020080015146A

公开(公告)日：2008-02-18

申请号：KR1020087000965

申请日：2006-06-13

Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.

Inventor： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 ,  데보아이요,빌헬무스페트루스 ,  반그리벤브로에크,헨드리쿠스로베르투스마리에 ,  클라센,미첼프랑소와즈후베르트 ,  콕,하이코빅터 ,  베렌스,마르티옌게라르트도미니크 ,  우이터디예크,탐모 ,  루이야커스,빌헬무스야코부스마리아 ,  쿠이퍼,요한네스마리아 ,  반두렌,레온 ,  존네벨트,야콥 ,  기링,에르빈요한네스마르티누스

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01J4/04 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308

Abstract: A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a polarization sensor configured at least in part to couple to a reticle stage, wherein components of the reticle polarization sensor can be loaded and unloaded in the lithographic apparatus in the manner used for conventional reticles. In one configuration an active reticle tool (40) includes a rotatable retarder (R) configured to vary the retardation applied to polarized light received from a field point in the illumination system. In another configuration, a passive reticle tool is configured as an array of polarization sensor modules, where the amount of retardation applied to received light by fixed retarders varies according to position of the polarization sensor module. Accordingly, a plurality of retardation conditions for light received at a given field point can be measured, wherein a complete determination of a polarization state of the light at the given field point can be determined. In another configuration, the polarization sensor is configured to measure the effect of a projection lens on a polarization state of light passing through the projection lens.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 至少部分地配置为耦合到掩模版平台的偏振传感器，其中所述光罩极化传感器的部件可以以用于常规掩模版的方式在光刻设备中加载和卸载。 在一种配置中，有源掩模版工具（40）包括可旋转延迟器（R），其被配置为改变施加到照明系统中的场点所接收的偏振光的延迟。 在另一种配置中，被动掩模版工具被配置为偏振传感器模块的阵列，其中由固定延迟器施加到接收光的延迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。 因此，可以测量在给定场点处接收的光的多个延迟条件，其中可以确定在给定场点处的光的偏振状态的完全确定。 在另一种配置中，偏振传感器被配置为测量投影透镜对通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：KR100532009B1

公开(公告)日：2005-11-29

申请号：KR1020037007542

申请日：2001-10-12

Applicant: 인피네온 테크놀로지즈 에스시300 게엠베하 운트 코. 카게

Inventor： 퀴르너볼프강

IPC: G01J4/04

CPC classification number: G01N21/23 ,  G01J4/04

Abstract: The present invention relates to an apparatus and a method for detecting an amount of depolarization of a linearly polarized beam transmitted by a birefringent medium in the direction of the optical axis thereof. The apparatus comprises a first beam splitter (7) for separating an on-axis portion (2) of said linearly polarized beam into the orthogonal components (3,4), two photodetectors (8,9) for detecting each component (3,4), a second beam splitter (12) for separating an off-axis portion (11) of said linearly polarized beam into the orthogonal components (15,16), wherein said second beam splitter (12) is disposed off-axis of the incident linearly polarized beam (1), a second set of photodetectors for detecting the components (15,16) separated by said second beam splitter (12), and a subtracting device (17) for substracting the signals received by said second set of photodetectors (13,14) from the respective signals received by the first two photodetectors (8,9).

公开(公告)号：KR1020050075094A

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：KR1020040002880

申请日：2004-01-15

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 제갈원 ,  조현모 ,  조용재 ,  이윤우

IPC: G01N21/21

CPC classification number: G01J3/447 ,  G01J4/04 ,  G01N21/211 ,  G01N21/15 ,  G01N23/2076 ,  G03H2222/17

Abstract: An ellipsometry system and method using spectral imaging are provided. The ellipsometry system includes a light source group for projecting a white light collimated to a multi-point region defined on the surface of a sample, a light analysis group for polarizing a reflected white light to analyze it, and a spectral imaging group for dispersing and imaging the polarized white light. The white light collimated to the multi-point region is input to the spectral imaging group and dispersed by a light dispersing means by wavelengths such that the dispersed lights are imaged on one axis of an imaging plane by the points forming the multi-point region and imaged on the other axis of the imaging plane by wavelengths, to obtain optical data having information about the physical property of the points and wavelengths. Accordingly, a large amount of data can be obtained by wavelengths and points to improve rapidity and reliability of measurement.

公开(公告)号：KR1020040089081A

公开(公告)日：2004-10-20

申请号：KR1020047007526

申请日：2003-03-03

Applicant: 가부시키가이샤 다카오카 세이사쿠쇼

Inventor： 이시하라미츠히로

IPC: G01B11/24

CPC classification number: G01B11/25 ,  G01B11/24 ,  G01J4/04

Abstract: 본 발명은 이동물체 계측에 대응할 수 있는 고속의 표면 형상 계측을 실현하는 편광 방위 검출형 2차원 수광 타이밍 검출 장치 및 그것을 이용한 표면 형상 계측 장치에 관한 것이다.
도 8에 있어서 슬릿 광의 주사와 동기하여 검출광의 편광 방위를 회전시켜 그 편광 방위를 직교 니콜 배치의 2조의 검광자(5)(6)와 축적형 화상 검출기(7)(8)에 2차원적으로 기록하는 것으로, 슬릿 광이 축적형 화상 검출기(7)(8)의 각 화소에 입사하는 타이밍을 겨우 1회의 촬상에 의해 결정할 수 있도록 했다.
[대표도]도8

公开(公告)号：KR1020030055960A

公开(公告)日：2003-07-04

申请号：KR1020010086094

申请日：2001-12-27

Applicant: 안일신 ,  오혜근

Inventor： 안일신 ,  오혜근

IPC: G01J4/00

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01J3/447 ,  G01N21/211 ,  G01N2021/213

Abstract: PURPOSE: An ellipsometer for a fixed incidence surface is provided to reduce measuring time and remove experimental error in a calibration process by preventing a surface direction of a sample from moving and to measure information of reflectance in addition to two variables measured by a general ellipsometer by comparing reflection of a standard sample and a measuring sample. CONSTITUTION: An ellipsometer comprises a light source(100), a polarized light generator(102), a support frame(104) of a sample, a polarized light analyzer(106) and a detector(108). The polarized light generator is rotated by a motor driving apparatus(110). Light from the light source has a specific polarized condition by passing through the polarized light generator. The polarized condition of light is changed again by being reflected on the sample. The polarized light analyzer passes polarized light in a specific direction. Luminosity of light is changed into an electric signal by the detector. The electric signal is evaluated by an A/D converter(112) and a wave form is analyzed by a computer. Consequently, a calibration process is removed and experimental error is removed.

Abstract translation: 目的：提供固定入射表面的椭偏仪，以减少测量时间，并通过防止样品的表面方向移动来消除校准过程中的实验误差，并测量除通过一般椭偏仪测量的两个变量之外的反射率信息 比较标准样品和测量样品的反射。 构成：椭偏仪包括光源（100），偏振光发生器（102），样品的支撑框架（104），偏振光分析仪（106）和检测器（108）。 偏振光发生器由电机驱动装置（110）旋转。 来自光源的光通过偏振光发生器具有特定的偏振状态。 通过在样品上反射来再次改变光的偏振条件。 偏振光分析仪通过特定方向的偏振光。 光的亮度由检测器变成电信号。 电信号由A / D转换器（112）评估，波形由计算机分析。 因此，去除了校准过程并消除了实验误差。

公开(公告)号：KR100133497B1

公开(公告)日：1998-04-23

申请号：KR1019930014085

申请日：1993-07-24

Applicant: 샤프 가부시키가이샤

Inventor： 미야께다까히로 ,  요시다요시오 ,  나까다야스오 ,  구라따유끼오

IPC: G02B27/28

CPC classification number: G01J4/04 ,  G02B5/1809 ,  G02B5/1814 ,  G02B27/283

Abstract: 본 발명의 편광 검출기는, 서로 평행하게 배치된 2개의 대향하는 면을 갖는 기판, 회절소자, 상기 기판의 한 면에 형성된 제1회절 격자 및 상기 기판의 다른 면에 형성된 제2회절 격자를 포함하고, 광이 상기 제1회절 격자 상에 입사되며, 상기 제1 및 제2회절 격자를 각각의 격자 간격이 상기 입사광의 파장과 거의 같은 편광 회절 소자, 상기 제1회절 격자의 광 입사측 상에 형성된, 상기 편광회절 소자에 대해 상기 입사광의 입사 영역을 제한하기 위한 제한 부재, 상기 제1 및 제2회절 격자들을 투과하는 광과 상기 제1 및 제2회절 격자들에 의해 회절된 광을 서로 다른 빔 스폿으로 각각 집광시키기 위한 집광 렌즈 및 상기 집광 렌즈에 의해 집광된 2개의 빔 스폿들 각각의 광 세기를 검출하기 위한 한쌍의 광 검출기 등을 포함한다.

公开(公告)号：KR101907134B1

公开(公告)日：2018-10-11

申请号：KR1020167026238

申请日：2010-09-21

Applicant: 보로텍 리미티드

Inventor： 보로비트치크슬로모

IPC: G01J4/00 ,  G01J4/04

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01C17/34 ,  G01C21/02 ,  G01J2004/005

Abstract: 천체의위치판정에사용하기위한방법으로서, 제1 편광방향을갖는필터셀 및상기제1 편광방향과상이한제2 편광방향을갖는필터셀을포함하는적어도두 개의편광필터셀 어레이를통과하도록주변광을지향하는단계; 적어도두 개의광 센서엘리먼트를포함하는광 센서유닛에의하여상기제1 및제2 편광방향의상기적어도두 개의필터셀을통과하는광 성분을탐지하고, 상기탐지된광 성분의강도에있어서의차이를탐지하여상기주변광의편광패턴을나타내는탐지데이터를산출하는단계; 및상기편광패턴을나타내는데이터를프로세싱하고, 상기천체의방위각및 고도중 적어도하나를확인하는단계를포함하는천체의위치판정에사용하기위한방법이개시된다.

公开(公告)号：KR101832044B1

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：KR1020157033481

申请日：2014-04-14

Applicant: 오브쉐스트보 에스 오그라니첸노이 오트베트스트벤노스티유 “라보라토리야 엘란디스” ,  거트너, 드미트리 알렉산드로비치

Inventor： 거트너,드미트리알렉산드로비치

IPC: G06F3/042 ,  G02B13/04 ,  G06F3/0354

CPC classification number: G01J4/04 ,  G02B3/02 ,  G02B5/10 ,  G02B5/3025 ,  G06F3/0304 ,  G06F3/0325 ,  G06F3/03545 ,  G06F3/042 ,  H04N5/2254 ,  H04N5/247 ,  H04N5/33

Abstract: 본발명은편광마커, 수신장치, 및마이크로프로세서형태의비-저촉제어를위한방법및 복합체에관한것이다. 편광마커에서, 빔은맞춤형실린더편광자를사용하여편광되고, 렌즈시스템및 반사기를통과하고공간안으로방출되는데, 편광벡터의방향은편광마커의축에대해축 대칭이다. 작업평면에배치된수신장치는수신기에대해편광마커의공간에서방향및 위치를식별하고, 그결과는마이크로프로세서에의해제어명령으로해석된다. 수신장치는미리결정된거이로이격된편광계로구성된다. 편광계는편광마커로부터의입사빔의편광벡터의방향을식별한다. 각각의편광계로부터획득한데이터에기반하여, 마이크로프로세서는편광마커의방향및 각도를계산한다. 이복합체는다음과제를수행할수 있도록한다:- 편광마커를가리킴으로써모니터스크린상에서커저를제어하는데, 수신기는모니터본체에설치되고컴퓨터에연결되고, - 수신기가연결되는홈 시어터시스템(home theater system) 또는 TV 세트에서이해하기쉽고사용자-친화적인콘텐츠관리를위한원격제어의일부로서그것을사용하고,- 로봇공학에서, 로봇에대해수신기를무선연결하여, 벽/천장에수신기를설치하고, 로봇본체상에편광마커를설치함으로써실내의로봇의정확한조종을위해그것을사용하고,- 조작기및 장치의원격제어를위해, 컴퓨터게임, 시뮬레이터, 그래픽애플리케이션에사용하기위해컴퓨터에연결된수신기에대해공간에서편광마커위치를인식함으로써 3D 위치결정한다.일반적으로, 편광마커는적외선반도체광 다이오드를사용하여제작될수 있고, 실린더편광자는필요한패턴의괘선이포토리소그래피방법에의해인가되는불소수지기판을사용하여제작될수 있다. 편광계는비-냉각격자볼로미터를사용하여제작될수 있다.

公开(公告)号：KR1020160096550A

公开(公告)日：2016-08-16

申请号：KR1020160012733

申请日：2016-02-02

Applicant: 이와사키 덴끼 가부시키가이샤

Inventor： 이시토비히로카즈 ,  덩슈에공 ,  톰블러레이토마스주니어

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13 ,  G02B5/30 ,  G01J4/00 ,  G02B27/28

CPC classification number: G01J4/04

Abstract: 대상물에조사하는편광광의편광축각도를고정밀도로측정가능한광조사장치를제공한다. 편광된광을조사하는광조사장치에있어서, 광원(7)과, 이광원(7)의광을편광하고, 광의 1개이상의파장에있어서 100:1 이상의소광비를갖는장치측편광자와, 장치측편광자에의해편광된광의편광축을측정하는측정기(20)를구비한다.

Abstract translation: 提供一种能够精确地测定照射到物体上的偏振光的偏振角的光照射装置。 照射偏振光的光照射装置包括：光源（7）; 相对于光的一个或多个波长使偏振器偏振光源的光并具有等于或高于100:1的消光比; 以及测量器（20），其在装置上测量由偏振器偏振的光的偏振轴。