반도체장치 제조용 스퍼터
    121.
    发明公开
    반도체장치 제조용 스퍼터 无效
    用于半导体器件制造的溅射

    公开(公告)号:KR1019990039104A

    公开(公告)日:1999-06-05

    申请号:KR1019970059066

    申请日:1997-11-10

    Abstract: 반도체 장치 제조용 스퍼터(sputter)를 개시한다. 본 발명은, 챔버(chamber)와, 챔버 내에 도입되는 타겟부(target part)와, 타겟부에 대향되게 설치되며 회전하는 척부(chuck part) 및 척부를 회전시키는 모터(motor) 등과 같은 구동 수단을 포함한다. 이때, 척부로는 가열 수단을 가지는 히터 테이블(heater table)을 이용한다.

    플랫플레이트를이용한광분리장치와광분리방법및광분리장치의제조방법
    122.
    发明公开
    플랫플레이트를이용한광분리장치와광분리방법및광분리장치의제조방법 失效
    光学分离装置和使用平板的光学分离方法

    公开(公告)号:KR1019990008976A

    公开(公告)日:1999-02-05

    申请号:KR1019970031210

    申请日:1997-07-05

    Abstract: 본 발명에 의한 광분리장치는, 광원으로부터 제1 각도로 입사된 입사광에 대해 반사없이 투과시키기 위한 광대역 비반사 코팅막; 상기 광대역 비반사 코팅막으로부터 투과된 광에 대해 제1 파장의 빛만을 상기 제1 각도로 투과시키고 다른 파장의 빛에 대해서는 제2 각도로 반사시키는 제1 다이크로익 미러; 상기 제1 다이크로익 미러로부터 반사된 빛을 상기 제2 각도로 반사시키는 광대역 고반사 코팅막; 상기 광대역 고반사 코팅막으로부터 반사된 빛에 대해 상기 제1 파장과 다른 제2 파장의 빛만을 상기 제1 각도로 투과시키고 다른 파장의 빛에 대해서는 상기 제2 각도로 반사시키는 제2 다이크로익 미러; 상기 제2 다이크로익 미러로부터 반사된 빛에 대해 상기 제2 각도로 반사 시키는 광대역 고반사 코팅막; 상기 광대역 고반사 코팅막으로부터 반사된 빛에 대해 상기 제1 및 제2 파장과 다른 제3 파장을 갖는 빛을 반사없이 상기 제1 각도로 투과시키는 비반사 코팅막; 및 상기 광대역 비반사 코팅막으로부터 투과된 빛과 상기 제1 및 제2 다이크로익 미러와 상기 광대역 고반사 코팅막에 의해 반사된 빛이 진행하는 매질을 구비한 것을 특징으로 한다. 그리고 본 발명에 의한 광분리 방법은, 제1 각도로 입사된 입사광을 반사없이 매질내로 투과시키는 단계; 투과된 상기 입사광에 대해 제1 파장의 빛만을 상기 제1 각도로 상기 매질밖으로 투과시키고 다른 파장의 빛에 대해서는 상기 매질내로 제2 각도로 1차 반사시키는 단계; 상기 1차 반사된 빛을 상기 매질내로 상기 제2 각도로 2차 반사시키는 단계; 상기 2차 반사된 빛에 대해 상기 제1 파장과 다른 제2 파장의 빛만을 상기 제1 각도로 상기 매질밖으로 투과시키고 다른 파장의 빛에 대해서는 상기 제2 각도로 3차 반사시키는 단계; 상기 3차 반사된 빛을 상기 매질내로 상기 제2 각도로 4차 반사시키는 단계; 상기 4차 반사된 빛에 대해 상기 제1 및 제2 파장과 다른 제3 파장을 갖는 빛을 반사없이 상기 제1 각도로 상기 매질밖으로 투과하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.
    그리고 본 발명에 의한 광분리장치의 제조 방법은, 두께 t , 굴절율 n 을 가지고 양 면의 편평도가 우수한 평판 기판상의 한 면 일부 영역에 광원으로부터 제1 각도로 입사된 입사광에 대해 반사없이 상기 기판내로 투과시키기 위한 광대역 비반사 코팅막을 형성하는 단계; 상기 광대역 비반사 코팅막이 형성된 면의 반대면 기판상 일부 영역에 상기 광대역 비반사 코팅막으로부터 투과된 광에 대해 제1 파장의 빛만을상기 제1 각도로 투과시키고 다른 파장의 빛에 대해서는 제2 각도로 반사시키기 위해 제1 다이크로익 미러(Dichroic Mirror)를 형성하는 단계; 상기 광대역 비반사 코팅막이 형성된 면의 기판상의 나머지 영역에 상기 제1 다이크로익 미러로부터 반사된 빛을 상기 제2 각도로 반사시키기 위한 광대역 고반사 코팅막을 형성하는 단계; 상기 광대역 고반사 코팅막으로부터 반사된 빛에 대해 상기 제1 파장과 다른 제2 파장의 빛만을 상기 제1 각도로 투과시키고 다른 파장의 빛에 대해서는 상기 제2 각도로 반사시키기 위해 상기 제1 다이크로익 미러가 형성된 면의 기판상에 상기 제1 다이크로익 미러와 인접하도록 제2 다이크로익 미러를 형성하는 단계; 및 상기 광대역 고반사 코팅막으로부터 반사된 빛에 대해 상기 제1 및 제2파장과 다른 제3 파장을 갖는 빛을 반사없이 상기 제1 각도로 투과시키기 위해 상기 제1 다이크로익 미러 및 제2 다이크로익 미러가 형성된면의 기판상에 상기 제2 다이크로익 미러와 인접하도록 비반사 코팅막을 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.

    무선 통신 시스템에서 빔 폭 조절 장치 및 방법

    公开(公告)号:KR102233939B1

    公开(公告)日:2021-03-31

    申请号:KR1020140113966

    申请日:2014-08-29

    Abstract: 본개시는무선통신시스템에서단말의수신빔 폭을조절하는방법에있어서, 기지국으로부터단말의배터리임계치에대한정보를수신하는과정과, 상기단말의배터리레벨이상기배터리임계치보다낮거나같은경우현재사용되는수신빔폭보다넓은수신빔폭을사용할것으로결정하는과정과, 상기넓은수신빔폭을사용할것으로결정된경우추가자원의요청정보를상기기지국으로송신하는과정과, 상기요청정보에대응하는추가자원이상기기지국으로부터할당되면, 상기넓은수신빔폭의적어도하나의수신빔을형성하기위해복수의안테나엘레먼트들에대응하는복수의안테나수신회로들중 적어도하나의안테나수신회로의전원을차단하는과정을포함하는제어방법을제공한다.

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