公开(公告)号：TWI502286B

公开(公告)日：2015-10-01

申请号：TW102105036

申请日：2013-02-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 克魯斯 麥可 馬修 ,  CROUSE, MICHAEL MATTHEW ,  凡 多姆倫 尤瑞 喬漢那 勞瑞提斯 瑪利亞 ,  VAN DOMMELEN, YOURI JOHANNES LAURENTIUS MARIA ,  劉朋 ,  LIU, PENG ,  劉 華 玉 ,  LIU, HUA-YU ,  蔣愛琴 ,  JIANG, AIQIN ,  黃文謹 ,  HUANG, WENJIN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70891

公开(公告)号：TW201535069A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：TW104105709

申请日：2015-02-17

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  卡爾蔡司SMT有限公司 ,  CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： 凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 ,  VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS ,  米古拉 莎薩 ,  MIGURA, SASCHA ,  尼爾 博哈德 ,  KNEER, BERNHARD

IPC: G03F7/20

Abstract: 一種微影裝置，其包含：一支撐結構，其經建構以支撐包含一經圖案化區域之一光罩，該經圖案化區域能夠在一極紫外線(EUV)輻射光束之橫截面中向該EUV輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束，其中該支撐結構在一掃描方向上可移動；一基板台，其經建構以固持一基板，其中該基板台在該掃描方向上可移動；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一曝光區上，其中該投影系統在該掃描方向上具有大於在垂直於該掃描方向之一第二方向上之一縮小率的一縮小率，且其中在該第二方向上之該縮小率大於4倍。

Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备，其包含：一支撑结构，其经建构以支撑包含一经图案化区域之一光罩，该经图案化区域能够在一极紫外线(EUV)辐射光束之横截面中向该EUV辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束，其中该支撑结构在一扫描方向上可移动；一基板台，其经建构以固持一基板，其中该基板台在该扫描方向上可移动；及一投影系统，其经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一曝光区上，其中该投影系统在该扫描方向上具有大于在垂直于该扫描方向之一第二方向上之一缩小率的一缩小率，且其中在该第二方向上之该缩小率大于4倍。

公开(公告)号：TW201535067A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：TW104104295

申请日：2015-02-09

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 莫沙維特 詩為德 伊曼 ,  MOSSAVAT, SEYED IMAN ,  凡 德 斯加 毛瑞斯 ,  VAN DER SCHAAR, MAURITS ,  克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 ,  CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70591 ,  G01B11/272 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683

Abstract: 一種判定使用一微影程序而產生之一結構內之邊緣置放誤差之方法，該方法包含如下步驟：(a)收納包含使用該微影程序而產生之一第一結構之一基板，該第一結構包含第一層及第二層，該等層中之每一者具有導電材料之第一區域及非導電材料之第二區域；(b)接收指示一第一目標相對位置之一目標信號，該第一目標相對位置指示在該微影程序期間在該第一結構中的該第一層之該等第一區域與該等第二區域之間的邊緣相對於該第二層之該等第一區域與該等第二區域之間的邊緣之一目標位置；(c)在運用光學輻射來照明該第一結構的同時偵測散射輻射以獲得一第一信號；及(d)基於該第一信號及該第一目標相對位置來確定一邊緣置放誤差參數。

Abstract in simplified Chinese: 一种判定使用一微影进程而产生之一结构内之边缘置放误差之方法，该方法包含如下步骤：(a)收纳包含使用该微影进程而产生之一第一结构之一基板，该第一结构包含第一层及第二层，该等层中之每一者具有导电材料之第一区域及非导电材料之第二区域；(b)接收指示一第一目标相对位置之一目标信号，该第一目标相对位置指示在该微影进程期间在该第一结构中的该第一层之该等第一区域与该等第二区域之间的边缘相对于该第二层之该等第一区域与该等第二区域之间的边缘之一目标位置；(c)在运用光学辐射来照明该第一结构的同时侦测散射辐射以获得一第一信号；及(d)基于该第一信号及该第一目标相对位置来确定一边缘置放误差参数。

公开(公告)号：TWI498679B

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：TW100126928

申请日：2011-07-28

Applicant: 卡爾蔡司SMT有限公司 ,  CARL ZEISS SMT GMBH ,  ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 拜爾 諾曼 ,  BAER, NORMAN ,  羅凌 伍吉希 ,  LOERING, ULRICH ,  納特 奧利弗 ,  NATT, OLIVER ,  威提希 蓋洛 ,  WITTICH, GERO ,  勞弗 提莫 ,  LAUFER, TIMO ,  庫茲 彼德 ,  KUERZ, PETER ,  林巴赫 奎多 ,  LIMBACH, GUIDO ,  漢巴赫 史帝芬 ,  HEMBACHER, STEFAN ,  瓦特 霍格 ,  WALTER, HOLGER ,  關彥彬 ,  KWAN, YIM-BUN-PATRICK ,  荷夫 馬克斯 ,  HAUF, MARKUS ,  斯帝寇 法蘭茲 荷塞夫 ,  STICKEL, FRANZ-JOSEF ,  凡 沙特 珍 ,  VAN SCHOOT, JAN

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/18

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064

公开(公告)号：TWI497108B

公开(公告)日：2015-08-21

申请号：TW100140310

申请日：2011-11-04

Applicant: 艾司摩爾荷蘭股份有限公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 山德史東 理查L ,  SANDSTROM, RICHARD L.

IPC: G02B17/00

CPC classification number: G02B17/004 ,  G02B7/1815 ,  G02B7/1825 ,  H01S3/076 ,  H01S3/2325

公开(公告)号：TW201532124A

公开(公告)日：2015-08-16

申请号：TW104102587

申请日：2015-01-26

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 亨奇 史蒂芬 ,  HUNSCHE, STEFAN ,  維倫奇 維努 ,  VELLANKI, VENU

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G06F17/5009 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  H01L22/20

Abstract: 本文揭示一種用於一器件製造製程之電腦實施缺陷預測方法，該器件製造製程涉及將一圖案處理至一基板上，該方法包含：自該圖案識別一處理窗限制圖案(PWLP)；判定該PWLP被處理所依據之一處理參數；及使用該處理參數來判定或預測運用該器件製造製程自該PWLP產生的一缺陷之存在、存在機率、一特性或其一組合。

Abstract in simplified Chinese: 本文揭示一种用于一器件制造制程之电脑实施缺陷预测方法，该器件制造制程涉及将一图案处理至一基板上，该方法包含：自该图案识别一处理窗限制图案(PWLP)；判定该PWLP被处理所依据之一处理参数；及使用该处理参数来判定或预测运用该器件制造制程自该PWLP产生的一缺陷之存在、存在概率、一特性或其一组合。

公开(公告)号：TW201531809A

公开(公告)日：2015-08-16

申请号：TW103143133

申请日：2014-12-10

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 努伊傑塔 吉特 ,  NOOITGEDAGT, TJITTE ,  基亞 馬克 朱立安 ,  KEA, MARC JURIAN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70625 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70683

Abstract: 本發明揭示一種使用藉由一微影程序而形成之計量目標來量測一基板上之上部層與下部層之間的疊對之方法。該微影程序屬於一多重圖案化類型，藉以在該等層中之一單一層(L1)中藉由各別第一圖案化步驟及第二圖案化步驟而形成第一結構群體及第二相異結構群體。該等層中之該單一層中之該計量目標(620)包含不同子集(642A、642B)係在該第一圖案化步驟及該第二圖案化步驟中被形成之一結構集合。對此目標之一疊對量測可用以計算用於該第一圖案化步驟及該第二圖案化步驟兩者之一組合式(平均)疊對效能參數。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种使用借由一微影进程而形成之计量目标来量测一基板上之上部层与下部层之间的叠对之方法。该微影进程属于一多重图案化类型，借以在该等层中之一单一层(L1)中借由各别第一图案化步骤及第二图案化步骤而形成第一结构群体及第二相异结构群体。该等层中之该单一层中之该计量目标(620)包含不同子集(642A、642B)系在该第一图案化步骤及该第二图案化步骤中被形成之一结构集合。对此目标之一叠对量测可用以计算用于该第一图案化步骤及该第二图案化步骤两者之一组合式(平均)叠对性能参数。

公开(公告)号：TWI494209B

公开(公告)日：2015-08-01

申请号：TW102102726

申请日：2009-10-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  皇家飛利浦電子股份有限公司 ,  KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.

Inventor： 凡 德 坦斐爾 林德特 ,  VAN DER TEMPEL, LEENDERT ,  迪卡蔓 喬漢 夫德克 ,  DIJKSMAN, JOHN FREDERIK ,  威斯特 珊德 弗瑞德瑞克 ,  WUISTER, SANDER FREDERIK ,  可路特 史坦曼 伊娃 溫迪拉 ,  KRUIJT-STEGEMAN, YVONNE WENDELA ,  藍姆司 賈諾 哈曼 ,  LAMMERS, JEROEN HERMAN ,  穆薩爾斯 卡里尼斯 亞瑞安斯 亨利庫斯 安東尼斯 ,  MUTSAERS, CORNELIS ADRIANUS HENRICUS ANTONIUS

IPC: B29C59/02 ,  H01L21/027 ,  B29C33/38

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

公开(公告)号：TW201530333A

公开(公告)日：2015-08-01

申请号：TW103142645

申请日：2014-12-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 米德克魯克斯 史考特 安德森 ,  MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON ,  蔻妮 威樂 馬力 朱立亞 麻索 ,  COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL ,  爵森 法蘭克 阿諾迪斯 佑翰納斯 馬麗亞 ,  DRIESSEN, FRANK ARNOLDUS JOHANNES MARIA ,  庫博曼 安卓尼斯 康納力司 馬修士 ,  KOOPMAN, ADRIANUS CORNELIS MATHEUS ,  凡 可拉吉 馬可斯 傑拉度 馬堤司 瑪麗亞 ,  VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA

IPC: G06F17/50 ,  G03F1/68 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F7/70525 ,  G03F7/705 ,  G06F17/5036 ,  G06N7/005 ,  G06N99/005

Abstract: 一種用於涉及藉由一微影裝置處理之生產基板之一器件製造程序的電腦實施缺陷預測方法，該方法包括：使用一訓練集來訓練一分類模型，該訓練集包括與藉由該器件製造程序處理之該等生產基板相關聯的一程序參數之測定或經判定值，及關於與在該程序參數之該等值下在該器件製造程序中處理之該等生產基板相關聯的缺陷之存在之一指示；及自該分類模型產生指示關於一基板之一缺陷之一預測的一輸出。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于涉及借由一微影设备处理之生产基板之一器件制造进程的电脑实施缺陷预测方法，该方法包括：使用一训练集来训练一分类模型，该训练集包括与借由该器件制造进程处理之该等生产基板相关联的一进程参数之测定或经判定值，及关于与在该进程参数之该等值下在该器件制造进程中处理之该等生产基板相关联的缺陷之存在之一指示；及自该分类模型产生指示关于一基板之一缺陷之一预测的一输出。

公开(公告)号：TW201530265A

公开(公告)日：2015-08-01

申请号：TW104102748

申请日：2015-01-27

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 安真南 威赫目斯 漢瑞克斯 賽多魯司 馬力雅 ,  AANGENENT, WILHELMUS HENRICUS THEODORUS M ,  科爾尼夫 盧卡斯 法蘭西斯可斯 ,  KOORNEEF, LUCAS FRANCISCUS ,  魯爾 賽歐 安捷 瑪里亞 ,  RUIJL, THEO ANJES MARIA ,  維 丹 伯奇 史丹利 康斯坦 喬漢斯 馬汀納斯 ,  VAN DEN BERG, STANLEY CONSTANT JOHANNES MART ,  凡 丹 慕蘭 史丹 亨利可斯 ,  VAN DER MEULEN, STAN HENRICUS ,  凡 伊克 珍 ,  VAN EIJK, JAN ,  沃羅斯 彼得 修伯特斯 勾德費外達 ,  WULLMS, PIETER HUBERTUS GODEFRIDA ,  凡 黎紗 李查 亨利克斯 雅卓安尼斯 ,  VAN LIESHOUT, RICHARD HENRICUS ADRIANUS

IPC: G03F7/20

Abstract: 一種載台定位系統，其包含：一第一本體；一第二本體；及一耦接件，其經配置以將該第一本體與該第二本體彼此耦接。該耦接件包含經配置以將該第一本體與該第二本體彼此耦接之一黏彈性元件。該載台定位系統可進一步包含一感測器及一致動器。該感測器用以提供表示該第一本體之一位置之一信號。該致動器用以移動該第一本體。該第二本體經配置以將該致動器與該耦接件彼此耦接。

Abstract in simplified Chinese: 一种载台定位系统，其包含：一第一本体；一第二本体；及一耦接件，其经配置以将该第一本体与该第二本体彼此耦接。该耦接件包含经配置以将该第一本体与该第二本体彼此耦接之一黏弹性组件。该载台定位系统可进一步包含一传感器及一致动器。该传感器用以提供表示该第一本体之一位置之一信号。该致动器用以移动该第一本体。该第二本体经配置以将该致动器与该耦接件彼此耦接。