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公开(公告)号：CN101477304B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200810195525.X
申请日：2008-11-04
Applicant: 南京大学
CPC classification number: B29C33/405 , B05D1/005 , B29C33/40 , B29C59/022 , B29K2083/00 , B29K2883/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/76 , G03F7/0002 , G03F7/20 , Y10T156/1023
Abstract: 在复杂形状表面复制高分辨率纳米结构的压印方法，纳米结构模板通过压力压入加热熔融的高分子薄膜或紫外光固化材料，固化材料定型后移去模板，然后将纳米结构转移至基片上；压印模板采用柔性纳米压印模板，柔性纳米压印模板采用双层复合结构，该双层复合模板上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在1～15N/mm2，厚度可调，在0.1毫米至2毫米之间；下层为刚性的光固化高分子纳米压印图案层，杨氏模量在20N/mm2以上，厚度可调，在50纳米至500纳米之间。
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公开(公告)号：CN102030483A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010523969.9
申请日：2010-10-29
Applicant: 浙江大学
CPC classification number: B05D5/061 , B01J13/14 , B01J13/203 , B05D1/005 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , G02B1/111 , G02B1/118 , G02B5/0247
Abstract: 本发明公开了一种由纳米聚合物中空粒子组成的多孔防反射薄膜的制备方法。它的步骤如下：1)将纳米聚合物胶囊配制成质量百分比浓度为3～7％的水分散液，通过匀胶机在基材表面进行单面或双面旋涂，形成含纳米聚合物胶囊的薄膜；2)将上述含纳米聚合物胶囊的薄膜经真空高温干燥，待薄膜中纳米聚合物胶囊的核心材料完全挥发后，纳米聚合物胶囊变成了纳米聚合物中空粒子，得到由纳米聚合物中空粒子组成的多孔防反射薄膜。本发明的制备工艺简单，通过改变纳米聚合物胶囊水分散液的浓度和纳米聚合物中空粒子的空腔体积分率可方便有效的调节多孔防反射薄膜的厚度和折光指数，且所制备的多孔防反射薄膜具有较高的机械强度和耐摩擦性能。
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公开(公告)号：CN100595887C
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200680046966.2
申请日：2006-12-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/08 , B05C15/00
CPC classification number: B05D1/005 , B05C11/06 , B05C11/08 , B05D3/0406 , B05D3/0486 , B05D2203/30 , B05D2203/35 , G03F7/162 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/6715
Abstract: 本发明是一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体(atmospheric gas)的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，该层流形成气体的运动粘度系数大于该常压气体；其中该常压气体或层流形成气体被供应至衬底的中心部分。
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公开(公告)号：CN1739152A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200380108763.8
申请日：2003-11-04
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： P·H·G·M·韦沃曼斯 , K·穆斯科瓦 , F·S·J·P·范德科霍夫 , E·J·普林斯 , J·C·H·贾科布斯
CPC classification number: G11B7/266 , B05D1/005 , B05D3/0209 , B05D3/0254 , B05D3/0263 , B05D3/067 , G03F7/162
Abstract: 描述了一种制造光学数据存储介质的方法，所述介质包括至少一个基底(11)和沉积在基底(11)上的多个层。所述介质包括透明间隔层和透明覆盖层(12)中的至少一个。所述层(12)是通过下述操作提供的：将液体施加到旋转基底(11)上并进一步旋转基底以便将液体在内径ri和外径ro之间基本均匀地延展成一个层，并借助曝光于UV射线来凝固所述液体层(12)。在将液体施加到旋转基底上之后，通过加热装置以这样一种方式加热液体层(12)：在ri处的液体层(12)的温升具有值δTri，而液体层(12)在ri和ro之间的温升逐渐升高，且液体层(12)在ro处的温升具有值δTro＞δTri。这样，当在信息存储区上进行测量时，间隔层或覆盖层具有小于+/－1μm的厚度变化。另外还描述了使用所述方法制造的介质和用于执行所述方法的设备。
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公开(公告)号：CN1184627C
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：CN00129639.6
申请日：2000-10-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宇佐美由久
CPC classification number: G11B7/24 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D3/0406 , G11B7/26
Abstract: 一种信息记录媒体的制造方法，其在主板(202)上，具有可记录信息的记录层(204)，在使形成有色素记录层(204)的主板(202)高速旋转的同时，使空气流过，进行干燥的场合，在使上述主板(202)高速旋转的装置顶部的开口部(422)上，设置在中心部具有圆形的开口部(512)的盖(504)，用于使清洁的空气进入的进气口变窄。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1503928A
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN02808302.4
申请日：2002-02-21
Applicant: 硅谷集团公司
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C5/0208 , B05C5/0245 , B05C5/0254 , B05D1/005 , B05D1/265 , B05D3/0486 , G03F7/162
Abstract: 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和粒子杂质通过出口从箱体排出，并通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。
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公开(公告)号：CN1401436A
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：CN02130476.9
申请日：2002-08-21
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供了制造盘的装置和制造盘的透明层的方法。该制造盘的装置包括将树脂涂覆在安装在主轴工作台上的盘基片上的旋转涂覆部分；和用于在盘基片安装在主轴工作台上的状态下，使涂在盘基片上的树脂硬化的树脂硬化部分。因此，可以很容易地使用中心散布方法，并且可以得到更加均匀的透明层。
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公开(公告)号：CN1292548A
公开(公告)日：2001-04-25
申请号：CN00129639.6
申请日：2000-10-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宇佐美由久
CPC classification number: G11B7/24 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D3/0406 , G11B7/26
Abstract: 一种信息记录媒体的制造方法,其在主板(202)上,具有可记录信息的记录层(204),在使形成有色素记录层(204)的主板(202)高速旋转的同时,使空气流进,进行干燥的场合,在使上述主板(202)高速旋转的装置顶部的开口部(422)上,设置在中心部具有圆形的开口部(512)的盖(504),用于使清洁的空气进入的进气口变窄。
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公开(公告)号：CN1248058A
公开(公告)日：2000-03-22
申请号：CN99119540.X
申请日：1999-09-02
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 与那霸真哉
Abstract: 在具有8英寸或更大直径晶片上通过旋转涂布工艺涂布厚度为5500埃或更薄的抗蚀剂膜。在晶片以500至1200转/每分钟的速度旋转时,向晶片滴下预定量的抗蚀剂,当抗蚀剂在晶片的整个表面扩散时,停止下滴抗蚀剂。晶片的旋转速度提高到晶片的预定的旋转速度,该预定的旋转速度是由控制抗蚀剂膜厚度的晶片预定旋转速度的关联而确定的,并使晶片以该速度旋转1至5秒钟。然后使晶片以低于预定转速的速度旋转15秒钟或更长时间。
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公开(公告)号：CN109148285A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201710455942.2
申请日：2017-06-16
Applicant: 联华电子股份有限公司 , 福建省晋华集成电路有限公司
IPC: H01L21/312
CPC classification number: B05D1/005 , B05C11/08 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , H01L21/76224 , H01L21/76229
Abstract: 本发明公开一种改良的旋转涂布制作工艺，包含有下述步骤。首先，提供一基底。接着，喷洒一流体材料于基底的一表面上，并同时加热流体材料至高于25℃，以形成一旋转涂布介电层于基底上。
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