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公开(公告)号：JP4147295B2
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：JP50079897
申请日：1996-05-28
Applicant: ヴァリアン オーストラリア プロプライアトリー リミテッド
Inventor： ラウル カーベロ , デイビッド ビー ジョンソン
CPC classification number: G01J3/453 , G01J2003/2866
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公开(公告)号：JP2007537425A
公开(公告)日：2007-12-20
申请号：JP2007511868
申请日：2005-05-17
Applicant: シェモメテック・アクティーゼルスカブChemometec A/S
Inventor： ハンス・ラルセン , ベルクル・アルンヴィダルソン
CPC classification number: G01J3/45 , G01J3/0202 , G01J3/453 , G01N21/35 , G01N21/3563 , G01N21/3577 , G01N21/359 , G01N2021/3595 , G01N2201/0691 , G01N2201/129
Abstract: 本発明は干渉情報を試料の化学的および／または物理学的特性に相関させる代替ストラテジーを提供する。 このストラテジーは方法およびシステムで実行することができ、それは干渉分光学に基づく当該分野の技術の状態を超える実質的な技術的および商業的な利点を提供する。 本発明は、さらに、干渉計を標準化する方法、ならびに標準化した干渉計を用いた方法およびシステムを提供する。
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公开(公告)号：JP2006517662A
公开(公告)日：2006-07-27
申请号：JP2006502060
申请日：2004-02-11
Applicant: テメト・インストルメンツ・オーワイ
Inventor： サロマー、イルッカ , ジャークコラ、ペトリ , ツルネン、オスモ
Abstract: 本発明は、分光計のための赤外変調器に関する。 この赤外変調器は、光源（１）と、この光源からの光を２つのビームに分割するビームスプリッタ（３）と、第１のビームの光を導くための第１の平面ミラー（４）と、第２のビームの光を導くための第２の平面ミラー（５）と、光を前記第１の平面ミラー（４）に返すための第１のキューブコーナーミラー（７）と、光を前記第２の平面ミラー（５）に返すための第２のキューブコーナーミラー（６）とを有する。 前記第１及び第２のキューブコーナーミラー（６、７）は、対向する方向に反射するために共通の光軸上に配置され、この光軸の方向に前後に可動である。 本発明によれば、前記ビームスプリッタ（３）と、第１及び第２の平面ミラー（４、５）とは、１つの一様な材料構成成分により形成された共通の支持構造体により支持されている。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2005521893A
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：JP2003585241
申请日：2003-04-04
Inventor： ディー． メイナード、ジョン , ディー． リッダー、トレント
CPC classification number: G01J3/453
Abstract: 干渉計（１２）に使用されるレーザ基準（３０）として利用される垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）パッケージに関する。 干渉計の観点からＶＣＳＥＬが不利となる主要な点として、ビームの波数安定性が比較的劣ることが判明している。 本発明は、干渉計の基準として使用するのに適したＶＣＳＥＬパッケージを実行可能とする方法及び装置である。 ＶＣＳＥＬパッケージは、電流制御手段、温度制御手段、及び波数ドリフトを補正するアルゴリズムを組み込んでいる。 アルゴリズムは、既知のスペクトルを有する基準試料の分光分析により構築され、生成スペクトルを既知のスペクトルと比較する。
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公开(公告)号：JP3378119B2
公开(公告)日：2003-02-17
申请号：JP10978495
申请日：1995-05-08
Applicant: パーキン−エルマー リミテッド
Inventor： ターナー アンドリュー , マニフォールド モウルド ヘンリー
CPC classification number: G01J3/4535 , G01J3/453
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公开(公告)号：JPS6138405A
公开(公告)日：1986-02-24
申请号：JP15708485
申请日：1985-07-18
Applicant: Philips Nv
Inventor： CHIYAARUZU BUINSENTO PAAKINSU
CPC classification number: G01J3/453 , G01J3/02 , G01J3/0202 , G01J3/0286 , G01J3/0291
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公开(公告)号：JPS6114544A
公开(公告)日：1986-01-22
申请号：JP13521385
申请日：1985-06-20
Applicant: Elf France
Inventor： JIERAARU FUORUTEYUNATO , ANDORE GARE , DOMINIKU ROORAN
CPC classification number: G01J3/453
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公开(公告)号：JP2018532105A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2018511413
申请日：2016-09-01
Applicant: マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー
Inventor： イェ エリカ , アタバキ アミール エイチ. , ハン ニンレン , ラム ラジーブ ジャッガ , ヘリントン ウィリアム エフ.
CPC classification number: G01J3/453 , G01J3/0259 , G01J3/4531 , G01J3/4532
Abstract: 非近軸タルボ型スペクトロメータは、入射光を受光するために透過型格子を含む。透過型格子の格子周期は、タルボ型スペクトロメータが近軸限界外で作動することを可能にするために対象の波長に匹敵する。透過型格子を透過した光は、周期的なタルボ画像を形成する。傾斜した検出器を利用することで、格子に対して直交する方向に沿った様々な距離においてタルボ画像を同時に標本化する。測定したタルボ画像のフーリエ変換を行うことによって、または測定したタルボ画像を、既知の波長を有する光源によって取得した強度パターンのライブラリと比較することによって入射光のスペクトル情報を計算することができる。 【選択図】図1B
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