公开(公告)号：CN102414810A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201080019518.X

申请日：2010-03-19

Applicant: 应用材料公司

Inventor： D·H·考齐 ,  石川哲也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  B65G49/07

CPC classification number: C23C16/54 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67751 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明实施例提供用于自动地把基板加载至基板载盘的方法及设备。本发明的一实施例提供一种自动基板加载器，该自动基板加载器含有晶片盒处理机构、用来对准基板的基板对准器、以及载盘对准器。该自动基板加载器更包含：第一机器人，用来在该基板对准器和该基板储存盒之间移送基板；以及第二机器人，用来在该基板对准器和设置在该载盘对准器上的载盘之间移送基板。

公开(公告)号：CN102414809A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201080018893.2

申请日：2010-08-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 阪上博充

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67739 ,  H01L21/67201

Abstract: 本发明提供一种负载锁定装置，其真空室与大气室之间通过闸阀连结并且能有选择地实现真空气氛和大气压气氛，包括：负载锁定容器；支承单元，其具有设置于负载锁定容器内并遍及多层地支承多片被処理体的支承部；气体导入单元，其具有按照将负载锁定容器内的气氛恢复到大气压的大气压恢复气体作为冷却气体来喷射的方式与支承部对应地设置的气体喷射孔；和对负载锁定容器内的气氛进行真空排气的真空排气系统。

公开(公告)号：CN102246287A

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN200980149339.5

申请日：2009-12-07

Applicant: 诺发系统有限公司

Inventor： 克里斯托弗·盖奇 ,  查尔斯·E·波默罗伊 ,  戴维·科恩 ,  纳加拉贾恩·卡利亚纳孙达拉姆

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/6875 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供用于从低压环境到高压环境冷却和传送晶片的设备和方法。一设备可包含一冷却底座和用于将所述晶片固持在所述冷却底座上方的一套支撑件。所述晶片与所述冷却底座之间的平均间隙可不大于约0.010英寸。可使用通气气体来在所述传送期间增加所述设备内的压力。在特定实施例中，通气气体包括氮气。

公开(公告)号：CN101246813B

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200810005676.4

申请日：2008-02-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 光吉一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B08B3/00 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67781

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。在处理区设置有多个背面清洗单元及主机械手。主机械手设置在配设在处理区一侧的侧面的背面清洗单元与配设在处理区另一侧的侧面的背面清洗单元之间。在分度器区与处理区之间，上下邻接的方式设置有使基板翻转的翻转单元、及在分度器机械手与主机械手交接基板的基板装载部。主机械手在多个背面清洗单元、基板装载部及翻转单元之间搬运基板。

公开(公告)号：CN102177571A

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：CN200980139857.9

申请日：2009-10-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 马修·F·戴维斯 ,  肯尼斯·J·巴格 ,  特雷斯·莫瑞 ,  詹姆斯·D·卡达希

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/02071 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68785 ,  Y10T428/24008 ,  Y10T428/24628

Abstract: 本发明提供种用于从基板移除挥发性残余物的设备。在实施例中，种用于从基板移除含卤素的残余物的设备包括适于操作以维持腔室内的真空的腔室及经定位以加热安置于该腔室中的基板的热模块。用于从基板移除含卤素的残余物的该设备亦包括以下至少者：A)温度控制底座，其具有从其径向延伸的适于将该温度控制底座支撑于该腔室主体的凸部上的突出物，该突出物将该基底与该腔室主体热隔离；B)对基板支架，其包括从弧形主体的内部边缘向内径向延伸的两个支撑凸缘，每支撑凸缘具有包括倾斜平台的基板支撑台阶；或C)圆顶形窗。

公开(公告)号：CN101071755B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200710000606.5

申请日：2007-01-09

Applicant: 应用材料股份有限公司

Inventor： 李在珠 ,  栗田真一 ,  约翰·M·怀特 ,  苏希尔·安瓦尔

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/205 ,  H01L21/68 ,  C03C17/00 ,  C23C16/458

CPC classification number: H01L21/67201 ,  Y10S414/139

Abstract: 本发明的实施方式包括一腔体，该腔体的顶部或底部至少其中之一与腔体侧壁分离。本发明适于用作真空交换腔、基板传递腔和真空处理腔等。

公开(公告)号：CN101567311B

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200910136914.X

申请日：2009-04-24

Applicant: 佳能安内华股份有限公司

Inventor： 吉冈胜也

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67748 ,  H01L21/67201 ,  Y10T137/0324

Abstract: 本发明提供一种真空处理设备、真空处理方法、电子装置及其制造方法，该真空处理设备包括：处理室，其构造成在真空中处理目标物体；第一装载锁定室，其构造成存储目标物体以便将该目标物体装载至处理室中；第二装载锁定室，其构造成存储目标物体以便从处理室卸载处理过的目标物体；以及至少两个带阀管道，其构造成将第一装载锁定室连接至第二装载锁定室。

公开(公告)号：CN101335187B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200810125036.7

申请日：2008-06-27

Applicant: 株式会社迅动

Inventor： 福富义光 ,  三桥毅 ,  小椋浩之 ,  森西健也 ,  川松康夫 ,  长岛广路

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B05B14/43 ,  B05B14/44 ,  B05C13/00 ,  B05C13/02 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/26 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67225 ,  H01L23/34 ,  H01L2924/0002 ,  Y10S414/135 ,  H01L2924/00

Abstract: 一种基板处理装置，其具有设置在上下方向上的多列基板处理列。各基板处理列具有排列在横向上的多个主搬运机构和对应于每个主搬运机构设置并用于处理基板的多个处理单元，各主搬运机构向对应的处理单元搬运基板的同时，与在横向相邻的其他的主搬运机构交接基板，而对基板进行一系列的处理。因为各基板处理列同时对基板进行处理，所以能够使基板处理装置的处理能力增强。

公开(公告)号：CN102047407A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN200980120185.7

申请日：2009-03-24

Applicant: OC欧瑞康巴尔斯公司

Inventor： J·韦查尔特

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00

CPC classification number: C23C16/458 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67751

Abstract: 提供了一种用于处理基底的加工设备，其包括用于装载基底的装载腔、用于加工基底的加工腔、使加工腔与装载腔隔开的密封面，以及用于使基底从装载腔垂直地移动至加工腔的器件，且还提供了用于处理基底的方法。装载腔定位在加工设备的下部和上部中的一个中，而加工腔定位在加工设备的下部和上部中的另一个中。本发明的加工设备和方法将通过减少用于装载基底的运动的数目而容易维护和降低成本。

公开(公告)号：CN101136349B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200710147721.5

申请日：2007-08-27

Applicant: ASM日本子公司

Inventor： T·山岸 ,  T·小林 ,  A·渡边 ,  K·金内

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68707 ,  Y10S294/902 ,  Y10S414/141

Abstract: 一种用于在反应室中装载和卸载衬底的衬底传送装置，包括：具有远端的臂，该远端可以沿直线方向横向地移动；以及在反应室里装载和卸载衬底的末端操作元件，所述末端操作元件包括底部末端操作元件和上部末端操作元件。底部末端操作元件和上部末端操作元件之一可移动在所述臂的远端与所述臂连接，而底部末端操作元件和上部末端操作元件中的另一个则固定到可移动地连接着的末端操作元件上。这个固定的末端操作元件固定到这个可移动地连接着的末端操作元件。